| 研究課題/領域番号 |
21550076
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| 研究種目 |
基盤研究(C)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
分析化学
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| 研究機関 | 福岡工業大学 (2010-2011)
福井大学 (2009) |
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研究代表者 |
呉 行正 福岡工業大学, 工学部, 教授 (70234961)
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| 研究分担者 |
寺田 聡 福井大学, 大学院・工学研究科, 准教授 (60311685)
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| 研究期間 (年度) |
2009 – 2011
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| 研究課題ステータス |
完了 (2011年度)
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| 配分額 *注記 |
4,940千円 (直接経費: 3,800千円、間接経費: 1,140千円)
2011年度: 1,300千円 (直接経費: 1,000千円、間接経費: 300千円)
2010年度: 1,170千円 (直接経費: 900千円、間接経費: 270千円)
2009年度: 2,470千円 (直接経費: 1,900千円、間接経費: 570千円)
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| キーワード | 計測 / 細胞 / 酸化ストレス / 活性酸素 / プローブ光の偏向 / 電気泳動 / 化学発光 |
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| 研究概要 |
本研究は単一細胞レベルで酸化ストレスの計測を目指していた。まずプローブ光の偏向測定法で単一細胞の過酸化水素のような酸化ストレス応答を測定した。次に、自作したキャピラリー電気泳動-レーザー蛍光検出法により単一細胞内の活性酸素を定量した。さらに、ルミノール化学発光法による細胞中の活性酸素の定量も行った。培養したHeG2細胞をモデル細胞として検討した。
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