自己組織化析出を利用した芯材強化型柱状構造を有する耐環境コーティングの創製

• 研究課題/領域番号: 20H02477
• 研究種目: 基盤研究(B)
• 配分区分: 補助金
• 応募区分: 一般
• 審査区分: 小区分26050:材料加工および組織制御関連
• 研究機関: 横浜国立大学
• 研究代表者: 伊藤 暁彦 横浜国立大学, 大学院環境情報研究院, 准教授 (20451635)
• 研究期間 (年度): 2020-04-01 – 2024-03-31
• 研究課題ステータス: 完了 (2023年度)
• 配分額: 18,070千円 (直接経費: 13,900千円、間接経費: 4,170千円); 2023年度: 1,820千円 (直接経費: 1,400千円、間接経費: 420千円); 2022年度: 2,080千円 (直接経費: 1,600千円、間接経費: 480千円); 2021年度: 2,860千円 (直接経費: 2,200千円、間接経費: 660千円); 2020年度: 11,310千円 (直接経費: 8,700千円、間接経費: 2,610千円)
• キーワード: 化学気相析出 / 自己組織化 / セラミックス / 耐環境コーティング / ナノ構造制御

研究開始時の研究の概要

エンジニアリングセラミックス部材がより過酷な環境において優れた信頼性を発揮するためには、部材を保護するコーティングにおいても組織設計の変革が求められている。本研究課題では、気相中での自己組織化に基づく新たな設計手法を提案する。化学気相析出法を用いた芯材強化柱状構造の自己組織化析出を実証し、その熱的・機械的特性を評価する。

研究実績の概要

2024年度は、これまでの研究成果に基づいて、高強度レーザー反応場での高速化学気相析出法をLu2O3-SiO2系共晶系セラミックスコーティング試料に適用した。LuおよびSi原料として、Lu(dpm)3およびTEOS (Tetraethylorthosilicate) を用いた。成膜温度868-1278 Kおいて、成膜温度および原料ガス中のLu/Si比が合成した膜の結晶相に与える影響をまとめたところ、Lu/Si比の増大に伴い、膜の構成相は非晶質SiO2、A-Lu2SiO5 (LSO)、β-Lu2Si2O7 (LPS)、B-LSO、Lu2O3へと変化した。β-LPS単相膜は、Lu組成20-45 mol%および成膜温度1163-1226 Kのとき得られ、 B-LSO単相膜は、Lu組成70-75 mol%および成膜温度1063-1171 Kのとき得られた。さらに非晶質SiO相中にLSO相が分散した構造を持つ複合材料を合成することができた。希土類酸化物シリケートは、耐環境セラミックスコーティング材料だけでなく、放射線誘起蛍光体への応用も期待されていることから、Ce3+を添加したLSOおよびLPS膜を合成してその蛍光発光特性を調べたところ、それぞれ400 nmと420 nm、380 nmと400 nmを中心とする2つのピークからなるブロードな発光を示し、これらの蛍光発光はCe3+イオンの5d-4f遷移に対応することを確認した。

現在までの達成度 (段落)

令和5年度が最終年度であるため、記入しない。

今後の研究の推進方策

令和5年度が最終年度であるため、記入しない。

研究成果

• [雑誌論文] HfTiO4 transparent thick film phosphors activated with Eu3+, Dy3+, and Tb3+ ions (2024)
  • 著者名/発表者名: Yuka Hashimoto, Akihiko Ito
  • 雑誌名: Materials Letters 巻: 366 ページ: 136558-136558
  • DOI: 10.1016/j.matlet.2024.136558
  • 査読あり
• [雑誌論文] 透明セラミックス結晶の高効率製造 (2024)
  • 著者名/発表者名: 伊藤暁彦
  • 雑誌名: 月刊機能材料 巻: 3
• [雑誌論文] 化学気相析出法による材料の表面改質による高機能化 (2023)
  • 著者名/発表者名: Ito Akihiko
  • 雑誌名: 粉体工学会誌 巻: 60 号: 12 ページ: 754-759
  • DOI: 10.4164/sptj.60.754
  • ISSN: 0386-6157, 1883-7239
  • 年月日: 2023-12-10
  • 査読あり
• [雑誌論文] High-Speed Epitaxial Growth of Terbium- and Europium-Doped Yttrium Aluminum Perovskite Thick Film Phosphors Using Laser-Assisted Chemical Vapor Deposition (2023)
  • 著者名/発表者名: Y. Mitsuhashi, S. Matsumoto, A. Ito
  • 雑誌名: MATERIALS TRANSACTIONS 巻: 64 号: 6 ページ: 1107-1111
  • DOI: 10.2320/matertrans.MT-ME2022001
  • ISSN: 1345-9678, 1347-5320
  • 年月日: 2023-06-01
  • 査読あり
• [雑誌論文] Growth and scintillation properties of Ce 3+:LuAG?Al2O3 chemically deposited eutectics (2023)
  • 著者名/発表者名: Matsumoto Shogen、Kurosawa Shunsuke、Yokoe Daisaku、Kimura Teiichi、Ito Akihiko
  • 雑誌名: Optical Materials 巻: 138 ページ: 113674-113674
  • DOI: 10.1016/j.optmat.2023.113674
  • 査読あり
• [雑誌論文] Chemical vapor deposition of ordered structures in YAG?alumina eutectic system (2023)
  • 著者名/発表者名: Mitsuhashi Yuri、Matsumoto Shogen、Ito Akihiko
  • 雑誌名: Journal of the American Ceramic Society 巻: 106 号: 9 ページ: 5140-5146
  • DOI: 10.1111/jace.19176
  • 査読あり / オープンアクセス
• [雑誌論文] Photo- and Radioluminescence Properties of Eu3+-doped Y2O3 Thick Film Phosphor Prepared via Chemical Vapor Deposition (2022)
  • 著者名/発表者名: Shogen Matsumoto, Taiga Watanabe, Akihiko Ito
  • 雑誌名: Sensors and Materials 巻: 34 号: 2 ページ: 669
  • DOI: 10.18494/SAM3698
  • ISSN: 0914-4935, 2435-0869
  • 年月日: 2022-02-21
  • 査読あり / オープンアクセス
• [雑誌論文] High-throughput production of LuAG-based highly luminescent thick film scintillators for radiation detection and imaging (2022)
  • 著者名/発表者名: Matsumoto Shogen、Ito Akihiko
  • 雑誌名: Scientific Reports 巻: 12 号: 1 ページ: 19319-19319
  • DOI: 10.1038/s41598-022-23839-w
  • 査読あり / オープンアクセス
• [雑誌論文] Chemically vapor deposited oxide-based thick film scintillators (2022)
  • 著者名/発表者名: Ito Akihiko、Matsumoto Shogen
  • 雑誌名: Japanese Journal of Applied Physics 巻: 62 号: 1 ページ: 010612-010612
  • DOI: 10.35848/1347-4065/aca249
  • 査読あり / オープンアクセス
• [雑誌論文] Chemical vapor deposition of highly oriented ceramic coatings in a high-intensity laser irradiation (2021)
  • 著者名/発表者名: Akihiko Ito
  • 雑誌名: Journal of the Ceramic Society of Japan 巻: 129 号: 11 ページ: 646-653
  • DOI: 10.2109/jcersj2.21135
  • NAID: 130008110397
  • ISSN: 1348-6535, 1882-0743
  • 年月日: 2021-11-01
  • 査読あり / オープンアクセス
• [雑誌論文] Precursor selection for metal–organic chemical vapor deposition of SrHfO₃ films with Sr(dpm)₂ and Sr(hfa)₂ (2021)
  • 著者名/発表者名: S. Fujie, A. Ito
  • 雑誌名: Journal of the Ceramic Society of Japan 巻: 129 号: 1 ページ: 17-21
  • DOI: 10.2109/jcersj2.20157
  • NAID: 130007965511
  • ISSN: 1348-6535, 1882-0743
  • 年月日: 2021-01-01
  • 査読あり / オープンアクセス
• [雑誌論文] Preparation of HfO₂–Al₂O₃ nanocomposite films using chemical vapor deposition (2021)
  • 著者名/発表者名: S. Matsumoto, A. Ito
  • 雑誌名: Journal of the Ceramic Society of Japan 巻: 129 号: 1 ページ: 1-6
  • DOI: 10.2109/jcersj2.20156
  • NAID: 130007965510
  • ISSN: 1348-6535, 1882-0743
  • 年月日: 2021-01-01
  • 査読あり / オープンアクセス
• [雑誌論文] Photo- and Radioluminescence Properties of Ce3+-doped Lu3Al5O12 Thick Film Grown by Chemical Vapor Deposition (2021)
  • 著者名/発表者名: S. Matsumoto, A. Minamino, A. Ito
  • 雑誌名: Sensors and Materials 巻: -
  • 査読あり
• [雑誌論文] High-speed Epitaxial Growth of M-type Strontium Hexaferrite Films on Sapphire using Metal-Organic Chemical Vapor Deposition and Their Magnetic Property (2020)
  • 著者名/発表者名: K. Kato, R. Watanuki, A. Ito
  • 雑誌名: Materials Letters 巻: 274 ページ: 128046-128046
  • DOI: 10.1016/j.matlet.2020.128046
  • 査読あり / オープンアクセス
• [雑誌論文] High-speed epitaxial growth of Y3Fe5O12 thick film with high magnetization on (4 2 0) Y3Al5O12 substrate using metal-organic chemical vapor deposition (2020)
  • 著者名/発表者名: Aida Honoka、Watanuki Ryuta、Ito Akihiko
  • 雑誌名: Materials Letters 巻: 276 ページ: 128228-128228
  • DOI: 10.1016/j.matlet.2020.128228
  • 査読あり / オープンアクセス
• [学会発表] Chemically vapor deposited YAG-alumina eutectic system with ordered structures (2024)
  • 著者名/発表者名: A. Ito
  • 学会等名: 48th International Conference and Exposition on Advanced Ceramics and Composites (ICACC 2024)
  • 国際学会 / 招待講演
• [学会発表] 化学気相析出法により合成したCe3+添加Gd3Al5O12膜の発光特性評価 (2023)
  • 著者名/発表者名: 出口結美子, 伊藤暁彦
  • 学会等名: 日本セラミックス協会 第36回秋季シンポジウム
• [学会発表] 自立型HfO2厚膜蛍光体の高速化学気相析出 (2023)
  • 著者名/発表者名: 橋本優花, 伊藤暁彦
  • 学会等名: 日本セラミックス協会 第36回秋季シンポジウム
• [学会発表] 化学気相析出法により合成したアルミナ-アルミニウムガーネット共晶系膜の相分離構造 (2023)
  • 著者名/発表者名: 伊藤暁彦, 三觜佑理, 松本昭源
  • 学会等名: 日本セラミックス協会 第36回秋季シンポジウム
• [学会発表] Epitaxial growth of Ce3+:Gd3Al5O12 thick film phosphor using chemical vapor deposition and their luminescence properties (2023)
  • 著者名/発表者名: Y. Deguchi, A. Ito
  • 学会等名: 12th Advanced Lasers and Photon Sources Conference (ALPS2023)
  • 国際学会
• [学会発表] Preparation of rare-earth-ion doped HfTiO4 transparent films using laser chemical vapor deposition (2023)
  • 著者名/発表者名: Y. Hashimoto, A. Ito
  • 学会等名: 12th Advanced Lasers and Photon Sources Conference (ALPS2023)
  • 国際学会
• [学会発表] High-speed epitaxial growth of Yb3+:Lu2O3 columnar scintillators (2023)
  • 著者名/発表者名: T. Nakayama, A. Ito
  • 学会等名: 12th Advanced Lasers and Photon Sources Conference (ALPS2023)
  • 国際学会
• [学会発表] Chemical vapor deposition of Ce3+:Lu3Al5O12 thick film scintillators for high-resolution X-ray imaging (2023)
  • 著者名/発表者名: Akihiko Ito, Shogen Matsumoto
  • 学会等名: 12th Advanced Lasers and Photon Sources Conference (ALPS2023)
  • 国際学会
• [学会発表] CVD法によるCe3+添加GAPおよびGAG厚膜蛍光体の合成とシンチレーション特性評価 (2023)
  • 著者名/発表者名: 出口結美子, 伊藤暁彦
  • 学会等名: 極限的励起状態の形成と量子エネルギー変換研究グループ 第6回研究会
• [学会発表] CVD法を用いたEu3+添加ハフニア自立膜の合成と蛍光発光特性 (2023)
  • 著者名/発表者名: 橋本優花, 伊藤暁彦
  • 学会等名: 極限的励起状態の形成と量子エネルギー変換研究グループ 第6回研究会
• [学会発表] CVD炉内圧力がα-Al2O3-Lu3Al5O12複合膜の組織形成に与える影響 (2023)
  • 著者名/発表者名: 藤村尚輝, 伊藤暁彦
  • 学会等名: 第39回 日本セラミックス協会関東支部研究発表会
• [学会発表] Yb3+:Lu2O3柱状晶厚膜の高速化学気相析出 (2023)
  • 著者名/発表者名: 中山龍幸, 伊藤暁彦
  • 学会等名: 第39回 日本セラミックス協会関東支部研究発表会
• [学会発表] レーザーCVD法により合成したα-Al2O3-Lu3Al5O12複合膜におけるラメラ構造の形成 (2023)
  • 著者名/発表者名: N. Fujimura, A. Ito
  • 学会等名: 第33回 日本MRS年次大会
• [学会発表] Al2O3-Yb3Al5O12共晶系におけるCVD膜とμPDバルクの比較 (2023)
  • 著者名/発表者名: N. Imai, S. Kurosawa, D. Matsukura, A. Yamaji, A. Ito
  • 学会等名: 第33回 日本MRS年次大会
• [学会発表] YAG-アルミナおよびGAP-アルミナ系複合膜の化学気相析出 (2023)
  • 著者名/発表者名: A. Ito, Y. Deguchi, Y. Mitsuhashi
  • 学会等名: 第33回 日本MRS年次大会
• [学会発表] CVD法によるTiN膜の合成とマイクロカンチレバー法による機械的特性 (2023)
  • 著者名/発表者名: N. Yamaguchi, J. Tatami, A. Ito
  • 学会等名: 第33回 日本MRS年次大会
• [学会発表] Epitaxial relationship between SnO2 film and (100) SrTiO3 substrate prepared by chemical vapor deposition (2023)
  • 著者名/発表者名: R. Fuseya, A. Ito
  • 学会等名: YNU International Symposium 2023
  • 国際学会
• [学会発表] Structure and luminescent properties of Ce3+-doped lutetium silicate films grown by chemical vapor deposition (2023)
  • 著者名/発表者名: A. Shikichi, A. Ito
  • 学会等名: YNU International Symposium 2023
  • 国際学会
• [学会発表] Effect of deposition time on microstructure of α-Al2O3-Lu3Al5O12 composite films prepared by CVD (2023)
  • 著者名/発表者名: N. Fujimura, A. Ito
  • 学会等名: YNU International Symposium 2023
  • 国際学会
• [学会発表] Differences in microstructure of Al2O3-Yb3Al5O12 composite grown by CVD and μ-PD methods (2023)
  • 著者名/発表者名: N. Imai, S. Kurosawa, D. Matsukura, A. Yamaji, A. Ito
  • 学会等名: YNU International Symposium 2023
  • 国際学会
• [学会発表] Epitaxial growth of yttria stabilized hafnia film using chemical vapor deposition (2023)
  • 著者名/発表者名: R. Urata, A. Ito
  • 学会等名: YNU International Symposium 2023
  • 国際学会
• [学会発表] Epitaxial growth of TiN films using laser chemical vapor deposition and their elastic moduli (2023)
  • 著者名/発表者名: N. Yamaguchi, J. Tatami, A Ito
  • 学会等名: YNU International Symposium 2023
  • 国際学会
• [学会発表] Preparation of molybdenum dioxide films on Si substrates by laser chemical vapor deposition (2023)
  • 著者名/発表者名: T. Akiyama, D. Sato, H. Tajima, A. Ito
  • 学会等名: YNU International Symposium 2023
  • 国際学会
• [学会発表] Effect of deposition temperature on the preparation of gallium oxide films via chemical vapor deposition (2023)
  • 著者名/発表者名: T. Oga, A. Ito
  • 学会等名: YNU International Symposium 2023
  • 国際学会
• [学会発表] 超温度場CVDを利用した高速エピタキシャル成長と秩序構造の形成 (2023)
  • 著者名/発表者名: 伊藤暁彦, 三觜佑理, 松本昭源
  • 学会等名: 日本金属学会2023年秋期 (第173回) 講演大会
  • 招待講演
• [学会発表] YbAG-アルミナ共晶系における規則構造の化学気相析出と溶融凝固体との比較 (2023)
  • 著者名/発表者名: 今井菜摘、黒澤俊介、松倉大佑、山路晃広、伊藤暁彦
  • 学会等名: 第17回 物性科学領域横断研究会 (領域合同研究会)
• [学会発表] 化学気相析出法によるα-Al2O3-Lu3Al5O12共晶系膜の合成と炉内圧力が組織形成に与える影響 (2023)
  • 著者名/発表者名: 藤村尚輝、伊藤暁彦
  • 学会等名: 超温度場夏の学校 若手研究交流会
• [学会発表] Chemical vapor deposition of YAG-alumina and GAP-alumina eutectic systems with ordered nanostrucutres (2023)
  • 著者名/発表者名: A. Ito, Y. Mitsuhashi, Y. Deguchi
  • 学会等名: MRM2023/IUMRS-ICA2023
  • 国際学会
• [学会発表] Unidirectional growth in YAG-alumina eutectic system via chemical vapor deposition under superthermal field (2023)
  • 著者名/発表者名: A. Ito
  • 学会等名: The 1st International conference on Creation of Materials by Superthermal Field 2023 (CMSTF 2023)
  • 国際学会
• [学会発表] Al2O3-Yb3Al5O12系複合膜の微細組織観察および溶融凝固体との比較 (2023)
  • 著者名/発表者名: 今井菜摘、黒澤俊介、松倉大佑、山路晃広、伊藤暁彦
  • 学会等名: 第18回セラミックフェスタin神奈川
• [学会発表] レーザーを援用したCVD法によるYSZホモエピタキシャル膜の合成と機械的特性評価 (2023)
  • 著者名/発表者名: 浦田竜矢, 伊藤暁彦
  • 学会等名: 第18回セラミックフェスタin神奈川
• [学会発表] CVD法によるCe3+添加Lu2SiO5膜の合成とその蛍光特性評価 (2023)
  • 著者名/発表者名: 敷地愛莉, 伊藤暁彦
  • 学会等名: 第18回セラミックフェスタin神奈川
• [学会発表] 化学気相析出法によるSnO2膜の合成と(100)SrTiO3基板とのエピタキシャル関係 (2023)
  • 著者名/発表者名: 伏屋竜輔, 伊藤暁彦
  • 学会等名: 第18回セラミックフェスタin神奈川
• [学会発表] レーザーを援用した化学気相析出法によるSiC膜の高速合成 (2023)
  • 著者名/発表者名: 佐野祐一郎, 伊藤暁彦
  • 学会等名: 第18回セラミックフェスタin神奈川
• [学会発表] β-Ga2O3膜のエピタキシャル成長に与えるCVD炉内圧力の影響 (2023)
  • 著者名/発表者名: 成合勇人, 伊藤暁彦
  • 学会等名: 第18回セラミックフェスタin神奈川
• [学会発表] 化学気相析出法により合成したCe3+:LuAG厚膜蛍光体の膜厚がシンチレーション特性に及ぼす影響 (2023)
  • 著者名/発表者名: 松本昭源、伊藤暁彦
  • 学会等名: 日本セラミックス協会 2023年年会
• [学会発表] Ce3+:Gd3Al5O12厚膜蛍光体の化学気相析出と発光特性評価 (2023)
  • 著者名/発表者名: 出口結美子、伊藤暁彦
  • 学会等名: 日本セラミックス協会 2023年年会
• [学会発表] α-Al2O3?Lu3Al5O12複合膜の化学気相析出と炉内圧力が微細組織に与える影響 (2023)
  • 著者名/発表者名: 藤村尚輝、伊藤暁彦
  • 学会等名: 日本セラミックス協会 2023年年会
• [学会発表] 蛍石関連構造を有するLu2O3-Lu2Ti2O7系膜の合成と化学組成が結晶相に与える影響 (2023)
  • 著者名/発表者名: 伏屋竜輔、伊藤暁彦
  • 学会等名: 日本セラミックス協会 2023年年会
• [学会発表] 原料供給量率がYb3+:Lu2O3柱状晶シンチレータの高速成膜に与える影響 (2023)
  • 著者名/発表者名: 中山龍幸、伊藤暁彦
  • 学会等名: 日本セラミックス協会 2023年年会
• [学会発表] Ce添加LuAGエピタキシャル膜のシンチレーション特性および熱ルミネッセンス特性評価 (2023)
  • 著者名/発表者名: 松本昭源、黒澤俊介、伊藤暁彦
  • 学会等名: 第70回応用物理学会春季講演
• [学会発表] 化学気相析出法を用いたCe3+添加CaHfO3およびSrHfO3エピタキシャル膜の合成とそのシンチレーション特性評価 (2022)
  • 著者名/発表者名: 松本昭源、藤江清花、大賀輝昌、黒澤俊介、伊藤暁彦
  • 学会等名: 第35回日本セラミックス協会 秋季シンポジウム
• [学会発表] レーザーCVD法による希土類元素添加HfTiO4膜の合成とフォトルミネッセンス特性 (2022)
  • 著者名/発表者名: 橋本優花、伊藤暁彦
  • 学会等名: 第35回日本セラミックス協会 秋季シンポジウム
• [学会発表] レーザーCVD法を用いたGa2O3-Al2O3膜の合成とシンチレーション特性 (2022)
  • 著者名/発表者名: 山口直也、伊藤暁彦
  • 学会等名: 第35回日本セラミックス協会 秋季シンポジウム
• [学会発表] CVD法を用いた希土類添加Mg2Hf5O12膜の合成とその蛍光特性評価 (2022)
  • 著者名/発表者名: 山井大誠、伊藤暁彦
  • 学会等名: 第35回日本セラミックス協会 秋季シンポジウム
• [学会発表] CVD法を用いたMgWO4膜の合成と蛍光特性評価 (2022)
  • 著者名/発表者名: 小菅翔南、伊藤暁彦
  • 学会等名: 第35回日本セラミックス協会 秋季シンポジウム
• [学会発表] 化学気相析出法によるCe3+添加GdAlO3膜の合成とその蛍光特性評価 (2022)
  • 著者名/発表者名: 出口結美子、伊藤暁彦
  • 学会等名: 第35回日本セラミックス協会 秋季シンポジウム
• [学会発表] 化学気相析出法によるTi3+およびCr3+添加α-Al2O3透明厚膜の合成とその蛍光特性の評価 (2022)
  • 著者名/発表者名: 梅堀美好、伊藤暁彦
  • 学会等名: 第35回日本セラミックス協会 秋季シンポジウム
• [学会発表] MOCVD法によるLu2O3-MgO複合膜の合成 (2022)
  • 著者名/発表者名: 中嶋航平、伊藤暁彦
  • 学会等名: 第35回日本セラミックス協会 秋季シンポジウム
• [学会発表] Lu2O3柱状晶厚膜の高速化学気相析出 (2022)
  • 著者名/発表者名: 中山龍幸、伊藤暁彦
  • 学会等名: 第35回日本セラミックス協会 秋季シンポジウム
• [学会発表] 化学気相析出法による希土類添加Y2O3透明厚膜のエピタキシャル成長と蛍光特性評価 (2022)
  • 著者名/発表者名: 渡辺大雅、伊藤暁彦
  • 学会等名: 第35回日本セラミックス協会 秋季シンポジウム
• [学会発表] 化学気相析出法によるHfO2-Lu2Hf2O7-Lu2O3系膜の合成 (2022)
  • 著者名/発表者名: 任 宗涵、伊藤暁彦
  • 学会等名: 第35回日本セラミックス協会 秋季シンポジウム
• [学会発表] Ce3+添加Lu3Al5O12-Al2O3複合膜の化学気相析出と発光特性評価 (2022)
  • 著者名/発表者名: 松本昭源、黒澤俊介、吉川 彰、伊藤暁彦
  • 学会等名: 第35回日本セラミックス協会 秋季シンポジウム
• [学会発表] Y3Al5O12-Al2O3複合膜の化学気相析出における基板面方位と微細組織の関係 (2022)
  • 著者名/発表者名: 伊藤暁彦、三觜佑理、松本昭源
  • 学会等名: 第35回日本セラミックス協会 秋季シンポジウム
• [学会発表] CVD法により合成したCe3+添加Lu3Al5O12膜のシンチレーション特性 (2022)
  • 著者名/発表者名: 松本昭源、伊藤暁彦
  • 学会等名: 極限的励起状態の形成と量子エネルギー変換研究グループ 第6回研究会
• [学会発表] CVD法を用いたMgWO4厚膜蛍光体の合成 (2022)
  • 著者名/発表者名: 小菅翔南、伊藤暁彦
  • 学会等名: 極限的励起状態の形成と量子エネルギー変換研究グループ 第6回研究会
• [学会発表] CVD法を用いたMg2Hf5O12膜の合成と希土類添による蛍光特性評価 (2022)
  • 著者名/発表者名: 山井大誠、伊藤暁彦
  • 学会等名: 極限的励起状態の形成と量子エネルギー変換研究グループ 第6回研究会
• [学会発表] CVD法で合成したCe3+添加GdAlO3膜の蛍光発光特性 (2022)
  • 著者名/発表者名: 出口結美子、伊藤暁彦
  • 学会等名: 極限的励起状態の形成と量子エネルギー変換研究グループ 第6回研究会
• [学会発表] CVD法によるEu3+添加HfO2-Lu2Hf2O7-Lu2O3系膜の合成および蛍光特性評価 (2022)
  • 著者名/発表者名: 任 宗涵、伊藤暁彦
  • 学会等名: 極限的励起状態の形成と量子エネルギー変換研究グループ 第6回研究会
• [学会発表] CVD法による希土類添加HfTiO4厚膜蛍光体の合成 (2022)
  • 著者名/発表者名: 橋本優花、伊藤暁彦
  • 学会等名: 極限的励起状態の形成と量子エネルギー変換研究グループ 第6回研究会
• [学会発表] CVD法によるLu2O3厚膜の高速合成 (2022)
  • 著者名/発表者名: 中山龍幸、伊藤暁彦
  • 学会等名: 極限的励起状態の形成と量子エネルギー変換研究グループ 第6回研究会
• [学会発表] CVD法による(Ga, Al)2O3膜の合成とシンチレーション特性 (2022)
  • 著者名/発表者名: 山口直也、伊藤暁彦
  • 学会等名: 極限的励起状態の形成と量子エネルギー変換研究グループ 第6回研究会
• [学会発表] 化学気相析出法によるCe3+添加GdAlO3エピタキシャル膜の合成とシンチレーション特性評価 (2022)
  • 著者名/発表者名: 出口結美子、伊藤暁彦
  • 学会等名: 第17回セラミックフェスタin神奈川
• [学会発表] レーザー援用CVD法を用いたHfO2自立型厚膜蛍光体の合成 (2022)
  • 著者名/発表者名: 橋本優花、伊藤暁彦
  • 学会等名: 第17回セラミックフェスタin神奈川
• [学会発表] レーザーCVD法によるTiN膜の合成 (2022)
  • 著者名/発表者名: 山口直也、伊藤暁彦
  • 学会等名: 第17回セラミックフェスタin神奈川
• [学会発表] 化学気相析出法によるα-Al2O3-Lu3Al5O12複合膜の合成 (2022)
  • 著者名/発表者名: 藤村尚輝、伊藤暁彦
  • 学会等名: 第17回セラミックフェスタin神奈川
• [学会発表] 化学気相析出法によるLu2O3-TiO2系膜の合成と蛍光特性評価 (2022)
  • 著者名/発表者名: 伏屋竜輔、伊藤暁彦
  • 学会等名: 第17回セラミックフェスタin神奈川
• [学会発表] 化学気相析出法によるLu2O3柱状厚膜の高速合成 (2022)
  • 著者名/発表者名: 中山龍幸、伊藤暁彦
  • 学会等名: 第17回セラミックフェスタin神奈川
• [学会発表] Eu3+添加HfO2膜の石英ガラス基板上への自己配向成長 (2022)
  • 著者名/発表者名: 敷地愛莉、伊藤暁彦
  • 学会等名: 第17回セラミックフェスタin神奈川
• [学会発表] レーザーを援用した化学気相析出法による自己配向成長と蛍光体応用 (2021)
  • 著者名/発表者名: 伊藤暁彦
  • 学会等名: 第74回CVD研究会
  • 招待講演
• [学会発表] Ce3+添加 Lu3Al5O12厚膜蛍光体の高速化学気相析出とその発光特性評価 (2021)
  • 著者名/発表者名: 松本昭源、黒澤俊介、吉川彰、伊藤暁彦
  • 学会等名: 第34回日本セラミックス協会 秋季シンポジウム
• [学会発表] 気相からの自己組織化を利用したエンジニアリングセラミックスの機能発現 (2021)
  • 著者名/発表者名: 伊藤暁彦
  • 学会等名: 第34回日本セラミックス協会 秋季シンポジウム
  • 招待講演
• [学会発表] 化学気相析出法によるAl2O3-Y3Al5O12複合膜の合成とその蛍光特性評価 (2021)
  • 著者名/発表者名: 三觜佑理、伊藤暁彦
  • 学会等名: 第37回日本セラミックス協会 関東支部研究発表会
• [学会発表] 化学気相析出法を用いた Ce3+添加 SrHfO3 厚膜の合成とフォトルミネッセンスおよびラジオルミネッセンス特性 (2021)
  • 著者名/発表者名: 藤江清花、伊藤暁彦、黒澤俊介
  • 学会等名: 第37回日本セラミックス協会 関東支部研究発表会
• [学会発表] 化学気相析出法によるCe3+:Lu3Al5O12厚膜蛍光体の合成と発光特性評価 (2021)
  • 著者名/発表者名: 松本昭源、黒澤俊介、吉川彰、伊藤暁彦
  • 学会等名: 第82回応用物理学会秋季学術講演会
• [学会発表] 化学気相析出法によるTi3+およびCr3+添加Al2O3膜の合成とその蛍光特性の評価 (2021)
  • 著者名/発表者名: 梅堀美好、伊藤暁彦
  • 学会等名: 第37回日本セラミックス協会 関東支部研究発表会
• [学会発表] 化学気相析出法により合成したGd2O3膜の蛍光特性 (2021)
  • 著者名/発表者名: 出口結美子、伊藤暁彦
  • 学会等名: 第37回日本セラミックス協会 関東支部研究発表会
• [学会発表] 化学気相析出法を利用したMgSiO3ガーネット相膜の合成 (2021)
  • 著者名/発表者名: 川田望夢、伊藤暁彦
  • 学会等名: 第37回日本セラミックス協会 関東支部研究発表会
• [学会発表] CVD法による希土類添加YAlO3厚膜蛍光体のエピタキシャル成長 (2021)
  • 著者名/発表者名: 三觜佑理、伊藤暁彦
  • 学会等名: 第19回次世代先端光科学研究会 (応用物理学会 極限的励起状態の形成と量子エネルギー変換研究グループ 第3回研究会)
• [学会発表] CVD法によるSrHfO3膜の合成とPLおよびシンチレーション特性評価 (2021)
  • 著者名/発表者名: 藤江清花、黒澤俊介、伊藤暁彦
  • 学会等名: 第19回次世代先端光科学研究会 (応用物理学会 極限的励起状態の形成と量子エネルギー変換研究グループ 第3回研究会)
• [学会発表] 化学気相析出法における自己組織化と放射線誘起蛍光体への応用 (2021)
  • 著者名/発表者名: 伊藤暁彦
  • 学会等名: 化学工学会 2021年度第1回 表面改質分科会
  • 招待講演
• [学会発表] 化学気相析出法によるHfO2-TiO2系膜の合成 (2021)
  • 著者名/発表者名: 橋本優花、伊藤暁彦
  • 学会等名: 第16回セラミックフェスタin神奈川
• [学会発表] Al2O3-GdAlO3-Gd2O3系膜の蛍光発光特性の評価 (2021)
  • 著者名/発表者名: 出口結美子、伊藤暁彦
  • 学会等名: 第16回セラミックフェスタin神奈川
• [学会発表] MgWO4の化学気相析出と蛍光発光 (2021)
  • 著者名/発表者名: 小菅翔南、伊藤暁彦
  • 学会等名: 第16回セラミックフェスタin神奈川
• [学会発表] Lu2O3-MgO系コンポジット膜の化学気相析出 (2021)
  • 著者名/発表者名: 中嶋航平、伊藤暁彦
  • 学会等名: 第16回セラミックフェスタin神奈川
• [学会発表] HfO2-MgO系膜のエピタキシャル成長 (2021)
  • 著者名/発表者名: 山井大誠、伊藤暁彦
  • 学会等名: 第16回セラミックフェスタin神奈川
• [学会発表] CaHfO3膜のエピタキシャル成長とシンチレーション特性 (2021)
  • 著者名/発表者名: 大賀輝昌、伊藤暁彦、黒澤俊介
  • 学会等名: 第16回セラミックフェスタin神奈川
• [学会発表] In-situ formation of nanostructures in chemical vapor deposition of MgO-MgAl2O4-Al2O3 system coatings (2021)
  • 著者名/発表者名: A. Ito、M. Ikai
  • 学会等名: 14th Pacific Rim Conference on Ceramic and Glass Technology (PACRIM 14) including Glass & Optical Materials Division 2021 Annual Meeting (GOMD 2021)
  • 国際学会
• [学会発表] Chemical vapor deposition of Eu3+-doped Lu3Al5O12 thick film phosphor and its luminescent properties (2021)
  • 著者名/発表者名: S. Matsumoto、A. Ito
  • 学会等名: MATERIALS RESEARCH MEETING 2021 (MRM2021)
  • 国際学会
• [学会発表] Ceramic Eutectic Nanocomposites Synthesized by Laser-assisted Chemical Vapor Deposition for Luminescent and Scintillation Materials (2021)
  • 著者名/発表者名: A. Ito、S. Matsumoto
  • 学会等名: MATERIALS RESEARCH MEETING 2021 (MRM2021)
  • 国際学会 / 招待講演
• [学会発表] Preparation of nanostructured HfO2-Al2O3 coatings using chemical vapor deposition (2021)
  • 著者名/発表者名: S. Matsumoto、A. Ito
  • 学会等名: 14th Pacific Rim Conference on Ceramic and Glass Technology (PACRIM 14) including Glass & Optical Materials Division 2021 Annual Meeting (GOMD 2021)
  • 国際学会
• [学会発表] Eu3+:Lu3Al5O12厚膜蛍光体の高速化学気相析出とその発光特性評価 (2021)
  • 著者名/発表者名: 松本昭源, 伊藤暁彦
  • 学会等名: 日本セラミックス協会
• [学会発表] 化学気相析出法を用いたCe3+添加SrHfO3厚膜蛍光体の合成と蛍光特性 (2021)
  • 著者名/発表者名: 藤江清花, 伊藤暁彦
  • 学会等名: 日本セラミックス協会
• [学会発表] Synthesis of magnesium silicate film using chemical vapor deposition process (2020)
  • 著者名/発表者名: N. Kawata, A. Ito
  • 学会等名: Yokohama National University
  • 国際学会
• [学会発表] Epitaxial growth of SrHfO3 films via chemical vapor deposition and evaluation of their luminescence properties (2020)
  • 著者名/発表者名: S. Fujie, A. Ito
  • 学会等名: Yokohama National University
  • 国際学会
• [学会発表] Preparation of YAG-α-Al2O3 composite films by chemical vapor deposition (2020)
  • 著者名/発表者名: Y. Mitsuhashi, A. Ito
  • 学会等名: Yokohama National University
  • 国際学会
• [学会発表] High-speed epitaxial growth of Eu3+-doped HfO2 transparent thick films via chemical vapor deposition and their luminescent properties (2020)
  • 著者名/発表者名: S. Matsumoto, A. Ito
  • 学会等名: Yokohama National University
  • 国際学会
• [学会発表] 化学気相析出法によるアルミナ-YAG-イットリア系複合膜の合成 (2020)
  • 著者名/発表者名: 三觜佑理, 伊藤暁彦
  • 学会等名: セラミックフェスタin神奈川実行委員会
• [学会発表] 化学気相析出法を用いたSrハフネート膜の合成と蛍光特性 (2020)
  • 著者名/発表者名: 藤江清花, 伊藤暁彦
  • 学会等名: セラミックフェスタin神奈川実行委員会
• [学会発表] 化学気相析出法を用いたSrHfO3エピタキシャル膜の合成と蛍光特性 (2020)
  • 著者名/発表者名: 藤江清花, 伊藤暁彦
  • 学会等名: MRS-J
• [学会発表] 化学気相析出法を用いたHfO2透明厚膜の高速エピタキシャル成長とその蛍光特性評価 (2020)
  • 著者名/発表者名: 松本昭源, 伊藤暁彦
  • 学会等名: MRS-J
• [学会発表] MOCVD法を用いたYAG-α-Al2O3複合膜の合成 (2020)
  • 著者名/発表者名: 三觜佑理, 伊藤暁彦
  • 学会等名: MRS-J
• [学会発表] 化学気相析出法を用いたHf系およびLu系蛍光体厚膜の気相合成 (2020)
  • 著者名/発表者名: 伊藤暁彦, 松本昭源
  • 学会等名: 次世代先端光科学研究会
  • 招待講演
• [学会発表] 化学気相析出法によるシリケート系およびハフネート系耐環境性セラミックスコーティング (2020)
  • 著者名/発表者名: 伊藤暁彦
  • 学会等名: 日本学術振興会先進セラミックス第124委員会
• [学会発表] 高速化学気相析出法を駆使して導入した欠陥構造を高効率発光源とする透明蛍光体 (2020)
  • 著者名/発表者名: 伊藤暁彦
  • 学会等名: 新学術領域研究「機能コアの材料科学」
• [学会発表] 化学気相析出法によるMgO-Cr2O3系膜の合成と光学的特性 (2020)
  • 著者名/発表者名: 渋谷翔, 伊藤暁彦
  • 学会等名: 日本セラミックス協会 関東支部
• [学会発表] 化学気相析出法によるHfO2透明厚膜の合成とその蛍光特性評価 (2020)
  • 著者名/発表者名: 松本昭源, 伊藤暁彦
  • 学会等名: 日本セラミックス協会 関東支部
• [学会発表] MOCVD を用いたHfO2-Yb2O3 系膜の合成における成膜条件が膜の結晶相に及ぼす影響 (2020)
  • 著者名/発表者名: 藤江清花, 伊藤暁彦
  • 学会等名: 日本セラミックス協会 関東支部
• [学会発表] MOCVD法を用いたAl2O3-Y2O3系複合膜の合成における原料組成が微細組織に及ぼす影響 (2020)
  • 著者名/発表者名: 三觜佑理, 伊藤暁彦
  • 学会等名: 日本セラミックス協会 関東支部
• [学会発表] CVD 法によるYIGエピタキシャル膜の格子定数変化と磁気特性 (2020)
  • 著者名/発表者名: 相田穂乃香, 伊藤暁彦
  • 学会等名: 日本セラミックス協会 関東支部
• [図書] Chapter 12: Transparent ceramics based on pyrochlores in Pyrochlore Ceramics: Properties, Processing, and Applications (Ed by A. Chowdhury) (2022)
  • 著者名/発表者名: L.Q. An, Z. Wang, A. Ito, G. Zhou, T. Goto, S. Wang
  • 総ページ数: 490
  • 出版者: Elsevier B.V.
• [図書] 2-19 セラミックス, 2-20 ガラス, 2-21 陶磁器・タイル・大理石 (洗浄の事典 大矢勝ら編) (2022)
  • 著者名/発表者名: 伊藤暁彦
  • 総ページ数: 560
  • 出版者: 朝倉書店
  • ISBN: 4254252730
• [備考] ITO LAB | YNU - 横浜国立大学大学院 環境情報研究院 伊藤研究室
  • URL: https://itonium.net/ynu/