| 研究課題/領域番号 |
21760148
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| 研究種目 |
若手研究(B)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 研究分野 |
熱工学
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| 研究機関 | 秋田工業高等専門学校 |
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研究代表者 |
野澤 正和 秋田工業高等専門学校, 機械工学科, 講師 (60447183)
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| 研究期間 (年度) |
2009 – 2010
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| 研究課題ステータス |
完了 (2010年度)
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| 配分額 *注記 |
4,550千円 (直接経費: 3,500千円、間接経費: 1,050千円)
2010年度: 1,170千円 (直接経費: 900千円、間接経費: 270千円)
2009年度: 3,380千円 (直接経費: 2,600千円、間接経費: 780千円)
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| キーワード | 熱工学 / 流体工学 / 低温工学 / 超流動 / 可視化 |
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| 研究概要 |
超流動ヘリウム(He II)中の相界面近傍における熱流動状態について明らかにする。詳細な蒸気膜挙動の観測により、飽和He II中で発生するノイジー膜沸騰、サイレント膜沸騰の界面挙動と沸騰状態の安定性について考察を行った。ノイジー膜沸騰、サイレント膜沸騰とも、He II温度の変化による蒸気膜の平均厚さの変化はほとんど見られなかった。一方、蒸気膜の平均厚さが減少するに従って、蒸気膜の挙動の周波数は増加傾向にあった。ノイジー膜沸騰の蒸気膜厚さがある臨界値を超えると、蒸気膜近傍の熱輸送のバランスが変化して、膜沸騰モードが変化し、もう一つの膜沸騰モードであるサイレント膜沸騰に変化すると考えられる。
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