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希釈窒化物半導体ナノワイヤによる電流注入通信帯域レーザの開発

研究課題

研究課題/領域番号 20J23437
研究種目

特別研究員奨励費

配分区分補助金
応募区分国内
審査区分 小区分21050:電気電子材料工学関連
研究機関愛媛大学

研究代表者

行宗 詳規  愛媛大学, 理工学研究科, 特別研究員(DC1)

研究期間 (年度) 2020-04-24 – 2023-03-31
研究課題ステータス 完了 (2021年度)
配分額 *注記
3,100千円 (直接経費: 3,100千円)
2021年度: 1,000千円 (直接経費: 1,000千円)
2020年度: 1,100千円 (直接経費: 1,100千円)
キーワードナノワイヤ / 化合物半導体 / 希釈窒化物
研究開始時の研究の概要

現在使用されている光ファイバ通信用レーザは温度依存性が高く,冷却システムを必要としている.そこで,温度安定性の高いレーザが開発できれば,冷却にかかるコストの削減が可能となり,通信に必要となるエネルギーの大幅な削減が可能である.本研究では,GaInNAs及びGaInAsSbを用いた1.3,1.5μmの電流注入ナノワイヤレーザの開発に取り組む.

研究実績の概要

本年度は発光波長の長波長化に着目した.前年度に引き続きSi基板上のSiO2膜にナノスケール開口部を作製した加工基板による実験とBiを添加した新材料ナノワイヤについての実験も行った.具体的に行ったことは以下の通りである.
①昨年度作製した,加工基板上のGaNAsナノワイヤの詳細な構造分析を行った.その結果,ナノワイヤにみられる六角形構造とシェルの形成が確認できた.さらに,昨年報告した「Polytypism in GaAs/GaNAs core-shell nanowires」と同様に,ウルツ鋼構造の減少の再現性が確認できた.
②Biを添加したGaNAsBiシェルを持つナノワイヤ成長を行った.その結果,室温で1350nmまでの長波長化に成功した.GaNAsで使用した温度ではBiが導入されないことが確認された.GaNAsBi層で低温成長を行うことによりBiが導入され,発光波長が長波長化した.また,Biを導入した時にこれまで起こっていた表面の乱れも確認された.Nのみでは1080nmまでの長波長化しかできなかったが,Biを加えることで大幅な長波長化に成功した.
③前年度 Nのみを導入した試料を作製したため,本年度は加工基板上にInを添加したGaAs/GaInNAs/GaAsコア-シェルナノワイヤの成長を行った.また,成長レートを昨年度の1/3に設定し,より低レートでの成長を試みた.その結果,一部パターンにおいて,成長方向が一定で,パターン通りにナノワイヤが成長した.Inを添加したことによる長波長化が確認され,その発光波長は室温で最長1270nmであった.その発光強度は昨年の3倍となった.In添加時にみられた構造の乱れは,シェル成長時にAs供給量を増加させることで確認されなかった.昨年度よりも長波長化に成功し,1300nm帯のGaInNAsナノワイヤを実現した.

現在までの達成度 (段落)

翌年度、交付申請を辞退するため、記入しない。

今後の研究の推進方策

翌年度、交付申請を辞退するため、記入しない。

報告書

(2件)
  • 2021 実績報告書
  • 2020 実績報告書
  • 研究成果

    (3件)

すべて 2021 2020

すべて 雑誌論文 (2件) (うち国際共著 1件、 査読あり 2件) 学会発表 (1件)

  • [雑誌論文] Molecular beam epitaxial growth of GaAs/GaNAsBi core?multishell nanowires2021

    • 著者名/発表者名
      Okujima Masahiro、Yoshikawa Kohei、Mori Shota、Yukimune Mitsuki、Richards Robert D.、Zhang Bin、Chen Weimin M.、Buyanova Irina A.、Ishikawa Fumitaro
    • 雑誌名

      Applied Physics Express

      巻: 14 号: 11 ページ: 115002-115002

    • DOI

      10.35848/1882-0786/ac32a7

    • 関連する報告書
      2021 実績報告書
    • 査読あり / 国際共著
  • [雑誌論文] Polytypism in GaAs/GaNAs core?shell nanowires2020

    • 著者名/発表者名
      Yukimune M、Fujiwara R、Mita T、Ishikawa F
    • 雑誌名

      Nanotechnology

      巻: 31 号: 50 ページ: 505608-505608

    • DOI

      10.1088/1361-6528/abb904

    • 関連する報告書
      2020 実績報告書
    • 査読あり
  • [学会発表] 分子線エピタキシーによる2インチSi基板上へのGaAsナノワイヤの成長2020

    • 著者名/発表者名
      行宗 詳規
    • 学会等名
      第40回電子材料シンポジウム
    • 関連する報告書
      2020 実績報告書

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公開日: 2020-07-07   更新日: 2024-03-26  

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