| 配分額 *注記 |
4,810千円 (直接経費: 3,700千円、間接経費: 1,110千円)
2011年度: 1,170千円 (直接経費: 900千円、間接経費: 270千円)
2010年度: 1,690千円 (直接経費: 1,300千円、間接経費: 390千円)
2009年度: 1,950千円 (直接経費: 1,500千円、間接経費: 450千円)
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| 研究概要 |
長年,高温高圧下でのみ進行することが知られていた様々なカルボン酸誘導体の直接水素化反応を,極めて穏和な条件下に進行させうる新たな触媒を開発した.さらにこの触媒が分子性である利点を生かし,高度なキラル修飾を通じて新規な不斉水素化反応を実現した.その結果,他法では得難いキラル化合物の効率的創出が可能となった.また本水素化反応の触媒活性が,反応系に共存する塩基の効果によって劇的に向上することについて詳しく調べた.
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