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大気圧グロープラズマによるポリマー薄膜堆積の効率化に関する研究

研究課題

研究課題/領域番号 21740402
研究種目

若手研究(B)

配分区分補助金
研究分野 プラズマ科学
研究機関上智大学

研究代表者

田中 邦翁  上智大学, 理工学部, 准教授 (60276516)

研究期間 (年度) 2009 – 2010
研究課題ステータス 完了 (2010年度)
配分額 *注記
2,210千円 (直接経費: 1,700千円、間接経費: 510千円)
2010年度: 650千円 (直接経費: 500千円、間接経費: 150千円)
2009年度: 1,560千円 (直接経費: 1,200千円、間接経費: 360千円)
キーワードプラズマ応用 / 大気圧グロープラズマ / 薄膜堆積 / プラズマ重合 / ポリエチレン / 堆積機構
研究概要

本研究では、大気圧グロープラズマを用いたポリマー薄膜堆積において、原料の利用率を高めるための装置設計や処理条件などの指針を得ると共に、可能な限り堆積速度を高めるための指針について検討することを目的とした。その結果、全てのモノマーガスが放電場を通過するような装置設計にし、その上でモノマー1分子あたりに与えるエネルギー量が一定ならば、ガスの放電場に滞留する時間を一定以上にすれば、最高の堆積速度と利用率が得られることが明らかとなった。エチレンの場合では、必要となる滞留時間は1秒であり、利用効率は85%であった。

報告書

(3件)
  • 2010 実績報告書   研究成果報告書 ( PDF )
  • 2009 実績報告書
  • 研究成果

    (4件)

すべて 2010 2009

すべて 雑誌論文 (2件) (うち査読あり 2件) 学会発表 (2件)

  • [雑誌論文] The deposition mechanism of atmospheric pressure glow plasma polymerized hexafluoropropene : Gas phase analysis of HFP plasma2010

    • 著者名/発表者名
      Ren Ozaki, Masuhiro Kogoma, Kunihito Tanaka
    • 雑誌名

      Thin Solid Films 518,13

      ページ: 3566-3569

    • NAID

      120005880829

    • 関連する報告書
      2010 研究成果報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] The deposition mechanism of atmospheric pressure glow plasma polymerized hexafluoropropene : Gas phase analysis of HFP plasma2010

    • 著者名/発表者名
      R.Ozaki, M.Kogoma, K.Tanaka
    • 雑誌名

      Thin Solid Films 518

      ページ: 3566-3569

    • NAID

      120005880829

    • 関連する報告書
      2009 実績報告書
    • 査読あり
  • [学会発表] The deposition mechanism of atmospheric pressure glow plasma polymerized hexafluoropropene : Gas phase analysis of HFP plasma2009

    • 著者名/発表者名
      Ren Ozaki, Masuhiro Kogoma, Kunihito Tanaka
    • 学会等名
      第22回プラズマ材料科学シンポジウム
    • 発表場所
      東京
    • 関連する報告書
      2010 研究成果報告書
  • [学会発表] The deposition mechanism of atmospheric pressure glow plasma polymerized hexafluoropropene : Gas phase analysis of HFP plasma2009

    • 著者名/発表者名
      R.Ozaki, M.Kogoma, K.Tanaka
    • 学会等名
      第22回 プラズマ材料科学シンポジウムSPSM-22
    • 発表場所
      東京大学山上会館
    • 関連する報告書
      2009 実績報告書

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公開日: 2009-04-01   更新日: 2016-04-21  

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