| 研究課題/領域番号 |
21700493
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| 研究種目 |
若手研究(B)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 研究分野 |
医用生体工学・生体材料学
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| 研究機関 | 東京女子医科大学 |
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研究代表者 |
中山 正道 東京女子医科大学, 医学部, 講師 (00338980)
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| 研究期間 (年度) |
2009 – 2010
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| 研究課題ステータス |
完了 (2010年度)
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| 配分額 *注記 |
3,900千円 (直接経費: 3,000千円、間接経費: 900千円)
2010年度: 1,820千円 (直接経費: 1,400千円、間接経費: 420千円)
2009年度: 2,080千円 (直接経費: 1,600千円、間接経費: 480千円)
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| キーワード | 温度応答性高分子 / ブロックコポリマー / RAFT重合 / 細胞コーティング / 組織工学 / ポリ(N-イソプロピルアクリルアミド) / 細胞 / コーティング / 温度応答性 / ナノ相分離 / 細胞シート |
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| 研究概要 |
温度応答性ブロック共重合体を基板表面に被覆することで、細胞の接着・脱着制御することが可能な温度応答性表面の作製について検討した。コーティング層の高分子量、膜厚および温度応答性高分子の鎖長は細胞の接着・脱着制御に重要な因子であることが明らかとなった。これらの因子を最適化することで、培養皿一面に培養した細胞を温度応答性高分子の相転移温度以下の温度で低温処理することで、シート状の組織として回収することに成功した。
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