研究課題/領域番号 |
21760606
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研究種目 |
若手研究(B)
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配分区分 | 補助金 |
研究分野 |
化工物性・移動操作・単位操作
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研究機関 | 東京大学 |
研究代表者 |
伊藤 大知 東京大学, 大学院・医学系研究科, 准教授 (50447421)
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研究期間 (年度) |
2009 – 2010
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研究課題ステータス |
完了 (2010年度)
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配分額 *注記 |
4,550千円 (直接経費: 3,500千円、間接経費: 1,050千円)
2010年度: 1,690千円 (直接経費: 1,300千円、間接経費: 390千円)
2009年度: 2,860千円 (直接経費: 2,200千円、間接経費: 660千円)
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キーワード | 膜分離 / 機能性高分子 / ナノ構造制御 / 磁性ナノ粒子 / 感温性ポリマー / ゲート膜 / グラフト重合 / 交流磁場 |
研究概要 |
本研究ではイオン刺激に代わり、交流磁場に応答してナノ細孔を開閉する磁場応答ゲート膜の創製と、これを用いた新規プロセス・単位操作・システムの開発を目指した。本コンセプトの実現のため、ポリカーボネイト多孔膜のNIPAM(N-isopropylacrylamide)グラフト重合膜を作製し、これをグラフト開始点より切断することによって、分子量分布を測定して、膜作製条件、膜細孔内構造、そして透過流束の関係を明らかにした。 またクラウンエーテルモノマーとNIPAMをグラフト共重合したイオン認識ゲート膜のエタノール水溶液中での応答挙動を明らかにして、本ゲート膜が態有機溶剤性も十分に持つとともに、本コンセプトを実現するために有機溶媒で加工プロセスを行っても、機能が十分に維持されることを実証した。
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