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凝縮相における熱化電子の大きさの研究

研究課題

研究課題/領域番号 21656238
研究種目

挑戦的萌芽研究

配分区分補助金
研究分野 原子力学
研究機関大阪大学

研究代表者

古澤 孝弘  大阪大学, 産業科学研究所, 教授 (20251374)

研究分担者 山本 洋揮  大阪大学, 産業科学研究所, 助教 (00516958)
研究期間 (年度) 2009 – 2011
研究課題ステータス 完了 (2011年度)
配分額 *注記
3,170千円 (直接経費: 2,900千円、間接経費: 270千円)
2011年度: 1,170千円 (直接経費: 900千円、間接経費: 270千円)
2010年度: 1,000千円 (直接経費: 1,000千円)
2009年度: 1,000千円 (直接経費: 1,000千円)
キーワード放射線 / X線 / 粒子線 / 原子・分子物理 / 原子力エネルギー / 計算物理 / 放射線、X線、粒子線
研究概要

高分子フィルム中における熱化電子の拡がりを明らかにするとともに、電離放射線入射直後の熱化電子と電子捕捉剤の反応の定式化を行い、イオン化による二次電子放出から熱化過程および熱化から電子が局在化するまでの間の電子の反応のシミュレーションを可能とした。

報告書

(4件)
  • 2011 実績報告書   研究成果報告書 ( PDF )
  • 2010 実績報告書
  • 2009 実績報告書
  • 研究成果

    (25件)

すべて 2011 2010 2009 その他

すべて 雑誌論文 (18件) (うち査読あり 18件) 学会発表 (6件) 備考 (1件)

  • [雑誌論文] Geminate Charge Recombination in Liquid Alkane with Concentrated CCl4 : Effects of CCl4 Radical Anion and Narrowing of Initial Distribution of Cl-2011

    • 著者名/発表者名
      A.Saeki, N.Yamamoto, Y.Yoshida, T.Kozawa
    • 雑誌名

      J.Phys.Chem.A

      巻: 115 号: 36 ページ: 10166-10173

    • DOI

      10.1021/jp205989r

    • 関連する報告書
      2011 実績報告書 2011 研究成果報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Determination of Optimum Thermalization Distance Based on Trade-off Relationship between Resolution, Line Edge Roughness, and Sensitivity of Chemically Amplified Extreme Ultraviolet Resists2011

    • 著者名/発表者名
      T. Kozawa and S. Tagawa
    • 雑誌名

      J. Photopolym. Sci. Technol

      巻: 24巻 ページ: 137-142

    • NAID

      130004833385

    • 関連する報告書
      2011 研究成果報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Thermalization Distance of Electrons Generated in Poly(4-hydroxystyrene) Film Containing Acid Generator upon Exposure to Extreme Ultraviolet Radiation2011

    • 著者名/発表者名
      T. Kozawa and S. Tagawa
    • 雑誌名

      Jpn. J. Appl. Phys

      巻: 50巻 号: 3R ページ: 30209-30209

    • DOI

      10.1143/jjap.50.030209

    • NAID

      210000070073

    • 関連する報告書
      2011 実績報告書 2011 研究成果報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Determination of Optimum Thermalization Distance Based on Trade-off Relationship between Resolution, Line Edge Roughness, and Sensitivity of Chemically Amplified Extreme Ultraviolet Resists2011

    • 著者名/発表者名
      T.Kozawa, S.Tagawa
    • 雑誌名

      J.Photopolym.Sci.Technol.

      巻: 24 ページ: 137-142

    • NAID

      130004833385

    • 関連する報告書
      2011 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Radiation Chemistry in Chemically Amplified Resists2010

    • 著者名/発表者名
      T. Kozawa and S. Tagawa
    • 雑誌名

      Jpn. J. Appl. Phys

      巻: 49巻 号: 3R ページ: 30001-30001

    • DOI

      10.1143/jjap.49.030001

    • NAID

      40017033684

    • 関連する報告書
      2011 研究成果報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Radiation Chemistry of Fluoronaphthalene as a Candidate for Absorption Enhancement Component of Chemically Amplified Extreme Ultraviolet Resists2010

    • 著者名/発表者名
      S. Ikeda, K. Okamoto, H. Yamamoto, A. Saeki, S. Tagawa, T. Kozawa
    • 雑誌名

      Jpn. J. Appl. Phys

      巻: 49巻 号: 9R ページ: 96504-96504

    • DOI

      10.1143/jjap.49.096504

    • NAID

      40017294753

    • 関連する報告書
      2011 研究成果報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Formation and Decay of Fluorobenzene Radical Anions Affected by Their Isomeric Structures and the Number of Fluorine Atoms2010

    • 著者名/発表者名
      S. Higashino, A. Saeki, K. Okamoto, S. Tagawa, T. Kozawa
    • 雑誌名

      J. Phys. Chem. A

      巻: 114巻 号: 31 ページ: 8069-8074

    • DOI

      10.1021/jp102828g

    • 関連する報告書
      2011 研究成果報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Formation and Decay of Fluorobenzene Radical Anions Affected by Their Isomeric Structures and the Number of Fluorine Atoms2010

    • 著者名/発表者名
      S.Higashino, A.Saeki, K.Okamoto, S.Tagawa, T.Kozawa
    • 雑誌名

      J.Phys.Chem.A

      巻: 114 ページ: 8069-8074

    • 関連する報告書
      2010 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Radiation Chemistry of Fluoronbphthalene as a Candidate for Absorption Enhancement Component of Chemically Amplified Extreme Ultraviolet Resists2010

    • 著者名/発表者名
      S.Ikeda, K.Okamoto, H.Yamamoto, A.Saeki, S.Tagawa, T.Kozawa
    • 雑誌名

      Jpn.J.Appl.Phys.

      巻: 49 ページ: 96504-96504

    • 関連する報告書
      2010 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Radiation Chemistry in Chemically Amplified Resists2010

    • 著者名/発表者名
      T.Kozawa, S.Tagawa
    • 雑誌名

      Jpn.J.Appl.Phys.

      巻: 49 ページ: 30001-30001

    • NAID

      40017033684

    • 関連する報告書
      2010 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Evaluation of Chemical Gradient Enhancement Methods for Chemically Amplified Extreme Ultraviolet Resists2009

    • 著者名/発表者名
      T. Kozawa, H. Oizumi, T. Itani, and S. Tagawa
    • 雑誌名

      Jpn. J. Appl. Phys

      巻: 48巻 号: 12 ページ: 126004-126004

    • DOI

      10.1143/jjap.48.126004

    • NAID

      40016890521

    • 関連する報告書
      2011 研究成果報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Latent Image Created Using Small-Field Exposure Tool for Extreme Ultraviolet Lithography2009

    • 著者名/発表者名
      T. Kozawa, H. Oizumi, T. Itani, and S. Tagawa
    • 雑誌名

      Jpn. J. Appl. Phys

      巻: 48巻 号: 10 ページ: 106506-106506

    • DOI

      10.1143/jjap.48.106506

    • NAID

      40016796079

    • 関連する報告書
      2011 研究成果報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Correlation between C37 Parameters and Acid Yields in Chemically Amplified Resists upon Exposure to 75 keV Electron Beam2009

    • 著者名/発表者名
      K. Natsuda, T. Kozawa, K. Okamoto, A. Saeki, and S. Tagawa
    • 雑誌名

      Jpn. J. Appl. Phys

      巻: 48巻 号: 6S ページ: 06FC05-06FC05

    • DOI

      10.1143/jjap.48.06fc05

    • NAID

      210000066905

    • 関連する報告書
      2011 研究成果報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Reactivity of Halogenated Resist Polymer with Low-Energy Electrons2009

    • 著者名/発表者名
      H. Yamamoto, T. Kozawa, A. Saeki, S. Tagawa, T. Mimura, H. Yukawa, and J. Onodera
    • 雑誌名

      Jpn. J. Appl. Phys

      巻: 48巻 号: 6S ページ: 06FC09-06FC09

    • DOI

      10.1143/jjap.48.06fc09

    • NAID

      210000066909

    • 関連する報告書
      2011 研究成果報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Reactivity of Haloge nated Resist Polymer with Low-Energy Electrons2009

    • 著者名/発表者名
      H.Yamamoto, T.Kozawa, A.Saeki, S.Tagawa, T.Mimura, H.Yukawa, J.Onodera
    • 雑誌名

      Jpn.J.Appl.Phys. 48

      ページ: 6-9

    • 関連する報告書
      2009 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Correlation between C37 Parameters and Acid Yields in Chemically Amplified Resists upon Exposure to 75 keV Electron Beam2009

    • 著者名/発表者名
      K.Natsuda, T.Kozawa, K.Okamoto, A.Saeki, S.Tagawa
    • 雑誌名

      Jpn.J.Appl.Phys. 48

      ページ: 6-5

    • NAID

      210000066905

    • 関連する報告書
      2009 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Latent Image Created Using Small-Field Exposure Tool for Extreme Ultraviolet Lithography2009

    • 著者名/発表者名
      T.Kozawa, H.Oizumi, T.Itani, S.Tagawa
    • 雑誌名

      Jpn.J.Appl.Phys. 48

      ページ: 106506-106506

    • NAID

      40016796079

    • 関連する報告書
      2009 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Evaluation of Chemical Gradient Enhancement Methods for Chemically Amplified Extreme Ultraviolet Resists2009

    • 著者名/発表者名
      T.Kozawa, H.Oizumi, T.Itani, S.Tagawa
    • 雑誌名

      Jpn.J.Appl.Phys. 48

      ページ: 126004-126004

    • NAID

      40016890521

    • 関連する報告書
      2009 実績報告書
    • 査読あり
  • [学会発表] Reaction of thermalized electrons in resist materials2011

    • 著者名/発表者名
      T. Kozawa
    • 学会等名
      14th International Congress of Radiation Research(招待講演)
    • 発表場所
      Warsaw, Poland
    • 年月日
      2011-08-31
    • 関連する報告書
      2011 研究成果報告書
  • [学会発表] Reaction of thermalized electrons in resist materials2011

    • 著者名/発表者名
      T.Kozawa
    • 学会等名
      14th International Congress of Radiation Research
    • 発表場所
      Warsaw, Poland(招待講演)
    • 年月日
      2011-08-31
    • 関連する報告書
      2011 実績報告書
  • [学会発表] Use Efficiency of Photon, Electron, and Proton in Chemically Amplified Resists-Resist Design for Cost Effective Lithography2010

    • 著者名/発表者名
      T. Kozawa
    • 学会等名
      23rd International Microprocesses and Nanotechnology Conference
    • 発表場所
      小倉(福岡)
    • 年月日
      2010-11-12
    • 関連する報告書
      2011 研究成果報告書
  • [学会発表] Use Efficiency of Photon, Electron, and Proton in Chemically Amplified Resists -Resist Design for Cost Effective Lithography2010

    • 著者名/発表者名
      T.Kozawa
    • 学会等名
      23rd International Microprocesses and Nanotechnology Conference
    • 発表場所
      小倉(福岡)
    • 年月日
      2010-11-12
    • 関連する報告書
      2010 実績報告書
  • [学会発表] Dynamics of Radical Cation of Poly(4-hydroxystyrene) Generated in Thin Film upon Exposure to Electron Beam2010

    • 著者名/発表者名
      K. Natsuda, T. Kozawa, K. Okamoto, A. Saeki, and S. Tagawa
    • 学会等名
      SPIE Advanced Lithography
    • 発表場所
      San Jose, California, USA
    • 年月日
      2010-02-22
    • 関連する報告書
      2011 研究成果報告書 2009 実績報告書
  • [学会発表] Modeling and simulation of chemically amplified resists for EUV lithography2009

    • 著者名/発表者名
      T. Kozawa and S. Tagawa
    • 学会等名
      7th Fraunhofer IISB Lithography Simulation Workshop
    • 発表場所
      Hersbruck, Germany
    • 年月日
      2009-09-27
    • 関連する報告書
      2011 研究成果報告書 2009 実績報告書
  • [備考]

    • URL

      http://www.sanken.osaka-u.ac.jp/bms/

    • 関連する報告書
      2011 研究成果報告書

URL: 

公開日: 2009-04-01   更新日: 2016-04-21  

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