| 研究課題/領域番号 |
20K18524
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| 研究種目 |
若手研究
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| 配分区分 | 基金 |
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| 審査区分 |
小区分57030:保存治療系歯学関連
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| 研究機関 | 東京医科歯科大学 |
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研究代表者 |
佐藤 隆明 東京医科歯科大学, 大学院医歯学総合研究科, 講師 (90778432)
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| 研究期間 (年度) |
2020-04-01 – 2024-03-31
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| 研究課題ステータス |
完了 (2023年度)
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| 配分額 *注記 |
4,160千円 (直接経費: 3,200千円、間接経費: 960千円)
2022年度: 1,690千円 (直接経費: 1,300千円、間接経費: 390千円)
2021年度: 1,300千円 (直接経費: 1,000千円、間接経費: 300千円)
2020年度: 1,170千円 (直接経費: 900千円、間接経費: 270千円)
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| キーワード | 歯科 / 接着 / ジルコニア / イオン注入 / 接着強さ / 歯質接着 / 接着界面 / イオン注入法 / 歯学 |
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| 研究開始時の研究の概要 |
様々な問題から、歯科の被せ物・詰め物（＝歯冠修復材料）は旧来の金属主体のものからメタルフリーへの転換が図られている。物性に優れたジルコニアは、審美性に優れた超高透光性ジルコニアが開発されるなど近年臨床での普及が著しい。臨床でジルコニア材を歯科治療用の材料として用いる際、脱離しないよう接着させる必要がある。
本研究ではイオン注入という技術を、歯冠修復治療に用いるジルコニア材料の表層改質・高機能化に利用を試みる。
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| 研究成果の概要 |
イオン注入を行う際には、注入するイオンの種類を選択して、注入するイオンの注入深度を電圧により調整する必要がある。各種イオンを様々な条件で注入した試料を引張強さ試験に供したところ、Siイオンが歯科用レジンセメントとジルコニア板との接着強さを有意に向上させることを明らかにした。また、注入量と接着強さは比例関係にはなく、単位面積当たり一定量のイオン量を注入するとその接着強さが限界に達することが明らかになった。得られたデータから、最表層に付着したイオンではなく、10～数十nmジルコニアの内側に注入されたイオンが、接着に寄与している可能性が示唆された。
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| 研究成果の学術的意義や社会的意義 |
半導体分野では生産プロセスのキーテクノロジーとなっているイオン注入技術を、歯冠修復治療に用いるジルコニア材料の表層改質・高機能化に利用する試みである。近年、臨床での普及が著しい歯科用ジルコニアに関する研究が世界的に盛んに行われているが、その接着に関して課題が残されている。本研究で着目するイオン注入は、安定した接着技術を患者へ提供することができるようになるという社会的意義があると考えている。
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