| 研究課題/領域番号 |
21760018
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| 研究種目 |
若手研究(B)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 研究分野 |
応用物性・結晶工学
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| 研究機関 | 独立行政法人産業技術総合研究所 |
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研究代表者 |
中島 智彦 独立行政法人産業技術総合研究所, 先進製造プロセス研究部門, 研究員 (50435749)
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| 研究期間 (年度) |
2009 – 2010
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| 研究課題ステータス |
完了 (2010年度)
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| 配分額 *注記 |
4,420千円 (直接経費: 3,400千円、間接経費: 1,020千円)
2010年度: 2,080千円 (直接経費: 1,600千円、間接経費: 480千円)
2009年度: 2,340千円 (直接経費: 1,800千円、間接経費: 540千円)
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| キーワード | 結晶成長 / 蛍光体酸化物 / 製膜技術 / 低温製膜 / 蛍光体 / 酸化物薄膜 / 室温結晶成長 / 光照射プロセス / MOD法 / 光MOD法 |
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| 研究概要 |
V酸化物を主とする蛍光体材料について紫外線照射を用いた室温製膜手法の開発を行った。紫外線ランプによる結晶成長は真空紫外線領域の波長を空気中で照射する場合に反応活性となり、結晶化が促進されることが分かり、紫外線レーザー照射下においてはナノ粒子結晶成長核の導入と併せることによって極めて広い範囲の蛍光体材料を室温で製膜可能にすることに成功した。これらの新手法は次世代フレキシブルディスプレイなどの開発へ繋がると期待される。
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