超高周波超音波イメージング用配向制御圧電結晶膜トランスデューサの開発

• 研究課題/領域番号: 21700503
• 研究種目: 若手研究(B)
• 配分区分: 補助金
• 研究分野: 医用システム
• 研究機関: 東京工業大学
• 研究代表者: 石河 睦生 東京工業大学, プロダクティブリーダー養成機構, 研究員 (90451864)
• 研究期間 (年度): 2009 – 2010
• 研究課題ステータス: 完了 (2010年度)
• 配分額: 4,550千円 (直接経費: 3,500千円、間接経費: 1,050千円); 2010年度: 910千円 (直接経費: 700千円、間接経費: 210千円); 2009年度: 3,640千円 (直接経費: 2,800千円、間接経費: 840千円)
• キーワード: 超音波医科学 / 圧電 / 超音波トランスデューサ / KNbO_3 / 水熱合成法 / スパッタリング法 / SrRuO_3 / 圧電性結晶膜 / 圧電定数 / 製膜 / 超音波 / トランスデューサ / プローブ / アレイ / 高周波

研究概要

高解像度の医療用超音波画像診断を実現するために、圧電結晶膜を用いて高周波圧電トランスデューサの作製を行う新しい手法を提案した。スパッタリング法と水熱合成法を組み合わせ、圧電性を向上させるために圧電結晶膜の配向制御を行い、コンパクト化と高周波数化も実現した。

研究成果

• [雑誌論文] Effect of deposition time on film thickness and their properties for hydrothermally-grown epitaxial KNbO_3 thick films (2010)
  • 著者名/発表者名: Mutsuo Ishikawa, Hiro Einishi, Mitsumasa Nakajima, Tomohito Hasegawa, Takeshi Morita, Yoshifumi Saijo, Minoru Kurosawa, Hiroshi Funakubo
  • 雑誌名: Jpn.J.Appl.Phys. 49
  • 査読あり
• [雑誌論文] Effect of deposition time on film thickness and their properties for hydrothermally-grown epitaxial KNbO_3 thick films (2010)
  • 著者名/発表者名: Mutsuo Ishikawa, Hiro Einishi, Mitsumasa Nakajima, Tomohito Hasegawa, Takeshi Morita, Yoshifumi Saijo, Minoru Kurosawa, Hiroshi Funakubo
  • 雑誌名: Jpn.J.Appl.Phys. 巻: 49
  • 査読あり
• [雑誌論文] Growth of Epitaxial Potassium Niobate Film on(100)SrRuO_3/(100)SrTiO_3 by Hydrothermal Method and their Electromechanical Properties (2009)
  • 著者名/発表者名: Mutsuo ISHIKAWA, Shintaro YASUI, Satoru UTSUGI, Takashi FUJISAWA, Tomoaki YAMADA, Takeshi MORITA, Minoru KUROSAWA, Hiroshi FUNAKUBO
  • 雑誌名: Mater.Res.Soc.Symp.Proc. Vol.1139
  • 査読あり
• [雑誌論文] Growth of Epitaxial KNbO_3 Thick Films by Hydrothennal Method and Their Characterization (2009)
  • 著者名/発表者名: Mutsuo ISHIKAWA, Keisuke YAZAWA, Shintaro YASUI, Takashi FUJISAWA, Tomohito HASEGAWA, Tomoaki YAMADA, Takeshi MORITA, Minoru KUROSAWA, Hiroshi FUNAKUBO
  • 雑誌名: Jpn.J.Appl.Phys. 48
  • 査読あり
• [学会発表] 水熱合成法を用いた(K Na)NbO3エピタキシャル厚膜の合成と電気的および機械的特性評価 (2010)
  • 著者名/発表者名: 榮西弘、白石貴久、安井伸太郎、石河睦生、黒澤実、舟窪浩
  • 学会等名: 第30回エレクトロセラミックス研究討論会
  • 発表場所: 東京理科大
  • 年月日: 2010-10-29
• [学会発表] Djuth, Deposition of Nb-doped Pb(ZrTi)O3 films by hydrothermal method and their electromechanical properties. (2010)
  • 著者名/発表者名: Mutsuo Ishikawa, Hamid Reza Chabok, Sien-ting Lau, Xiang Li, Ruimin Chen, Takeuchi Shinichi, Minoru Kurosawa, Hiroshi
  • 学会等名: 2010 U.S.Navy Workshop on Acoustic Transduction Materials and Devices
  • 発表場所: The Penn Stater Conference Hotel, State College
  • 年月日: 2010-05-15
• [学会発表] Deposition of Nb-doped Pb(ZrTi)O3 films by hydrothermal method and their electromechanical properties. (2010)
  • 著者名/発表者名: Mutsuo Ishikawa, Hamid Reza Chabok, Sien-ting Lau, Xiang Li, Ruimin Chen, Takeuchi Shinichi, Minoru Kurosawa, Hiroshi Funakubo, Qifa Zhou, Kirk Koping Shung, Frank T.Djuth
  • 学会等名: 2010 U.S.Navy Workshop on Acoustic Transduction Materials and Devices
  • 発表場所: The Penn Stater Conference Hotel, State College
  • 年月日: 2010-05-15
• [学会発表] エピタキシャルKNbO3膜の水熱合成とアニールによる特性改善 (2010)
  • 著者名/発表者名: 榮西弘、石河睦生、山田智明、黒澤実、舟窪浩
  • 学会等名: 第48回セラミックス基礎科学討論会
  • 発表場所: 沖縄コンベンションセンタ
  • 年月日: 2010-01-12
• [学会発表] Djuth, Deposition of Nb-doped Lead Zirconate Titanate Films by Hydrothermal Method and Their Electrical Properties (2010)
  • 著者名/発表者名: Mutsuo Ishikawa, Hamid Reza Chabok, Takeshi Morita, Shinichi Takeuchi, Minoru Kurosawa, Hiroshi Funakubo, Qifa Zhou, Kirk
  • 学会等名: 2010 IEEE International Ultrasonics Symposium (IUS)
  • 発表場所: Town & Country Inn & Convention Center, San Diego
• [学会発表] Low temperature process of functional oxide films for integration on flexible substrates (2010)
  • 著者名/発表者名: Hiroshi Funakubo, Hiro Einishi, Takahisa Shiraishi, Mutsuo Ishikawa, Minoru Kurosawa Koping Shung, Frank T.
  • 学会等名: The 5th International symposium on Integrated Molecular/materials Engineering
  • 発表場所: Wujin, Changzhoui, China
• [学会発表] Low temperature synthesis of epitaxaial KNbO3 thick films grown by hydrothermal Method PZT-BZT materials (2010)
  • 著者名/発表者名: Mutsuo Ishikawa, Hiro Einishi, Tomohito Hasegawa, Takeshi Morita, Minoru Kurosawa, Hiroshi Funakubo
  • 学会等名: 3rdt International Congress on Ceramics (ICC3) Nov.14-18
  • 発表場所: Osaka, Japan
• [学会発表] Hydrothermally deposited PZT films and their electrical properties (2010)
  • 著者名/発表者名: Mutsuo Ishikawa, Takeuchi Shinichi, Minoru Kurosawa, Hiroshi Funakubo, Takeshi Morita Qifa Zhou, Funakubo, Qifa Zhou, Kirk Koping Shung
  • 学会等名: 7th International conference on ultrasonic biomedical microscanning
  • 発表場所: Matusihima Japan
• [学会発表] Deposition of Nb-doped Lead Zirconate Titanate Films by Hydrothermal Method and Their Electrical Properties (2010)
  • 著者名/発表者名: Mutsuo Ishikawa, Hamid Reza Chabok, Takeshi Morita, Shinichi Takeuchi, Minoru Kurosawa, Hiroshi Funakubo, Qifa Zhou, Kirk Koping Shung, Frank T.Djuth
  • 学会等名: 2010 IEEE International Ultrasonics Symposium (IUS)
  • 発表場所: Town & Country Inn & Convention Center, San Diego
• [学会発表] Low temperature synthesis of epitaxaial KNbO3 thick films grown by hydrothermal Method PZT-BZT materials (2010)
  • 著者名/発表者名: Mutsuo Ishikawa, Hiro Einishi, Tomohito Hasegawa, Takeshi Morita, Minoru Kurosawa, Hiroshi Funakubo
  • 学会等名: 3rdt International Congress on Ceramics (ICC3)
  • 発表場所: Osaka, Japan
• [備考] ホームページ等
  • URL: http://www.cc.toin.ac.jp/univ/japanese/02_bm_engin/
• [産業財産権] ペロブスカイト型酸化物膜及びそれを用いた強誘電体膜、強誘電体素子、ペロブスカイト型酸化物膜の製造方法 (2011)
  • 発明者名: 坂下幸雄、舟窪浩、黒澤実、石河睦生、榮西弘、白石貴久
  • 権利者名: 富士フイルム株式会社,国立大学法人東京工業大学
  • 出願年月日: 2011-03-24
• [産業財産権] ペロブスカイト型酸化物膜及びそれを用いた強誘電体膜、強誘電体素子、ベロブスカイト型酸化物膜の製造方法 (2011)
  • 発明者名: 坂下幸雄, 舟窪浩, 黒澤実, 石河睦生, 榮西弘, 白石貴久
  • 権利者名: 富士フィルム株式会社,国立大学法人東京工業大学
  • 産業財産権番号: 2011-065517
  • 出願年月日: 2011-03-24