| 研究課題/領域番号 |
20J23393
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| 研究種目 |
特別研究員奨励費
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 応募区分 | 国内 |
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| 審査区分 |
小区分33020:有機合成化学関連
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| 研究機関 | 京都大学 |
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研究代表者 |
山岸 拓幹 京都大学, 理学研究科, 特別研究員(DC1)
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| 研究期間 (年度) |
2020-04-24 – 2023-03-31
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| 研究課題ステータス |
完了 (2022年度)
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| 配分額 *注記 |
2,500千円 (直接経費: 2,500千円)
2022年度: 800千円 (直接経費: 800千円)
2021年度: 800千円 (直接経費: 800千円)
2020年度: 900千円 (直接経費: 900千円)
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| キーワード | シリルシラノラート / シリル化 / パラジウム / シリル銅 / ヒドロシリル化反応 / シリル基 |
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| 研究開始時の研究の概要 |
本研究では新たなシリル化反応の開発に取り組む。ケイ素化合物は材料化学、医薬品化学の分野から注目を集める化合物であり、その合成法は発展途上である。
本研究の予備検討にて、ケイ素源として「ジシラノラート」がシリルメタル前駆体の有力候補となることを発見した。ジシラノラートは従来のケイ素源と比べ優れた性質を有しており、さらなるその反応性等の解明が求められる。しかし、ジシラノラートの一般的かつ実用的な合成法は報告されていない。そこでジシラノラートの合成法の開発、さらに、ジシラノラートを用いたシリル化反応の開発を行う。
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| 研究実績の概要 |
これまでの研究を通して、ジメチルシリルシラノラートがパラジウムや銅などの遷移金属触媒存在下高いシリル基供与能を示すシリル化剤として働くことを明らかにした。一方で、その原料のジクロロテトラメチルジシランに由来した構造的制約から、ジメチルシリルシラノラートを用いた場合には少なくとも2つ以上メチル基が置換したシリル基しか導入できなかった。そこで、この課題を克服すべく、ジフェニルシリルシラノラートを新たに着想した。ジフェニルシリルシラノラートは対応するクロロシランとアミノジフェニルシリルリチウムとの間でのケイ素-ケイ素結合形成を鍵として合成できると考えた。種々の検討の結果、事前に調製したジフェニルアミノシリルリチウムをクロロシランに作用させ対応するアミノジシランを系中で発生させたのち、アミノジシランを加水分解し続けて脱プロトン化することで、ジフェニルシリルシラノラートを合成する手法を確立した。本合成法を用いることで、クロロシランに由来する多様なシリル基を供与可能できるジフェニルシリルシラノラートを合成できた。実際にジフェニルシリルシラノラートをパラジウム触媒存在下臭化アリールのシリル化反応に適用したところ、導入されるシリル基の立体的、電子的性質にかかわらず、目的のシリル化体が良好な収率で得られることを見いだした。従来シリル化剤を用いた場合には導入が難しいトリイソプロピルシリル基や、クロロメチル部位を有するシリル基も導入できた。
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| 現在までの達成度 (段落) |
令和4年度が最終年度であるため、記入しない。
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| 今後の研究の推進方策 |
令和4年度が最終年度であるため、記入しない。
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