| 研究課題/領域番号 |
21604003
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| 研究種目 |
基盤研究(C)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
量子ビーム
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| 研究機関 | 東京大学 |
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研究代表者 |
畑中 耕治 東京大学, 大学院・理学系研究科, 准教授 (90312545)
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| 研究期間 (年度) |
2009 – 2011
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| 研究課題ステータス |
完了 (2011年度)
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| 配分額 *注記 |
4,810千円 (直接経費: 3,700千円、間接経費: 1,110千円)
2011年度: 910千円 (直接経費: 700千円、間接経費: 210千円)
2010年度: 910千円 (直接経費: 700千円、間接経費: 210千円)
2009年度: 2,990千円 (直接経費: 2,300千円、間接経費: 690千円)
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| キーワード | X線 / 水溶液 / フェムト秒レーザー / チャープ / 強光子場 / アブレーション / パルスX線 / 表面構造 / ダブルパルス / 衝撃波 / 時間分解 / イメージング |
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| 研究概要 |
これまで照射するレーザーや溶液の各種パラメーターに応じて発生するX線の強度・スペクトルが大きく変化することを見いだしていた。本研究ではこれまでの研究をさらに推し進め、水溶液表面が物理・化学的に異なる条件下でパルスX線発生実験を行い、その際メインパルスのチャープを変化させて実験を行うことで、強光子場と水溶液との相互作用機構に関する理解をさらに深めるばかりでなく、応用を指向した新たな光源の可能性を探る。
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