| 研究課題/領域番号 |
21750035
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| 研究種目 |
若手研究(B)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 研究分野 |
有機化学
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| 研究機関 | 東北大学 |
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研究代表者 |
石田 真太郎 東北大学, 大学院・理学研究科, 講師 (90436080)
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| 研究期間 (年度) |
2009 – 2010
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| 研究課題ステータス |
完了 (2010年度)
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| 配分額 *注記 |
4,030千円 (直接経費: 3,100千円、間接経費: 930千円)
2010年度: 2,210千円 (直接経費: 1,700千円、間接経費: 510千円)
2009年度: 1,820千円 (直接経費: 1,400千円、間接経費: 420千円)
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| キーワード | 合成化学 / ラジカル / ナノ材料 / 高周期典型元素 / リン / ホスフィニルラジカル / ESR / 結晶構造解析 / シリル基の転位 / シリルラジカル / ラジカル付加反応 / 機能性材料 / シングレットビラジカル |
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| 研究概要 |
ゾイソプロピルフェニルシリル基を持つ新規長寿命シリルラジカルの発生に成功した。単離には至っていないが、分子内でフェニル基との相互作用が示唆された。
単離可能なジアルキルホスフィニルラジカルの合成に初めて成功し、結晶中単量体であること、不対電子がリン上に局在化していることを各種スペクトルおよび結晶構造解析により確認した。また高い反応性を有していることを明らかにした。
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