研究課題/領域番号 |
21350047
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研究種目 |
基盤研究(B)
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配分区分 | 補助金 |
応募区分 | 一般 |
研究分野 |
分析化学
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研究機関 | 東京工業大学 (2010-2012) (財)高輝度光科学研究センター (2009) |
研究代表者 |
原田 誠 (2010-2012) 東京工業大学, 大学院・理工学研究科, 助教 (60313326)
谷田 肇 (2009) (財)高輝度光科学研究センター, 利用研究促進部門, 副主幹研究員 (70301760)
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研究分担者 |
瀧上 隆智 九州大学, 理学(系)研究科(研究院), 准教授 (40271100)
永谷 広久 金沢大学, 物質化学系, 准教授 (90346297)
原田 誠 東京工業大学, 理工学研究科, 助教 (60313326)
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研究期間 (年度) |
2009 – 2012
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研究課題ステータス |
完了 (2012年度)
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配分額 *注記 |
18,980千円 (直接経費: 14,600千円、間接経費: 4,380千円)
2012年度: 3,120千円 (直接経費: 2,400千円、間接経費: 720千円)
2011年度: 2,730千円 (直接経費: 2,100千円、間接経費: 630千円)
2010年度: 5,850千円 (直接経費: 4,500千円、間接経費: 1,350千円)
2009年度: 7,280千円 (直接経費: 5,600千円、間接経費: 1,680千円)
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キーワード | XAFS / 液液界面 / 全反射 / 反射率測定 / 電位規制界面 / 反射率 / 界面吸着 / 偏光X線解析 |
研究概要 |
X線吸収分光法の一種であるX線吸収微細構造(XAFS)法に着目し、液液界面に執着した分子やイオンの構造を解析するために、液液界面全反射蛍光XAFS法を開発し、その測定セルを開発・改良した。この装置を用いて、臭化ドデシルトリメチルアンモニウム(DTAB)水溶液-ヘキサン界面に吸着した臭化物イオンの界面濃度を測定されたXAFSスペクトルのジャンプ量から見積もった。液液界面に対するシンクロトロン放射光の偏光面を水平方向と垂直方向に調整することによって、疎水性の金属錯体であるテトラフェニルポルフィリン亜鉛(II)錯体(ZnTPP)の配向について検討した。
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