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デバイス劣化診断技術を内蔵した超高信頼パワーエレクトロニクスシステム

研究課題

研究課題/領域番号 20H02134
研究種目

基盤研究(B)

配分区分補助金
応募区分一般
審査区分 小区分21010:電力工学関連
研究機関東京都立大学

研究代表者

和田 圭二  東京都立大学, システムデザイン研究科, 教授 (00326018)

研究期間 (年度) 2020-04-01 – 2023-03-31
研究課題ステータス 完了 (2022年度)
配分額 *注記
17,810千円 (直接経費: 13,700千円、間接経費: 4,110千円)
2022年度: 4,160千円 (直接経費: 3,200千円、間接経費: 960千円)
2021年度: 6,110千円 (直接経費: 4,700千円、間接経費: 1,410千円)
2020年度: 7,540千円 (直接経費: 5,800千円、間接経費: 1,740千円)
キーワードパワーエレクトロニクス / パワーデバイス / オンラインモニタリング / 信頼性 / SiC-MOSFET / 状態監視 / 電力変換回路 / 高信頼 / 劣化検出 / 劣化診断
研究開始時の研究の概要

本研究課題では,パワーエレクトロニクス回路実動作状況下におけるパワーデバイス劣化診断をオンライン上で行うことを目的としている。そのために,回路内部の電圧・電流波形検出の技術確立とそれらの波形からの劣化診断手法の開発を行う。本研究では,1,200 V 耐圧の SiC-MOSFET を用いたパワーエレクトロニクス回路を設計・製作し,当該研究の劣化診断術の妥当性を実験により検証する。本研究の成果として,SiC-MOSFET を対象とした劣化診断技術を取り入れたパワーエレクトロニクス回路の実装を行い,500 V, 5 kW の電力変換回路を対象にして本研究の妥当性を実験により立証する。

研究成果の概要

本研究ではパワーエレクトロニクス回路の高信頼・長寿命化を実現することを目的に研究を行った。以下が主な成果である。(1)SiC-MOSFETの状態監視では、温度に左右されにくく、長期利用によるゲート酸化膜劣化に伴う電気的特性の変化を検出することが有効であることを示した。(2)MOSFETの入力容量を測定可能な新規パワーエレクトロニクス機器用のゲート駆動回路の開発を行った。(3)提案した新型回路を直流電圧500Vのパワーエレクトロニクス回路に適用し、デバイスの劣化を検出可能であることを実験で確認した。以上により、オンラインモニタリング機能を持つ回路の基礎技術を確立した。

研究成果の学術的意義や社会的意義

本研究は、パワーエレクトロニクス回路の信頼性と長寿命化の向上を追求し、重要な成果を得た。学術的には、SiC-MOSFETの状態監視の適切な方法を明らかにし、新たなモニタリング回路の開発を達成した。また、提案した新型回路をパワーエレクトロニクス回路に適用し、その有用性を実証した。これらの成果は、次世代パワーエレクトロニクス設計のための重要な知見を提供するものである。
社会的には、本研究はパワーエレクトロニクス技術の信頼性向上に寄与する。新しい回路設計と劣化検出方法は、これらのシステムの寿命を延ばし、予知保全を可能にすることができるために、その結果として経済的な利益と持続可能性の向上につながる。

報告書

(4件)
  • 2022 実績報告書   研究成果報告書 ( PDF )
  • 2021 実績報告書
  • 2020 実績報告書
  • 研究成果

    (13件)

すべて 2022 2021 2020

すべて 雑誌論文 (6件) (うち国際共著 1件、 査読あり 6件、 オープンアクセス 1件) 学会発表 (7件) (うち国際学会 4件)

  • [雑誌論文] パワーデバイスの状態監視を目的とした入力容量<i>C</i><sub>iss</sub>の測定機能を有するゲート駆動回路2022

    • 著者名/発表者名
      林真一郎,和田圭二
    • 雑誌名

      電気学会論文誌D(産業応用部門誌)

      巻: 142 号: 6 ページ: 471-479

    • DOI

      10.1541/ieejias.142.471

    • ISSN
      0913-6339, 1348-8163
    • 年月日
      2022-06-01
    • 関連する報告書
      2022 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Design a Continuous Switching Test Circuit for Power Devices to Evaluate Reliability2022

    • 著者名/発表者名
      Shin-Ichiro Hayashi, Keiji Wada
    • 雑誌名

      IEEJ Journal of Industry Applications

      巻: 11 号: 1 ページ: 108-116

    • DOI

      10.1541/ieejjia.21004267

    • NAID

      130008139362

    • ISSN
      2187-1094, 2187-1108
    • 年月日
      2022-01-01
    • 関連する報告書
      2021 実績報告書
    • 査読あり / オープンアクセス
  • [雑誌論文] Accelerated aging for gate oxide of SiC MOSFETs under continuous switching conditions by applying advanced HTGB test2021

    • 著者名/発表者名
      Shin-Ichiro Hayashi, Keiji Wada
    • 雑誌名

      Microelectronics Reliability

      巻: 126 ページ: 1-6

    • DOI

      10.1016/j.microrel.2021.114213

    • 関連する報告書
      2021 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] スイッチング波形最適化を目的としたバスバー配線構造設計2020

    • 著者名/発表者名
      三井晃司,和田圭二
    • 雑誌名

      電気学会論文誌D(産業応用部門誌)

      巻: 140 号: 11 ページ: 817-825

    • DOI

      10.1541/ieejias.140.817

    • NAID

      130007934138

    • ISSN
      0913-6339, 1348-8163
    • 年月日
      2020-11-01
    • 関連する報告書
      2020 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Design of an Integrated Air Coil for Current Sensing2020

    • 著者名/発表者名
      Yoshikazu Kuwabara, Keiji Wada, Jean-Michel Guichon , Jean-Luc Schanen, James Roudet
    • 雑誌名

      IEEE JOURNAL OF EMERGING AND SELECTED TOPICS IN POWER ELECTRONICS

      巻: 8 号: 4 ページ: 4122-4129

    • DOI

      10.1109/jestpe.2020.2977102

    • 関連する報告書
      2020 実績報告書
    • 査読あり / 国際共著
  • [雑誌論文] Accelerated aging test for gate-oxide degradation in SiC MOSFETs for condition monitoring2020

    • 著者名/発表者名
      Shin-Ichiro Hayashi, Keiji Wada
    • 雑誌名

      Microelectronics Reliability

      巻: 114 ページ: 1-6

    • DOI

      10.1016/j.microrel.2020.113777

    • 関連する報告書
      2020 実績報告書
    • 査読あり
  • [学会発表] Analysis of Clearance Effect for Perforated Terminals Isolation of a Laminated Busbar to Parasitic Parameters2022

    • 著者名/発表者名
      Koji Mitsui; Keiji Wada
    • 学会等名
      2022 International Power Electronics Conference (IPEC-Himeji 2022- ECCE Asia)
    • 関連する報告書
      2022 実績報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] Gate Drive Circuit Having In Situ Condition Monitoring System for Detecting Gate Oxide Degradation of SiC MOSFETs2022

    • 著者名/発表者名
      Shin-Ichiro Hayashi, Keiji Wada
    • 学会等名
      The IEEE Applied Power Electronics Conference and Exposition (APEC 20 22
    • 関連する報告書
      2021 実績報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] ミラープラトー電圧に着目したパワーデバイスの状態監視回路2022

    • 著者名/発表者名
      赤崎勇生,和田圭二
    • 学会等名
      電気学会全国大会
    • 関連する報告書
      2021 実績報告書
  • [学会発表] Gate oxide degradation characteristics of SiC MOSFETs under continuous switching conditions2021

    • 著者名/発表者名
      Shin-Ichiro Hayashi, Keiji Wada
    • 学会等名
      T he 32nd European Symposium on Reliability of Electron Devices, Failure Physics and Analysis (ESREF)
    • 関連する報告書
      2021 実績報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] パワー半導体デバイスの状態監視を目 的とした入力容量 C _iss v GS 特性の測定 機能を有するゲート駆動回路の動作検 証2021

    • 著者名/発表者名
      林真一郎,和田圭二
    • 学会等名
      電気学会電子デバイス・ 半導体電力変換合同研 究会
    • 関連する報告書
      2021 実績報告書
  • [学会発表] パワーデバイスを対象とした電力回生型連続スイッチング試験装置2020

    • 著者名/発表者名
      林真一郎,和田圭二
    • 学会等名
      電気学会半導体電力変換研究会
    • 関連する報告書
      2020 実績報告書
  • [学会発表] Gate Oxide TDDB Evaluation System for SiC Power Devices under Switching Operation Conditions2020

    • 著者名/発表者名
      Shin-Ichiro Hayashi, Keiji Wada
    • 学会等名
      International Power Electronics and Motion Control Conference
    • 関連する報告書
      2020 実績報告書
    • 国際学会

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公開日: 2020-04-28   更新日: 2024-01-30  

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