高精度スティッチング干渉法に基づく硬X線ナノ集光ミラー用表面形状計測法の開発

研究課題

研究課題/領域番号	21760106
研究種目	若手研究(B)
配分区分	補助金
研究分野	生産工学・加工学
研究機関	(財)高輝度光科学研究センター
研究代表者	湯本博勝 (財)高輝度光科学研究センター, 光学系部門, 研究員 (20423197)
研究期間 (年度)	2009 – 2010
研究課題ステータス	完了 (2010年度)
配分額 *注記	4,550千円 (直接経費: 3,500千円、間接経費: 1,050千円) 2010年度: 780千円 (直接経費: 600千円、間接経費: 180千円) 2009年度: 3,770千円 (直接経費: 2,900千円、間接経費: 870千円)
キーワード	表面形状計測 / X線ミラー / スティッチング干渉計 / X線光学素子 / X線ナノ集光 / 回転楕円面ミラー
研究概要	本研究では-ミラー型光学素子による硬X線ナノ集光実現を目的とし,本X線集光ミラーを作製するために必要となる形状精度を保証可能な表面形状計測システムの構築を行った.可視光位相シフト白色顕微干渉計を利用しミラーの部分的な表面形状計測を行うと同時に,各計測領域間の相対角度決定型の高精度スティッチング干渉法を開発した.これにより,ミラー全体形状に関して1nm単位の高精度なデータ算出が可能となった.

報告書

(3件)