| 研究課題/領域番号 |
21560705
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| 研究種目 |
基盤研究(C)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
無機材料・物性
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| 研究機関 | 独立行政法人物質・材料研究機構 |
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研究代表者 |
鈴木 達 独立行政法人物質・材料研究機構, 先端材料プロセスユニット, 主幹研究員 (50267407)
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| 研究分担者 |
打越 哲郎 独立行政法人物質・材料研究機構, 先端材料プロセスユニット, グループリーダー (90354216)
目 義雄 独立行政法人物質・材料研究機構, 先端材料プロセスユニット, ユニット長 (00354217)
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| 研究期間 (年度) |
2009 – 2011
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| 研究課題ステータス |
完了 (2011年度)
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| 配分額 *注記 |
4,680千円 (直接経費: 3,600千円、間接経費: 1,080千円)
2011年度: 1,300千円 (直接経費: 1,000千円、間接経費: 300千円)
2010年度: 1,300千円 (直接経費: 1,000千円、間接経費: 300千円)
2009年度: 2,080千円 (直接経費: 1,600千円、間接経費: 480千円)
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| キーワード | コロイドプロセス / 強磁場 / 電気泳動堆積 / 結晶配向 / 積層構造 / 分散制御 / サスペンション / 亀裂偏向 / セラミックス / 電気泳動堆積法 / 配向 / 積層 / アルミナ / 亀裂進展 / セラミック |
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| 研究概要 |
セラミックスにおいて、機能に即した微構造とするために層状構造と結晶方位を組み合わせることは有用である。本研究においては、残留応力の導入と劈開面の方位による亀裂偏向に着眼し、単一組成での靭性などを改善するための微構造組織をデザインすることを目指した。層厚と配向方位により残留応力を制御することで、亀裂の偏向角が制御可能であることを実証した。また、破壊形態が亀裂進行方向に依存して変化することが見出された。
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