| 研究課題/領域番号 |
21K01271
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| 研究種目 |
基盤研究(C)
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| 配分区分 | 基金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 審査区分 |
小区分05070:新領域法学関連
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| 研究機関 | 東京造形大学 |
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研究代表者 |
村上 画里 東京造形大学, 造形学部, 准教授 (70597351)
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| 研究期間 (年度) |
2021-04-01 – 2024-03-31
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| 研究課題ステータス |
完了 (2023年度)
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| 配分額 *注記 |
2,210千円 (直接経費: 1,700千円、間接経費: 510千円)
2023年度: 520千円 (直接経費: 400千円、間接経費: 120千円)
2022年度: 520千円 (直接経費: 400千円、間接経費: 120千円)
2021年度: 1,170千円 (直接経費: 900千円、間接経費: 270千円)
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| キーワード | 意匠権 / 商標権 / 競合的保護 / 抵触関係 / 調整 / 抵触関係調整 / 権利調整 / 登録要件 / 著作権 |
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| 研究開始時の研究の概要 |
本研究は意匠権と商標権の抵触関係について考察することを目的としている。令和元年意匠法改正により、両権利の抵触関係が生じる場面が増えた。両権利が成立する可能性について、意匠登録を受ける物品等と同じ商品形態等商標登録出願がなされた場合の取り扱い、両権利が成立した後の権利調整の問題について、立法経緯及び比較法的な考察より検討を進めていくものである。現行法の意匠法及び商標法の規定では、両権利の調整について十分な措置が講じられていない状況であることから、後願の権利に対する権利制限の必要性、また、制限する場合の根拠の検討を通じて両権利の調整として新しく制度設計することを本研究で試みるものである。
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| 研究成果の概要 |
改正意匠法により，意匠権の対象が建築物や内装にも拡大されることとなった。その結果，従来は物品について意匠権と商標権が競合的に保護されることが中心として検討されていたが，競合的に保護される領域は拡大されることとなった。
本研究では，意匠権と商標権が競合的に保護を受けられる法的構造を整理しながら，同一デザインについて意匠権と商標権が別異の者に帰属する場面はどのような法的評価をなしうるのか，そして，侵害訴訟の場面において抵触関係にある権利はどのような方法で調整されるべきかについて考えうる調整方法を提示した。
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| 研究成果の学術的意義や社会的意義 |
従来，意匠権と商標権の重畳的保護は法律上可能であると考えられてきたところ，その必要性を見直した点に意義がある。また，同一デザインについて別異の者が権利者である場合に，抵触関係はどのように調整されるべきかという点は，これまで先行研究が日本においてはほとんど存在しておらず，侵害訴訟における調整のあり方を改めて整理し，外国における侵害訴訟を分析しながら，日本法における調整方法のあり方が適切であるものか否かを検討した点に意義を有するといえる。
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