| 研究課題/領域番号 |
21246115
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| 研究種目 |
基盤研究(A)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
金属生産工学
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| 研究機関 | 東京大学 |
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研究代表者 |
前田 正史 東京大学, 生産技術研究所, 教授 (70143386)
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| 研究分担者 |
岡部 徹 東京大学, 生産技術研究所, 教授 (00280884)
永井 崇 千葉工業大学, 工学部, 准教授 (40533633)
大蔵 隆彦 (大藏 隆彦) 東京大学, 生産技術研究所, 特任教授 (00400523)
佐々木 秀顕 東京大学, 生産技術研究所, 特任助教 (10581746)
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| 研究期間 (年度) |
2009 – 2011
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| 研究課題ステータス |
完了 (2011年度)
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| 配分額 *注記 |
45,240千円 (直接経費: 34,800千円、間接経費: 10,440千円)
2011年度: 8,970千円 (直接経費: 6,900千円、間接経費: 2,070千円)
2010年度: 16,120千円 (直接経費: 12,400千円、間接経費: 3,720千円)
2009年度: 20,150千円 (直接経費: 15,500千円、間接経費: 4,650千円)
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| キーワード | 高純度化 / 太陽電池 / シリコン |
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| 研究概要 |
太陽電池の原料となる高純度シリコンをより小さなエネルギーコストで製造するために,溶融シリコンからリンとボロンを同時に除去するプロセスの開発を行なった.高真空下でシリコンを電子ビームで溶解しながら酸素および水蒸気を吹き込み,リンおよびボロンを揮発除去する方法を探索した.これら反応性ガスの吹き込みによってリン除去が促進されるとともに,ボロンが酸化揮発する可能性が示された.不純物が揮発除去される反応について知見を得るために,ガス導入を可能としたダブルクヌーセンセル質量分析法を開発し,シリコン-リン合金およびボロンから発生する蒸発種の同定および定量的評価を行った.
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