配分額 *注記 |
4,550千円 (直接経費: 3,500千円、間接経費: 1,050千円)
2011年度: 910千円 (直接経費: 700千円、間接経費: 210千円)
2010年度: 1,560千円 (直接経費: 1,200千円、間接経費: 360千円)
2009年度: 2,080千円 (直接経費: 1,600千円、間接経費: 480千円)
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研究概要 |
水上放電プラズマを用いた揮発性有機化合物分解技術の確立のため,水上放電の性質,ラジカルの生成および汚染物質の分解について調査した。放電状態を把握するため,水上放電プラズマの発光を分光分析し,Ar-O_2およびN_2-O_2混合ガス中での電子温度および電子密度を導出した。また、in-situ IRAS(Infrared Absorption Spectroscopy)によるラジカル計測システムを構築し水面上で発生させた大気圧コロナ放電プラズマで生成されるラジカル等を計測し、HO_2ラジカルの生成を確認した。水上パルス放電によるフェノールの分解生成物を特定し,得られた結果からフェノールの分解過程を推定した
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