除草剤抵抗性メカニズムとバイオフォトンとの関係解析

• 研究課題/領域番号: 21780018
• 研究種目: 若手研究(B)
• 配分区分: 補助金
• 研究分野: 作物学・雑草学
• 研究機関: 静岡県農林技術研究所
• 研究代表者: 貫井 秀樹 静岡県農林技術研究所, 花き科, 主任研究員 (10426463)
• 研究期間 (年度): 2009 – 2010
• 研究課題ステータス: 完了 (2010年度)
• 配分額: 2,860千円 (直接経費: 2,200千円、間接経費: 660千円); 2010年度: 1,300千円 (直接経費: 1,000千円、間接経費: 300千円); 2009年度: 1,560千円 (直接経費: 1,200千円、間接経費: 360千円)
• キーワード: 除草剤抵抗性 / バイオフォトン

研究概要

イネ培養細胞の除草剤応答発光検出系を用いて、除草剤応答発光の発生メカニズムを解析した。10日ごとに継代したイネ培養細胞に50-100ppmのベンスルフロンメチル(BSM)を処理することにより、BSM応答発光が検出できた。BSMを含む18剤の除草剤応答発光を調べた結果、薬剤により応答発光の発生パターンは異なった。イネでベンスルフロンメチルの解毒代謝への関与が報告されているチトクロームP450遺伝子CYP81A6をクローニングし、RNAiにより遺伝子発現抑制株を作出した。発現抑制株のBSMおよび分岐鎖アミノ酸への応答から、BSM応答発光には、P450によるBSMの解毒代謝反応が関与していることが明らかになった。

研究成果

• [学会発表] Involvement of cytochrome P450 in bensulfronmethyl responsive photon emission from rice cells (2011)
  • 著者名/発表者名: Nukui, H., Iyozumi, H., Kato, K., Kageyama, C.
  • 学会等名: 51^<st> Annual Meeting of the Weed Science Society of America
  • 発表場所: Hilton Portland & Executive Tower, Portland, Oregon
• [学会発表] Involvement of cytochrome P450 in bensulfronmethyl responsive photon emission from rice cells (2011)
  • 著者名/発表者名: Nukui, H.
  • 学会等名: Weed Science Society of America
  • 発表場所: Hilton Portland & Executive Tower, Portland, Oregon
• [学会発表] イネ培養細胞の除草剤応答発光 (2010)
  • 著者名/発表者名: 貫井秀樹
  • 学会等名: 日本雑草学会
  • 発表場所: AOSSA福井市地域交流プラザ・福井県県民ホール(福井県)
  • 年月日: 2010-04-11
• [学会発表] イネ培養細胞の除草剤応答発光 (2010)
  • 著者名/発表者名: 貫井秀樹、伊代住浩幸、加藤公彦
  • 学会等名: 日本雑草学会
  • 発表場所: AOSSA福井市地域交流プラザ・福井県県民ホール
• [備考] ホームページ等