| 研究課題/領域番号 |
21560042
|
|---|
| 研究種目 |
基盤研究(C)
|
| 配分区分 | 補助金 |
|---|
| 応募区分 | 一般 |
|---|
| 研究分野 |
応用光学・量子光工学
|
|---|
| 研究機関 | 九州大学 |
|---|
研究代表者 |
興 雄司 九州大学, 大学院・システム情報科学研究院, 准教授 (10243908)
|
|---|
| 研究分担者 |
渡辺 博文 (渡邉 博文) 九州大学, 大学院・システム情報科学研究院, 助教 (30363386)
宮崎 真佐也 九州大学, 大学院・総合理工学研究院, 客員准教授 (70344231)
|
|---|
| 研究期間 (年度) |
2009 – 2011
|
| 研究課題ステータス |
完了 (2011年度)
|
| 配分額 *注記 |
4,550千円 (直接経費: 3,500千円、間接経費: 1,050千円)
2011年度: 1,300千円 (直接経費: 1,000千円、間接経費: 300千円)
2010年度: 1,430千円 (直接経費: 1,100千円、間接経費: 330千円)
2009年度: 1,820千円 (直接経費: 1,400千円、間接経費: 420千円)
|
|---|
| キーワード | レーザー / 光導波路 / プリンタブルデバイス / PDMS / ポリマー / 色素レーザー / 有機光学材料 / ディスペンス / プリタブルデバイス / ジメチルシロキサン / インプリント / プリンタブルエレクトロニクス / 光ファイバー |
|---|
| 研究概要 |
新しい矩形断面導波路作製技術として、ディスペンサーとスタンプを利用してプレポリマーを成型しつつ描画するDS法を提案し、開発を行った。スタンプと描画対象基板に対し、描画する材料の接着性の制御が重要で有り、メタクリル酸メチル系半重合ポリマーを利用した本研究では、Si系高精度エラストマーであるポリジメチルシロキサンがスタンプとして利用できる事を見いだした。基板であるメタクリル酸メチルとの接着性・濡れ性のアンバランスな環境でも、100μm程度であれば材料の侵入が期待でき、導波路の側面も表面張力に従わない切り立った側壁が可能であった。
|
