| 研究課題/領域番号 |
21360392
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| 研究種目 |
基盤研究(B)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
触媒・資源化学プロセス
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| 研究機関 | 東京工業大学 |
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研究代表者 |
和田 雄二 東京工業大学, 大学院・理工学研究科, 教授 (40182985)
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| 研究分担者 |
望月 大 東京工業大学, 大学院・理工学研究科, 助教 (90434315)
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| 研究期間 (年度) |
2009 – 2011
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| 研究課題ステータス |
完了 (2011年度)
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| 配分額 *注記 |
17,940千円 (直接経費: 13,800千円、間接経費: 4,140千円)
2011年度: 3,380千円 (直接経費: 2,600千円、間接経費: 780千円)
2010年度: 3,380千円 (直接経費: 2,600千円、間接経費: 780千円)
2009年度: 11,180千円 (直接経費: 8,600千円、間接経費: 2,580千円)
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| キーワード | 触媒・化学 / 表面・界面物性 / 省エネルギー / エネルギー効率化 / マイクロ波 / 非平衡局所加熱 / 触媒 / 三元系金属ナノ粒子 / マイクロ波加熱 / ヘテロナノ構造 / 局所加熱 |
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| 研究概要 |
マイクロ波は狭いエネルギー分布を持つ電磁波であり、照射される物質のマイクロ波領域での吸収能の違いによって物質を選択的に加熱することができる。中でも固体と液体からなる不均一系では高いマイクロ波吸収性の固体がマイクロ波照射で選択的に加熱され、その表面は周囲の溶媒温度よりも高温になると考えられる。この高温な表面は反応場として機能することが期待できる。本研究では、ラマン分光をマイクロ波照射下in situで行い、固体表面に発生する非平衡局所加熱の直接観測に成功した。さらに、固体の選択加熱によって形成する高温の表面を化学反応場として利用し、化学反応促進効果が得られることを示した。
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