| 研究課題/領域番号 |
21550082
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| 研究種目 |
基盤研究(C)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
分析化学
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| 研究機関 | 広島大学 |
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研究代表者 |
早川 慎二郎 広島大学, 大学院・工学研究院, 准教授 (80222222)
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| 研究期間 (年度) |
2009 – 2011
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| 研究課題ステータス |
完了 (2011年度)
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| 配分額 *注記 |
4,940千円 (直接経費: 3,800千円、間接経費: 1,140千円)
2011年度: 520千円 (直接経費: 400千円、間接経費: 120千円)
2010年度: 1,040千円 (直接経費: 800千円、間接経費: 240千円)
2009年度: 3,380千円 (直接経費: 2,600千円、間接経費: 780千円)
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| キーワード | 電気化学 / 薄膜電極 / 銅めっき / 蛍光X線分析 / 腐食 / 臭化物イオン / XAFS測定 / ストリッピングボルタンメトリー / 蛍光X線 / 銀電極 |
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| 研究概要 |
有機薄膜上に真空蒸着した金や白金の薄膜を作用電極に用いる電気化学セルを開発し、X線を背面照射する配置で電極表面の蛍光X線測定を実現した。ポテンシオ・ガルバノスタットをPCから外部制御し、作用電極の電位を変えながら蛍光X線測定を行うシステムを構築した。このシステムを用いて、作用電極上で銅めっき膜の形成およびストリップを制御し、臭化物イオン共存下で電極表面近傍への臭化物イオンの濃縮を蛍光X線検出した。
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