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デジタルナノパターニング技術開拓のための水酸化フラーレン分子加工原理に関する研究

研究課題

研究課題/領域番号 21360064
研究種目

基盤研究(B)

配分区分補助金
応募区分一般
研究分野 生産工学・加工学
研究機関大阪大学

研究代表者

高谷 裕浩  大阪大学, 大学院・工学研究科, 教授 (70243178)

研究分担者 林 照剛  大阪大学, 大学院・工学研究科, 准教授 (00334011)
道畑 正岐  大阪大学, 大学院・工学研究科, 助教 (70588855)
連携研究者 小久保 研  大阪大学, 大学院・工学研究科, 講師 (20304008)
研究期間 (年度) 2009 – 2011
研究課題ステータス 完了 (2011年度)
配分額 *注記
19,630千円 (直接経費: 15,100千円、間接経費: 4,530千円)
2011年度: 2,730千円 (直接経費: 2,100千円、間接経費: 630千円)
2010年度: 4,290千円 (直接経費: 3,300千円、間接経費: 990千円)
2009年度: 12,610千円 (直接経費: 9,700千円、間接経費: 2,910千円)
キーワード水酸化フラーレン / 加工機能性超微粒子 / ナノデジタルパターニング / 材料除去過程 / 分子加工原理 / 表面増強ラマン散乱法 / 加工現象計測・解析 / 超短パルスレーザー
研究概要

本研究において独自に開発された,水酸化フラーレンによる銅薄膜のナノ研磨加工技術および光応用ナノ加工表面計測技術によって,分子レベルの加工現象解析を行った.それによって得られた化学的材料除去過程の知見に基づき,フラーレン単分子加工現象の化学反応過程を制御することにより,フラーレン1分子を加工機能性超微粒子として利用するナノデジタルパターニングの加工制御が実現できる可能性を見いだした.

報告書

(4件)
  • 2011 実績報告書   研究成果報告書 ( PDF )
  • 2010 実績報告書
  • 2009 実績報告書
  • 研究成果

    (21件)

すべて 2012 2011 2010 2009

すべて 雑誌論文 (6件) (うち査読あり 3件) 学会発表 (15件)

  • [雑誌論文] Chemical mechanical polishing of patterned copper wafer surface using water-soluble fullerenol slurry2011

    • 著者名/発表者名
      Yasuhiro Takaya, Hirotaka Kishida, Terutake Hayashi, Masaki Michihata, Ken Kokubo
    • 雑誌名

      CIRP Annals-Manufacturing Technology

      巻: Vol.60, Issue1 ページ: 567-570

    • 関連する報告書
      2011 研究成果報告書
  • [雑誌論文] Chemical mechanical polishing of patterend copper wafer surface using water-soluble fullerenol slurry2011

    • 著者名/発表者名
      Yasuhiro Takaya, Hirotaka Kishida, Terutake Hayashi, Masaki Michihata
    • 雑誌名

      Annals of the CIRP

      巻: Vol.60 ページ: 567-570

    • 関連する報告書
      2011 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Performance of water-soluble fullerenol as novel functional molecular abrasive grain for polishing nanosurfaces2009

    • 著者名/発表者名
      Yasuhiro Takaya, Hideaki Tachika, Terutake Hayashi, Ken Kokubo, Keisuke Suzuki
    • 雑誌名

      The 59th CIRP general assembly, CIRP Annals. Manufacturing Technology

      巻: Vol.58, Issue1 ページ: 495-498

    • 関連する報告書
      2011 研究成果報告書
  • [雑誌論文] 水酸化フラーレンスラリーを用いたCu-CMP加工法に関する研究-研磨特性の検証-2009

    • 著者名/発表者名
      田近英之, 高谷裕浩, 林照剛, 田名田祐樹, 小久保研, 鈴木恵友
    • 雑誌名

      精密工学会誌論文集,精密工学会誌

      巻: Vol.75, No.4 ページ: 489-495

    • NAID

      130000421625

    • 関連する報告書
      2011 研究成果報告書
  • [雑誌論文] 水酸化フラーレンスラリーを用いたCu-CMP加工に関する研究2009

    • 著者名/発表者名
      田近英之, 高谷裕浩, 林照剛, 田名田祐樹, 小久保研, 鈴木恵友
    • 雑誌名

      精密工学会誌 Vol.75 No.4

      ページ: 489-495

    • 関連する報告書
      2009 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Performance of water-soluble fullerenol as novel functional molecular abrasive grain for polishing nanosurfaces2009

    • 著者名/発表者名
      Yasuhiro Takaya, Hideaki Tachika, Terutake Hayashi, Ken Kokubo, Keisuke Suzuki
    • 雑誌名

      CIRP Annals 1巻

      ページ: 495-498

    • 関連する報告書
      2009 実績報告書
    • 査読あり
  • [学会発表] 水酸化フラーレンを用いたCu-CMPにおける化学反応過程の解明(第一報)-In-situラマン分光分析装置の開発ー2012

    • 著者名/発表者名
      鹿野和昌, 高谷裕浩, 林照剛, 道畑正岐, 小久保研
    • 学会等名
      精密工学会, 2012年度精密工学会春季大会学術講演会講演論文集
    • 発表場所
      首都大学東京
    • 年月日
      2012-03-15
    • 関連する報告書
      2011 研究成果報告書
  • [学会発表] 水酸化フラーレンを用いたCu-CMPにおける化学反応過程の解明(第1報)-in-situラマン分光分析装置の開発-2012

    • 著者名/発表者名
      鹿野和昌
    • 学会等名
      2012年度精密工学会春季大会学術講演会
    • 発表場所
      首都大学東京南大沢キャンパス(東京都)
    • 年月日
      2012-03-15
    • 関連する報告書
      2011 実績報告書
  • [学会発表] In Situ Raman Analysis of Chemical Reaction for Copper CMP Using Water-soluble Fullerenol2011

    • 著者名/発表者名
      Kazumasa Kano, Yasuhiro Takaya, Terutake Hayashi, Masaki Michihata and Ken Kokubo
    • 学会等名
      Asian Symposium for Precision Engineering and Nanotechnology 2011
    • 発表場所
      China, Hong Kong
    • 年月日
      2011-11-17
    • 関連する報告書
      2011 研究成果報告書
  • [学会発表] In situ Raman analysis of chemical reaction for copper CMP using water-soluble fullerenol2011

    • 著者名/発表者名
      Kazumasa Kano
    • 学会等名
      ASPEN 2011 4th International Conference of Asian Society for Precision Engineering and Nanotechnology
    • 発表場所
      Hong Kong (China)
    • 年月日
      2011-11-16
    • 関連する報告書
      2011 実績報告書
  • [学会発表] 水酸化フラーレンを用いたCu-CMP加工に関する研究(第3報)-パターンウエハの研磨特製の評価-2011

    • 著者名/発表者名
      岸田裕貴, 高谷裕浩, 林照剛, 道畑正岐, 小久保研
    • 学会等名
      精密工学会春季大会学術講演会講演論文集
    • 発表場所
      東洋大学
    • 関連する報告書
      2011 研究成果報告書
  • [学会発表] Weakly Copper-Fullerenol Layer on Chemical Mechanical Polishing Using Water Soluble Fullerenol2010

    • 著者名/発表者名
      Hirotaka kishida
    • 学会等名
      Proceedings of 25^<th> ASPE 2010 Annual Meeting
    • 発表場所
      USA (Atlanta)
    • 年月日
      2010-11-03
    • 関連する報告書
      2010 実績報告書
  • [学会発表] Weakly Copper-Fullerenol Layer on Chemical Mechanical Polishing Using Water Soluble Fullerenol, Proc2010

    • 著者名/発表者名
      Hirotaka Kishida, Yasuhiro Takaya, Terutake Hayashi, Masaki Michihata, Ken Kokubo
    • 学会等名
      2010 American Society for Precision Engineering(ASPE)
    • 発表場所
      Atlanta, USA
    • 年月日
      2010-11-02
    • 関連する報告書
      2011 研究成果報告書
  • [学会発表] 水酸化フラーレンを用いたCu-CMP加工における表面反応層の形成2010

    • 著者名/発表者名
      岸田裕貴, 高谷裕浩, 林照剛, 道畑正岐, 小久保研
    • 学会等名
      2010年度精密工学会秋季大会学術講演会講演論文集(JSPE)
    • 発表場所
      名古屋大学
    • 年月日
      2010-09-27
    • 関連する報告書
      2011 研究成果報告書
  • [学会発表] 水酸化フラーレンを用いたCu-CMP加工における表面反応層の形成2010

    • 著者名/発表者名
      岸田浩貴
    • 学会等名
      2010年度精密工学会秋季大会学術講演会
    • 発表場所
      名古屋大学(名古屋)
    • 年月日
      2010-09-27
    • 関連する報告書
      2010 実績報告書
  • [学会発表] Verification of Generation and Removal Process of Surface Brittle Film, In Polishing Water Soluble Fullerenol, Proc2010

    • 著者名/発表者名
      Kazumasa Kano, Terutake Hayashi, Yasuhiro Takaya, Ken Kokubo
    • 学会等名
      10th International Symposium on Measurement and Quality Control(ISMQC)
    • 発表場所
      Osaka, Japan
    • 年月日
      2010-09-08
    • 関連する報告書
      2011 研究成果報告書
  • [学会発表] 水酸化フラーレンにおける脆性膜の生成および除去過程の検討2010

    • 著者名/発表者名
      鹿野和昌, 高谷裕浩, 林照剛
    • 学会等名
      精密工学会2010年度関西地方定期学術講演会
    • 発表場所
      京都大学
    • 年月日
      2010-05-28
    • 関連する報告書
      2011 研究成果報告書
  • [学会発表] 水酸化フラーレンにおける脆性膜の生成および除去過程の検討2010

    • 著者名/発表者名
      鹿野和昌
    • 学会等名
      精密工学会2010年度関西地方定期学術講演会
    • 発表場所
      京都大学(京都)
    • 年月日
      2010-05-28
    • 関連する報告書
      2010 実績報告書
  • [学会発表] Effect of Fullerene Poly-hydroxide on Cu-CMP Process2009

    • 著者名/発表者名
      Hirotaka Kishida, Terutake hayashi, Yasuhiro Takaya
    • 学会等名
      The 5th International Conference on Leading Edge Manufacturing in 21st
    • 発表場所
      Century, Japan
    • 年月日
      2009-12-03
    • 関連する報告書
      2011 研究成果報告書
  • [学会発表] Effect of Fullerene Poly-hydroxide on Cu-CMP Process2009

    • 著者名/発表者名
      Hirotaka KISHIDA
    • 学会等名
      3^rd International Conference of Asian Society for Precision Engineering and Nanotechnology
    • 発表場所
      大阪大学(大阪)
    • 年月日
      2009-11-03
    • 関連する報告書
      2009 実績報告書
  • [学会発表] Performance of water-soluble fullerenol as novel functional molecular abrasive grain for polishing nanosurfaces2009

    • 著者名/発表者名
      Yasuhiro Takaya, Hideaki Tachika, Terutake Hayashi, Ken Kokubo, Keisuke Suzuki
    • 学会等名
      The 59th CIRP general assembly
    • 発表場所
      Boston, USA
    • 年月日
      2009-08-26
    • 関連する報告書
      2011 研究成果報告書

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公開日: 2009-04-01   更新日: 2016-04-21  

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