研究課題
若手研究(B)
トポロジカル絶縁体フィルム(Bi2Te3)のSi(111)-7x7での成長ダイナミクスについてLEEMを用いて調べた。分子線エピタキシー成長での最適パラメータを見出した。またBi2Te3フィルムに関する高分解能TEM結果と伝導特性は、実空間におけるフィルム-基板間の界面構造の存在および絶縁体-金属変調を示唆していた。
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