研究課題/領域番号 |
21560726
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研究種目 |
基盤研究(C)
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配分区分 | 補助金 |
応募区分 | 一般 |
研究分野 |
構造・機能材料
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研究機関 | 東京理科大学 |
研究代表者 |
西尾 圭史 東京理科大学, 基礎工学部, 准教授 (90307710)
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連携研究者 |
郡司 天博 東京理科大学, 理工学部, 准教授 (20256663)
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研究期間 (年度) |
2009 – 2011
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研究課題ステータス |
完了 (2011年度)
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配分額 *注記 |
4,940千円 (直接経費: 3,800千円、間接経費: 1,140千円)
2011年度: 1,040千円 (直接経費: 800千円、間接経費: 240千円)
2010年度: 1,040千円 (直接経費: 800千円、間接経費: 240千円)
2009年度: 2,860千円 (直接経費: 2,200千円、間接経費: 660千円)
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キーワード | 水素センサー / クロミズム / 光 / 電気 / シナージーセンサー / シナジーセンサー |
研究概要 |
本課題ではゾル.ゲル法を用いてガスクロミック現象を示すPt-WO3薄膜の作製と、その構造と水素ガス検知性能の相関性を明らかとし、水素ガス漏洩検知センサーへの応用を目的とした。その結果、薄膜の結晶化度を制御することで100ppmから5%までの濃度を短時間で検出することに成功した。これらの結果より、ゾル.ゲル法で作製したPt-WO3薄膜の水素検知センサーへの応用が期待できる結果を得た。
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