| 研究課題/領域番号 |
21560790
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| 研究種目 |
基盤研究(C)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
反応工学・プロセスシステム
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| 研究機関 | 福井大学 |
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研究代表者 |
飛田 英孝 福井大学, 大学院・工学研究科, 教授 (30237101)
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| 研究期間 (年度) |
2009 – 2011
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| 研究課題ステータス |
完了 (2011年度)
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| 配分額 *注記 |
4,680千円 (直接経費: 3,600千円、間接経費: 1,080千円)
2011年度: 910千円 (直接経費: 700千円、間接経費: 210千円)
2010年度: 910千円 (直接経費: 700千円、間接経費: 210千円)
2009年度: 2,860千円 (直接経費: 2,200千円、間接経費: 660千円)
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| キーワード | 重合プロセス / 分離・反応工学 / 触媒・化学プロセス / 化学工学 / 高分子合成 / 構造・機能材料 |
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| 研究概要 |
各種の制御/リビングラジカル重合(CLRP)を200nm程度以下の微小反応場において行った場合の速度論的特徴を解明した。CLRPの重合速度を統一的に記述できる速度式を導出し、これを用いて微小反応場におけるバルク重合速度との違いが「一分子濃度効果」「統計的濃度揺らぎ効果」と名付けた2つの効果に基づいて説明できることを示すとともに、バルク重合とは顕著に異なる重合速度を示し始める閾値となる液滴径を簡便な式により提示した。
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