| 研究課題/領域番号 |
21360055
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| 研究種目 |
基盤研究(B)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
機械材料・材料力学
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| 研究機関 | 名城大学 |
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研究代表者 |
田中 啓介 名城大学, 理工学部, 教授 (80026244)
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| 研究分担者 |
來海 博央 名城大学, 理工学部, 教授 (30324453)
藤山 一成 名城大学, 理工学部, 教授 (20410772)
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| 研究期間 (年度) |
2009 – 2011
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| 研究課題ステータス |
完了 (2011年度)
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| 配分額 *注記 |
18,980千円 (直接経費: 14,600千円、間接経費: 4,380千円)
2011年度: 3,510千円 (直接経費: 2,700千円、間接経費: 810千円)
2010年度: 4,420千円 (直接経費: 3,400千円、間接経費: 1,020千円)
2009年度: 11,050千円 (直接経費: 8,500千円、間接経費: 2,550千円)
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| キーワード | ニッケルナノ結晶 / 疲労強度 / き裂進展 / 電着法 / 結晶X線評価 / 材料力学 / 疲労 / 破壊力学 / 薄膜 / ナノ結晶 / 疲労損傷機構 / 微視力学 |
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| 研究概要 |
スルファミン酸ニッケル浴を用いて、電着条件を制御することによりサブミクロンから10nmまでの所定の結晶粒径を有する均質膜の創製が可能となった。陰極に研磨したステンレス板を使用することにより自立膜を得ることができた。結晶粒径のナノ結晶への微細化は疲労き裂発生に対しては強度向上をもたらすのに対して、き裂進展に対しては逆に低下をもたらす。粒径が約15nm以下の領域での疲労機構には粒界の影響が大きい。
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