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宇宙空間・廃炉現場での動作を可能とする超低損失パワーFETの創出

研究課題

研究課題/領域番号 20K04595
研究種目

基盤研究(C)

配分区分基金
応募区分一般
審査区分 小区分21060:電子デバイスおよび電子機器関連
研究機関金沢大学

研究代表者

川江 健  金沢大学, 電子情報通信学系, 准教授 (30401897)

研究分担者 岡崎 宏之  国立研究開発法人量子科学技術研究開発機構, 高崎量子応用研究所 先端機能材料研究部, 主任研究員 (90637886)
研究期間 (年度) 2020-04-01 – 2023-03-31
研究課題ステータス 完了 (2022年度)
配分額 *注記
4,290千円 (直接経費: 3,300千円、間接経費: 990千円)
2022年度: 1,300千円 (直接経費: 1,000千円、間接経費: 300千円)
2021年度: 1,170千円 (直接経費: 900千円、間接経費: 270千円)
2020年度: 1,820千円 (直接経費: 1,400千円、間接経費: 420千円)
キーワードダイヤモンド / 強誘電体 / 電界効果トランジスタ / パワーデバイス / ガンマ線照射 / 強誘電体ゲート電界効果トランジスタ / 放射線
研究開始時の研究の概要

本研究では、ダイヤモンドとBFOを融合したFeFETパワーデバイスを開発し、過酷環境での動作を実証する。研究遂行により、放射線照射および高温環境に対するFeFETの耐性限界の要因と解決策を明らかにし、静止軌道および廃炉現場を想定した環境耐性(ガンマ線トータルドーズ:1000Gy/10年、動作温度:300℃)の獲得に向けて以下の研究項目に取り組む。
【①】FeFETパワーデバイスの作製技術の確立(令和2年度)
【②】過酷環境下におけるデバイス動作の検証(令和2~3年度)
【③】動作限界の要因同定と解決策の検討(令和3~4年度)

研究成果の概要

本研究では、ワイドギャップ半導体ダイヤモンドと強誘電体Pb(Zr,Ti)O3(PZT)ゲートから成る電界効果トランジスタ(FeFET)を形成し、その過酷環境動作に関する検証を実施した。
予備検証としてワイドギャップ半導体ZnOをチャネルとしたFeFETに対するγ線照射を実施し、デバイス特性の主な劣化要因を調査した。次に、ダイヤモンドチャネルおよびPZTゲートに対する高強度γ線照射を実施し、最大ドーズ量15.4kGyにおいても特性劣化が生じない事を実証した。
以上の結果より過酷環境動作に対するダイヤモンドFeFETの優位性が明らかとなり、当該構造を用いたパワーデバイス開発に資するものと考える。

研究成果の学術的意義や社会的意義

宇宙空間・廃炉現場といった過酷環境下における電気エネルギーの有効活用に資する新しいパワーデバイスとして、強誘電体をゲートとした電界効果トランジスタ(FeFET)を提案し、その過酷環境動作を検証した。
ダイヤモンドと無機強誘電体で構成するFeFETは、宇宙環境で想定される高強度γ線照射に対して、他材料系で構成されるデバイスと比して非常に優れた耐性を有している事を明らかにした。この結果は、全世界で精力的に進められている宇宙開発・産業育成に対し、本研究が明らかにした新たなデバイス構造に関する知見が学術的成果のみならず人類社会の発展に大きく貢献するものである。

報告書

(4件)
  • 2022 実績報告書   研究成果報告書 ( PDF )
  • 2021 実施状況報告書
  • 2020 実施状況報告書
  • 研究成果

    (14件)

すべて 2023 2022 2021 2020

すべて 雑誌論文 (3件) (うち国際共著 1件、 査読あり 3件) 学会発表 (9件) (うち国際学会 1件、 招待講演 1件) 図書 (1件) 産業財産権 (1件)

  • [雑誌論文] エッチング装置・薬液を必要としない,酸化物薄膜の微細加工技術2022

    • 著者名/発表者名
      川江健
    • 雑誌名

      化学工業

      巻: 73 ページ: 109-115

    • 関連する報告書
      2022 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Radiation resistance of diamond FeFET with inorganic ferroelectric gate2022

    • 著者名/発表者名
      T. Kawae, H. Okazaki, T. Yamaki
    • 雑誌名

      QST Takasaki Annual Report 2021

      巻: QST-M-39 ページ: 43-43

    • 関連する報告書
      2022 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Selective Growth and Micropatterning Technique for Oxide Thin Films by Sacrificial a-CaO Layer2021

    • 著者名/発表者名
      Antoro Iwan Dwi、Kawae Takeshi
    • 雑誌名

      ECS Journal of Solid State Science and Technology

      巻: 10 号: 8 ページ: 083005-083005

    • DOI

      10.1149/2162-8777/ac1c9d

    • 関連する報告書
      2021 実施状況報告書
    • 査読あり / 国際共著
  • [学会発表] ダイヤモンド基板上へのPb(Zr,Ti)O3を用いたMFIS構造の作製2022

    • 著者名/発表者名
      高橋克弥、松本 翼、徳田規夫、川江 健
    • 学会等名
      強的秩序とその操作に関わる第15回 夏の学校
    • 関連する報告書
      2022 実績報告書
  • [学会発表] 強誘電体キャパシタに対する高強度ガンマ線照射耐性の検証2022

    • 著者名/発表者名
      高橋克弥、水戸守輝、山河智哉、松本 翼、徳田規夫、岡崎宏之、八巻徹也、川江 健
    • 学会等名
      第6回 有機・無機エレクトロニクスシンポジウム
    • 関連する報告書
      2022 実績報告書
  • [学会発表] 自己配向LaNiO3薄膜上へのペロブスカイト酸化物多層膜の気相合成2022

    • 著者名/発表者名
      芦原凜太郎、河原正美、川江 建
    • 学会等名
      第83回 応用物理学会 秋季学術講演会
    • 関連する報告書
      2022 実績報告書
  • [学会発表] BHF処理を施したSrTiO3基板に対する水リフトオフプロセスの検討2022

    • 著者名/発表者名
      梶谷亮介、川江 建
    • 学会等名
      第83回 応用物理学会 秋季学術講演会
    • 関連する報告書
      2022 実績報告書
  • [学会発表] 自己配向LaNiO3薄膜 を用いたペロブスカイト酸化物の気相合成2022

    • 著者名/発表者名
      芦原凜太郎、河原正美、川江 建
    • 学会等名
      強的秩序とその操作に関わる研究グループ 第13回 研究会
    • 関連する報告書
      2022 実績報告書
  • [学会発表] CSD法によるLaNiO3薄膜の自己配向成長と成膜条件の相関2021

    • 著者名/発表者名
      芦原凛太郎、河原正美、岡崎宏之、山本春也、川江 健
    • 学会等名
      第82回 応用物理学会 秋季学術講演会
    • 関連する報告書
      2021 実施状況報告書
  • [学会発表] Selective growth and micropatterning technique for oxide thin films by sacrificial a-CaO layer2021

    • 著者名/発表者名
      Iwan Dwi Antoro, and Takeshi Kawae
    • 学会等名
      強的秩序とその操作に関わる研究会 第12回講演会
    • 関連する報告書
      2020 実施状況報告書
  • [学会発表] Sr3Al2O6を用いたペロブスカイト酸化物薄膜の異種基板上への転写プロセスの検討2021

    • 著者名/発表者名
      橋本 歩、玉村 達哉、川江 健
    • 学会等名
      強的秩序とその操作に関わる研究会 第12回講演会
    • 関連する報告書
      2020 実施状況報告書
  • [学会発表] Inspection of pseudo normally-off operation of ferroelectric gate diamond FET2020

    • 著者名/発表者名
      Takeshi Kawae
    • 学会等名
      4th International Seminar on Metallurgy and Materials 2020 Invitation
    • 関連する報告書
      2020 実施状況報告書
    • 国際学会 / 招待講演
  • [図書] 月刊「化学工業」2022

    • 著者名/発表者名
      川江健
    • 総ページ数
      7
    • 出版者
      化学工業社
    • 関連する報告書
      2021 実施状況報告書
  • [産業財産権] 酸化物膜のパターン形成方法2023

    • 発明者名
      川江健, 梶谷亮介, 後閑拓也, 大澤信
    • 権利者名
      川江健, 梶谷亮介, 後閑拓也, 大澤信
    • 産業財産権種類
      特許
    • 産業財産権番号
      2023-026832
    • 出願年月日
      2023
    • 関連する報告書
      2022 実績報告書

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公開日: 2020-04-28   更新日: 2024-01-30  

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