| 研究課題/領域番号 |
21360317
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| 研究種目 |
基盤研究(B)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
無機材料・物性
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| 研究機関 | 東京工業大学 |
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研究代表者 |
中島 章 東京工業大学, 大学院・理工学研究科, 教授 (00302795)
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| 研究分担者 |
磯部 敏宏 東京工業大学, 大学院・理工学研究科, 助教 (20518287)
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| 研究期間 (年度) |
2009 – 2011
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| 研究課題ステータス |
完了 (2011年度)
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| 配分額 *注記 |
17,940千円 (直接経費: 13,800千円、間接経費: 4,140千円)
2011年度: 3,380千円 (直接経費: 2,600千円、間接経費: 780千円)
2010年度: 5,720千円 (直接経費: 4,400千円、間接経費: 1,320千円)
2009年度: 8,840千円 (直接経費: 6,800千円、間接経費: 2,040千円)
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| キーワード | 表面 / 酸化チタン / 親水性 / 光触媒 / ヘテロポリ酸 / 暗所維持性 / ルチル / 摩擦力 / AFM / 水膜 / 接触角 / 線張力 |
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| 研究概要 |
各種酸化チタンとプローブ顕微鏡システムを用いて、紫外線照射により酸化チタンに生じる高度な親水性表面での水分子の吸着状態や、材料の形態、組織等が親水性に与える影響を検討した。ルチルセラミックスを用いた検討から、紫外線照射での親水化の初期は吸着有機物の酸化分解が、高度な親水化には水分子の光吸着が、それぞれ親水化に関与していることが明らかになった。また粒界の影響は少なく、表面に形成される水膜の厚さは概ね2-3 nm程度であることが示唆された。さらにブルッカイトにヘテロポリ酸を組み合わせた系が光誘起親水性とその暗所維持性が優れることを見出し、親水点が表面に点在した構造の効果であることが考えられた。
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