| 研究課題/領域番号 |
21245008
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| 研究種目 |
基盤研究(A)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
物理化学
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| 研究機関 | 京都大学 |
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研究代表者 |
鈴木 俊法 京都大学, 大学院・理学研究科, 教授 (10192618)
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| 研究分担者 |
小城 吉寛 理化学研究所, 分子反応ダイナミクス研究チーム, 基幹研究所研究員 (60339108)
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| 研究期間 (年度) |
2009 – 2011
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| 研究課題ステータス |
完了 (2011年度)
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| 配分額 *注記 |
10,270千円 (直接経費: 7,900千円、間接経費: 2,370千円)
2011年度: 6,370千円 (直接経費: 4,900千円、間接経費: 1,470千円)
2010年度: 3,900千円 (直接経費: 3,000千円、間接経費: 900千円)
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| キーワード | 励起酸素原子 / メタン / 交差分子線 / 化学反応 / メチルラジカル / 散乱 / 画像観測 / レーザー / 酸素原子 / 微分散乱断面積 / OHラジカル |
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| 研究概要 |
O(1D_2) とメタンの反応で生成するメチルラジカルの量子状態を選択し散乱分布を測定した。引き抜き反応障壁の高さを CH_4 と CD_4 について0.7±0.3および0.8±0.1 kcal/mol と決定した. CH_4 の挿入反応中間体の回転が速いもにもかかわらず生成物の角度分布が前方に偏っていること、またCD_4 との反応ではメチルラジカルの速度が散乱角に依存するのに対して、CH_4では依存しないことからCH_3OH中間体の寿命がCD_3OD よりも短く振動モード間の結合も弱いことがわかった。
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