| 研究課題/領域番号 |
21360318
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| 研究種目 |
基盤研究(B)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
無機材料・物性
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| 研究機関 | 東京工業大学 |
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研究代表者 |
八島 正知 東京工業大学, 大学院・理工学研究科, 教授 (00239740)
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| 研究分担者 |
石原 達己 九州大学, 工学研究院, 教授 (80184555)
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| 研究期間 (年度) |
2009 – 2011
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| 研究課題ステータス |
完了 (2011年度)
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| 配分額 *注記 |
17,940千円 (直接経費: 13,800千円、間接経費: 4,140千円)
2011年度: 3,900千円 (直接経費: 3,000千円、間接経費: 900千円)
2010年度: 4,420千円 (直接経費: 3,400千円、間接経費: 1,020千円)
2009年度: 9,620千円 (直接経費: 7,400千円、間接経費: 2,220千円)
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| キーワード | 結晶構造解析 / 酸素透過能 / 混合伝導体 / 電子密度解析 / 中性子回折 |
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| 研究概要 |
ガリウム,ランタンと銅を適当量含むプラセオジムニッケル酸化物(Pr_<0. 9> La_<0. 1>)_2(Ni_<0. 74> Cu_<0. 21> Ga_<0. 05>) O_<4+δ>が高い酸素透過率と電子伝導度を有する構造的要因を原子・電子レベルで研究した。高温中性子回折法により、酸化物イオンは、格子間酸素を介して二次元的に移動することがわかった。格子間酸素を介した酸化物イオンの移動が高い酸素透過性の要因である。
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