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SiC-MOSFET負荷短絡時の素子残留ダメージが信頼性特性へ及ぼす影響の研究

研究課題

研究課題/領域番号 21H01303
研究種目

基盤研究(B)

配分区分補助金
応募区分一般
審査区分 小区分21010:電力工学関連
研究機関筑波大学

研究代表者

岩室 憲幸  筑波大学, 数理物質系, 教授 (50581203)

研究分担者 原田 信介  国立研究開発法人産業技術総合研究所, エネルギー・環境領域, 研究チーム長 (20392649)
矢野 裕司  筑波大学, 数理物質系, 准教授 (40335485)
研究期間 (年度) 2021-04-01 – 2025-03-31
研究課題ステータス 交付 (2021年度)
配分額 *注記
16,250千円 (直接経費: 12,500千円、間接経費: 3,750千円)
2022年度: 3,900千円 (直接経費: 3,000千円、間接経費: 900千円)
2021年度: 2,470千円 (直接経費: 1,900千円、間接経費: 570千円)
キーワードSiC MOSFET / 高信頼性特性 / 負荷短絡 / 機械応力 / 残留ダメージ
研究開始時の研究の概要

本研究は、SiC-MOSFETの長期信頼性実現に関するものである。近い将来実現が予想される、インテリジェント機能(異常検知や保護機能)を具備したSiC MOSFETにおいて、SiC MOSFET内の構成部材(SiC、シリコン酸化膜、 金属電極等)間の線膨張係数の違いや各層の形状に注目し、上記インテリジェント機能動作時に素子に印加される高電圧・大電流といった電気的負荷と機械応力との相関性を、詳細なTCADシミュレーション技術と素子破壊試験を通して解析し、高信頼性SiC-MOSFET構造を実証する研究である。

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公開日: 2021-04-28   更新日: 2022-04-19  

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