• 研究課題をさがす
  • 研究者をさがす
  • KAKENの使い方
  1. 前のページに戻る

有機ガスを用いた磁性材料に対するプラズマ支援原子層エッチング(ALE)機構の解明

研究課題

研究課題/領域番号 20J10393
研究種目

特別研究員奨励費

配分区分補助金
応募区分国内
審査区分 小区分14030:プラズマ応用科学関連
研究機関大阪大学

研究代表者

YASSIN Abdulrahman Hikm (2021)  大阪大学, 工学研究科, 特別研究員(PD)

Basher Abdulrahman H. (2020)  大阪大学, 工学研究科, 特別研究員(DC2)

研究期間 (年度) 2020-04-24 – 2022-03-31
研究課題ステータス 完了 (2021年度)
配分額 *注記
2,300千円 (直接経費: 2,300千円)
2021年度: 1,430千円 (直接経費: 1,100千円、間接経費: 330千円)
2020年度: 1,200千円 (直接経費: 1,200千円)
キーワードThermal ALE / DFT simulation / Etching of metals
研究開始時の研究の概要

Three different codes are used; Gaussian, Turbomole, and STATE code to investigate the interaction of different organic molecules with magnetic materials (Ni, Co, and Fe) to establish an ALE processes. The effect of the system temperature will be studied by running MD-DFT calculations, which I expect it will provide more realistic model for ALE processes. The promising simulation results will be confirmed experimentally. Moreover, a CAPP jet system will be developed to study the possibility of developing ALE processes of magnetic materials at atmospheric pressure.

研究実績の概要

The mechanisms of thermal atomic layer etching (ALE) for metals have been elucidated in this study. The chemical interaction of Beta-diketon, i.e., hexafluoroacetylacetone (hfacH), trifluoroacetylacetone (tfacH), and acetylacetone (acacH), with nickel (Ni) and nickel oxide (NiO) have been investigated. Then, the best etchant, which is hfacH molecules, have been nominated and examined with a magnesium oxide (MgO) surface and we could successfully generalize the investigated mechanism for all metals using density functional theory (DFT) simulation. Because of the pandemic COVID-19, I could not travel to Prof. Kessel lab in Eindhoven University of Technology (TU/e) to run some experiments. However, I will writing and publishing the remaining results during my new fellowship.

現在までの達成度 (段落)

令和3年度が最終年度であるため、記入しない。

今後の研究の推進方策

令和3年度が最終年度であるため、記入しない。

報告書

(2件)
  • 2021 実績報告書
  • 2020 実績報告書
  • 研究成果

    (10件)

すべて 2021 2020

すべて 雑誌論文 (5件) (うち国際共著 5件、 査読あり 5件、 オープンアクセス 5件) 学会発表 (5件) (うち国際学会 5件)

  • [雑誌論文] Susceptibility of Staphylococcus epidermidis to argon cold plasma jet by 0.2% oxygen admixture2021

    • 著者名/発表者名
      A-A H. Mohamed, Abdulrahman H. Basher, J. Q. M. Almarashi, S. A. Ouf
    • 雑誌名

      Applied Sciences MDPI

      巻: 11, 3455 号: 8 ページ: 1-12

    • DOI

      10.3390/app11083455

    • 関連する報告書
      2021 実績報告書
    • 査読あり / オープンアクセス / 国際共著
  • [雑誌論文] Erratum: “Formation and desorption of nickel hexafluoroacetylacetonate Ni(hfac)2 on a nickel oxide surface in atomic layer etching processes” [J. Vac. Sci. Technol. A 38, 052602 (2020)]2021

    • 著者名/発表者名
      Basher Abdulrahman H.、Krstic Marjan、Fink Karin、Ito Tomoko、Karahashi Kazuhiro、Wenzel Wolfgang、Hamaguchi Satoshi
    • 雑誌名

      Journal of Vacuum Science and Technology A

      巻: 39 号: 5 ページ: 057001-057001

    • DOI

      10.1116/6.0001319

    • 関連する報告書
      2021 実績報告書
    • 査読あり / オープンアクセス / 国際共著
  • [雑誌論文] Stability of hexafluoroacetylacetone molecules on metallic and oxidized nickel surfaces in atomic-layer-etching processes2020

    • 著者名/発表者名
      Basher Abdulrahman H.、Krstic Marjan、Takeuchi Takae、Isobe Michiro、Ito Tomoko、Kiuchi Masato、Karahashi Kazuhiro、Wenzel Wolfgang、Hamaguchi Satoshi
    • 雑誌名

      Journal of Vacuum Science & Technology A

      巻: 38 号: 2 ページ: 022610-022610

    • DOI

      10.1116/1.5127532

    • 関連する報告書
      2020 実績報告書
    • 査読あり / オープンアクセス / 国際共著
  • [雑誌論文] Formation and desorption of nickel hexafluoroacetylacetonate Ni(hfac)2 on a nickel oxide surface in atomic layer etching processes2020

    • 著者名/発表者名
      Basher Abdulrahman H.、Krstic Marjan、Fink Karin、Ito Tomoko、Karahashi Kazuhiro、Wenzel Wolfgang、Hamaguchi Satoshi
    • 雑誌名

      Journal of Vacuum Science & Technology A

      巻: 38 号: 5 ページ: 052602-052602

    • DOI

      10.1116/6.0000293

    • 関連する報告書
      2020 実績報告書
    • 査読あり / オープンアクセス / 国際共著
  • [雑誌論文] Self-limiting processes in thermal atomic layer etching of nickel by hexafluoroacetylacetone2020

    • 著者名/発表者名
      A. H. Basher, I. Hamada, and S. Hamaguchi
    • 雑誌名

      Jpn J. Appl. Phys.

      巻: 59 号: 9 ページ: 1-3

    • DOI

      10.35848/1347-4065/aba9a7

    • NAID

      120006953382

    • 関連する報告書
      2020 実績報告書
    • 査読あり / オープンアクセス / 国際共著
  • [学会発表] Mechanisms of Thermal Atomic Layer Etching (ALE) of Nickel by Acetylacetone (acacH) Molecules2021

    • 著者名/発表者名
      Abdulrahman H. Basher, M. Krstic, T. Takeuchi, T. Ito, M. Kiuchi, K. Karahashi, W. Wenzel, and S. Hamaguchi
    • 学会等名
      SVC TechCon 2021
    • 関連する報告書
      2021 実績報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] Mechanisms of Self Limiting Processes in Thermal Atomic Layer Etching of Nickel by beta-diketones2021

    • 著者名/発表者名
      Abdulrahman H. Basher, I. Hamada, T. Ito, K. Karahashi, and S. Hamaguchi
    • 学会等名
      ALD/ALE 2021
    • 関連する報告書
      2021 実績報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] Mechanisms of Thermal Atomic Layer Etching (ALE) for Metals2021

    • 著者名/発表者名
      Abdulrahman H. Basher, M. Krstic, T. Takeuchi, T. Ito, K. Fink, M. Kiuchi, K. Karahashi, W. Wenzel, and S. Hamaguchi
    • 学会等名
      1st Workshop on Artificial Intelligence in Plasma Science Satellite Workshop of EU-Japan Joint Symposium on Plasma Processing
    • 関連する報告書
      2021 実績報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] Mechanisms of Thermal Atomic Layer Etching (ALE) of Metal by β-Diketones2021

    • 著者名/発表者名
      Abdulrahman H. Basher, I. Hamada, M. Krstic, T. Ito, K. Karahashi, W. Wenzel, and S. Hamaguchi
    • 学会等名
      AVS 67 Virtual Symposium
    • 関連する報告書
      2021 実績報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] Mechanisms of Thermal Etching of Magnesium Oxide (MgO) by Hexafluoroacetylacetone (hfacH)2021

    • 著者名/発表者名
      Abdulrahman H. Basher, M. Krstic, W. Wenzel, and S. Hamaguchi
    • 学会等名
      at the 12th EU-Japan Joint Symposium on Plasma Processing (JSPP-12)
    • 関連する報告書
      2020 実績報告書
    • 国際学会

URL: 

公開日: 2020-07-07   更新日: 2024-03-26  

サービス概要 検索マニュアル よくある質問 お知らせ 利用規程 科研費による研究の帰属

Powered by NII kakenhi