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高圧水素プラズマによる光マネジメント用半導体表面ナノ構造の創成

研究課題

研究課題/領域番号 20H02049
研究種目

基盤研究(B)

配分区分補助金
応募区分一般
審査区分 小区分18020:加工学および生産工学関連
研究機関大阪大学

研究代表者

大参 宏昌  大阪大学, 大学院工学研究科, 准教授 (00335382)

研究分担者 安武 潔  大阪大学, 工学研究科, 教授 (80166503)
研究期間 (年度) 2020-04-01 – 2023-03-31
研究課題ステータス 完了 (2022年度)
配分額 *注記
17,420千円 (直接経費: 13,400千円、間接経費: 4,020千円)
2022年度: 4,030千円 (直接経費: 3,100千円、間接経費: 930千円)
2021年度: 6,890千円 (直接経費: 5,300千円、間接経費: 1,590千円)
2020年度: 6,500千円 (直接経費: 5,000千円、間接経費: 1,500千円)
キーワード水素 / プラズマ / Si / 特殊加工 / 表面処理 / 反射率制御 / 水素プラズマ / 無反射 / 太陽電池 / シリコン / ナノ構造 / 光反射率 / 半導体 / 光無反射表面 / 光無反射 / 無反射表面
研究開始時の研究の概要

光反射防止、ならびに光閉じ込め等の光マネジメントを可能とする表面ナノ構造の創成技術は、太陽電池などの高機能光半導体デバイスの実現に向け不可欠の加工技術であるが、コスト・環境負荷・生産性などの点で問題を抱えている。この解決に向け、本研究では、廉価・無毒な水素のみからなる高圧・高密度プラズマを利用した光マネジメント用表面ナノ構造のケミカルフリーな創成技術の開発を行うとともに、薄型結晶シリコン太陽電池デバイスに適用することで性能向上を実証する。

研究成果の概要

本研究では、薄型結晶シリコン太陽電池の光反射ロス低減のため、Si表面に光反射低減用のナノ構造を廉価で無毒な水素を主体とするプラズマを用いて形成するプロセスの開発を目指した。中圧域の水素プラズマにより何故無反射表面が形成可能か?についての機構を解明する研究を進め、ナノコーン形成には正イオンの入射が重要であること、純粋な水素雰囲気ではナノコーン構造は形成されず、マイクロマスク材として作用する窒化酸化膜の形成が必要であることが分かった。さらに得られたナノコーンは、最大高さが6umに達し、その絶対光反射率は、波長350-1040 nmの広い範囲で1%を下回り、極めて広帯域での低反射率を実現した。

研究成果の学術的意義や社会的意義

近年、爆発的な太陽電池普及の主役は、結晶シリコン(Si)太陽電池がになっているが、バルク型結晶Siの形成には、精製や結晶化、さらにはウエハ化の過程で、多大なエネルギー消費と多くの材料ロスが不可欠となっている。本研究の成果は、光吸収係数が良好とは言えない間接遷移型Siについて、現状の太陽電池の変換効率を維持しつつ、Si使用量の低減に繋がる薄型化に貢献する。その加工過程において必要なガスは廉価・無毒な水素ガスのみであり、従来の地球温暖化ガスを用いた手法や毒性・高価な化学薬品を用いた手法に比べ、環境に優しい加工法を開発した。また、広波長域に対する黒体構造の創成は、黒体輻射制御研究の促進に貢献できる。

報告書

(4件)
  • 2022 実績報告書   研究成果報告書 ( PDF )
  • 2021 実績報告書
  • 2020 実績報告書
  • 研究成果

    (15件)

すべて 2023 2022 2021 2020

すべて 雑誌論文 (3件) (うち査読あり 3件) 学会発表 (12件) (うち国際学会 3件)

  • [雑誌論文] Shallow Defect Layer Formation as Cu Gettering Layer of Ultra-thin Si Chips Using Moderate-pressure (3.3 kPa) Hydrogen Plasma2023

    • 著者名/発表者名
      Toshimitsu Nomura, Hiroaki Kakiuchi, Hiromasa Ohmi
    • 雑誌名

      Journal of Applied Physics

      巻: 133 号: 16

    • DOI

      10.1063/5.0146215

    • 関連する報告書
      2022 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Si nanocone structure fabricated by a relatively high-pressure hydrogen plasma in the range of 3.3 - 27 kPa2022

    • 著者名/発表者名
      Toshimitsu Nomura, Kenta Kimoto, Hiroaki Kakiuchi, Kiyoshi Yasutake, and Hiromasa Ohmi
    • 雑誌名

      Journal of Vacuum Science & Technology B

      巻: 40 号: 3

    • DOI

      10.1116/6.0001676

    • 関連する報告書
      2021 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Study on silicon removal property and surface smoothing phenomenon by moderate-pressure microwave hydrogen plasma2021

    • 著者名/発表者名
      Hiromasa Ohmi, Kenta Kimoto, Toshimitsu Nomura, Hiroaki Kakiuchi, Kiyoshi Yasutake
    • 雑誌名

      Materials Science in Semiconductor Processing

      巻: 129 ページ: 105780-105780

    • DOI

      10.1016/j.mssp.2021.105780

    • 関連する報告書
      2020 実績報告書
    • 査読あり
  • [学会発表] マイクロ波水素プラズマによるシリコンナノコーン形成における窒素および水蒸気添加の影響2023

    • 著者名/発表者名
      多村 尚起, 野村 俊光, 垣内 弘章, 大参 宏昌
    • 学会等名
      2023年 第70回応用物理学会春季学術講演会
    • 関連する報告書
      2022 実績報告書
  • [学会発表] The impact of air feeding on silicon surface nanostructure formation bymoderate-pressure hydrogen plasma2022

    • 著者名/発表者名
      T. Nomura, N. Tamura, H. Kakiuchi, H. Ohmi
    • 学会等名
      ICPE2022
    • 関連する報告書
      2022 実績報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] Effects of minor addition of N2/O2 impurities on silicon nanostructureformation behavior in hydrogen plasma process2022

    • 著者名/発表者名
      Toshimitsu Nomura, Naoki Tamura, Ken Sakamoto, Hiroaki Kakiuchi, Hiromasa Ohmi
    • 学会等名
      GEC 2022/ICRP-11
    • 関連する報告書
      2022 実績報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] 中圧水素プラズマを用いたシリコンナノコーン形成プロセスに与える水素ガス中不純物の影響2022

    • 著者名/発表者名
      多村尚起,野村俊光,垣内弘章,大参宏昌
    • 学会等名
      2022年度 精密工学会春季大会学術講演会
    • 関連する報告書
      2021 実績報告書
  • [学会発表] 高密度中圧プラズマを用いた極薄シリコンウエハ用ゲッタリング層の形成とその特性評価2022

    • 著者名/発表者名
      野村俊光,垣内弘章,安武 潔,大参宏昌
    • 学会等名
      2022年度 精密工学会春季大会学術講演会
    • 関連する報告書
      2021 実績報告書
  • [学会発表] 高密度中圧水素プラズマを用いたシリコン表面ナノコーンの作製と反射特性評価2021

    • 著者名/発表者名
      多村尚起,野村俊光,垣内弘章,大参宏昌
    • 学会等名
      2021年度 精密工学会秋季大会学術講演会
    • 関連する報告書
      2021 実績報告書
  • [学会発表] 水素プラズマにより形成したナノコーン構造シリコン表面の光反射特性2021

    • 著者名/発表者名
      野村 俊光, 多村 尚起, 垣内 弘章, 大参 宏昌
    • 学会等名
      2021年 第82回応用物理学会秋季学術講演会
    • 関連する報告書
      2021 実績報告書
  • [学会発表] 高密度中圧水素プラズマを用いたシリコンナノコーン創成-結晶面方位とナノ構造の相関-2021

    • 著者名/発表者名
      多村尚起,野村俊光,垣内弘章,大参宏昌
    • 学会等名
      2021年度 精密工学会関西地方定期学術講演会
    • 関連する報告書
      2021 実績報告書
  • [学会発表] 中圧水素プラズマを用いた高アスペクト比シリコンナノコーンの形成2021

    • 著者名/発表者名
      野村 俊光、木元 健太、垣内 弘章、安武 潔、大参 宏昌
    • 学会等名
      2021年第68回応用物理学会春季学術講演会
    • 関連する報告書
      2020 実績報告書
  • [学会発表] 中圧水素プラズマによるシリコン表面ナノコーン構造の創成2021

    • 著者名/発表者名
      野村俊光、木元健太、垣内弘章、安武潔、大参宏昌
    • 学会等名
      2021年度精密工学会春季大会学術講演会
    • 関連する報告書
      2020 実績報告書
  • [学会発表] 高圧水素プラズマによる極薄ゲッタリング層の形成2020

    • 著者名/発表者名
      野村 俊光、木元 健太、垣内 弘章、安武 潔、大参 宏昌
    • 学会等名
      2020年第81回応用物理学会秋季学術講演会
    • 関連する報告書
      2020 実績報告書
  • [学会発表] Surface nanostructuring of silicon by intermediate-pressure hydrogen plasma treatment2020

    • 著者名/発表者名
      Toshimitsu Nomura, Kenta Kimoto, Hiroaki Kakiuchi, Kiyoshi Yasutake, Hiromasa Ohmi
    • 学会等名
      The 18th International Conference on Precision Engineering (ICPE2020)
    • 関連する報告書
      2020 実績報告書
    • 国際学会

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公開日: 2020-04-28   更新日: 2024-01-30  

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