| 研究課題/領域番号 |
21360362
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| 研究種目 |
基盤研究(B)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
材料加工・処理
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| 研究機関 | 大阪大学 |
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研究代表者 |
平田 好則 大阪大学, 大学院工学研究科, 教授 (00116089)
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| 研究分担者 |
西山 宏昭 北海道大学, 電子科学研究所, 准教授 (80403153)
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| 研究期間 (年度) |
2009 – 2011
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| 研究課題ステータス |
完了 (2011年度)
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| 配分額 *注記 |
17,940千円 (直接経費: 13,800千円、間接経費: 4,140千円)
2011年度: 2,990千円 (直接経費: 2,300千円、間接経費: 690千円)
2010年度: 2,990千円 (直接経費: 2,300千円、間接経費: 690千円)
2009年度: 11,960千円 (直接経費: 9,200千円、間接経費: 2,760千円)
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| キーワード | プラズマ処理 / レーザ加工 / マイクロ放電 / 微細電極 / プラズマ / グロー / パワー密度 / 電解研磨 / アーク / 半導体加工プロセス / アークプラズマ / 表面加工 / フェムト秒レーザ / エッチング |
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| 研究概要 |
放電電流経路を狭窄させる窒化ケイ素(BN)ノズルと直流放電用の高速・高電圧電源を試作し,細径プラズマビームを発生させる方法を開発した.本試作装置によるプラズマビームはパワー密度10^9W/ m^2以上に達し,ステンレス鋼陽極に直径0. 1mmの溶融スポットを形成することができた.さらに,プラズマサイズを微細化するため, BNのプラズマエッチング特性の評価および非線形光リソグラフィの高度化を行った. NLDプラズマによって, Cuマスク越しにBNのエッチングを行い, 2. 5μm/ hの除去レートを得た.
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