| 配分額 *注記 |
4,940千円 (直接経費: 3,800千円、間接経費: 1,140千円)
2011年度: 1,430千円 (直接経費: 1,100千円、間接経費: 330千円)
2010年度: 1,430千円 (直接経費: 1,100千円、間接経費: 330千円)
2009年度: 2,080千円 (直接経費: 1,600千円、間接経費: 480千円)
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| 研究概要 |
新規三脚型四座配位子E[C_6H_4(2-YR)]_3 [1_<EYR> : E = P, Si^-; Y = O, S, Se,CH_2S (mS); R = i-Pr (Pr), t-Bu (Bu)]を有する二価10 族金属錯体を合成し,その性質を系統的に明らかにした。さらに,ジメチルパラジウム錯体[PdMe_2(1_<PSPr>)]および空配位座を有するカチオン性イリジウム錯体 [IrH(1_<SimSBu>)]ClO_4の合成に成功した。これらの錯体は,反応活性であることが期待され,N_2, CO_2などの小分子との反応性に興味が持たれる。
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