極短パルスコヒーレント光による半導体の超高速キャリア励起と相変化に関する研究

• 研究課題/領域番号: 21560762
• 研究種目: 基盤研究(C)
• 配分区分: 補助金
• 応募区分: 一般
• 研究分野: 材料加工・処理
• 研究機関: (財)レーザー技術総合研究所
• 研究代表者: 藤田 雅之 (財)レーザー技術総合研究所, レーザープロセス研究チーム, 主席研究員 (30260178)
• 連携研究者: 染川 智弘 (財)レーザー技術総合研究所, レーザープロセス研究チーム, 研究員 (00508442)
• 研究期間 (年度): 2009 – 2011
• 研究課題ステータス: 完了 (2011年度)
• 配分額: 4,550千円 (直接経費: 3,500千円、間接経費: 1,050千円); 2011年度: 1,430千円 (直接経費: 1,100千円、間接経費: 330千円); 2010年度: 1,430千円 (直接経費: 1,100千円、間接経費: 330千円); 2009年度: 1,690千円 (直接経費: 1,300千円、間接経費: 390千円)
• キーワード: 結晶・組織制御 / レーザー加工

研究概要

フェムト秒レーザーを加工閾値近傍で試料に照射すると、波長オーダーの周期的な微細構造が形成され、材料表面でのコヒーレント光と物質の相互作用に関する知見が得られる。本研究では、SiCとAl-Si合金を試料として半導体の相変化に伴う微細周期構造の変化、アブレーションレートの変化を定量的に取得し、超高速キャリア励起の時間スケールおよびキャリア励起に伴う実効的光侵入長の短縮を明らかにした。

研究成果

• [雑誌論文] フェムト秒レーザーが切り開く新しい微細加工技術 (2012)
  • 著者名/発表者名: 藤田雅之
  • 雑誌名: 応用物理 巻: 81巻 ページ: 380-385
  • NAID: 10030594594
  • 査読あり
• [学会発表] レーザープロセシングの現状とこれから (2011)
  • 著者名/発表者名: 藤田雅之
  • 学会等名: 日本光学会年次学術講演会(招待講演)
  • 発表場所: 大阪大学コンベンションセンター
  • 年月日: 2011-11-29
• [学会発表] レーザープロセシングの現状とこれから (2011)
  • 著者名/発表者名: 藤田雅之
  • 学会等名: 日本光学会年次学術講演会
  • 発表場所: 大阪大学コンベンションセンター(招待講演)
  • 年月日: 2011-11-29
• [学会発表] 複合・多層材料のレーザー加工 (2010)
  • 著者名/発表者名: 藤田雅之
  • 学会等名: 第74回レーザ加工学会
  • 発表場所: 東京大学生産技術研究所
  • 年月日: 2010-12-07
• [学会発表] 4H-SiCのフェムト秒ダブルパルスレーザーによる周期構造形成 (2010)
  • 著者名/発表者名: 染川智弘、濱村隆司、藤田雅之, 他
  • 学会等名: 第71回応用物理学会学術講演会
  • 発表場所: 長崎大学
  • 年月日: 2010-09-15
• [備考]
  • URL: http://ilt.or.jp/
• [備考]
  • URL: http://www.ilt.or.jp/
• [備考]
  • URL: http://www.ilt.or.jp/
• [備考]
  • URL: http://www.ilt.or.jp/