| 研究課題/領域番号 |
21K03815
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| 研究種目 |
基盤研究(C)
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| 配分区分 | 基金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 審査区分 |
小区分18020:加工学および生産工学関連
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| 研究機関 | 地方独立行政法人神奈川県立産業技術総合研究所 |
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研究代表者 |
安井 学 地方独立行政法人神奈川県立産業技術総合研究所, 電子技術部, 主任研究員 (80426361)
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| 研究分担者 |
伊藤 寛明 近畿大学, 工学部, 准教授 (70534981)
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| 研究期間 (年度) |
2021-04-01 – 2024-03-31
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| 研究課題ステータス |
交付 (2022年度)
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| 配分額 *注記 |
4,160千円 (直接経費: 3,200千円、間接経費: 960千円)
2023年度: 1,430千円 (直接経費: 1,100千円、間接経費: 330千円)
2022年度: 1,560千円 (直接経費: 1,200千円、間接経費: 360千円)
2021年度: 1,170千円 (直接経費: 900千円、間接経費: 270千円)
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| キーワード | 電子線描画 / HSQ / 金型 / 熱ナノインプリント / アルミナノホール / Ni-Wナノ金型 / LSPRデバイス |
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| 研究開始時の研究の概要 |
新型コロナウイルス等の核酸の検出感度を著しく上げるLSPRセンサ，優れた単色性と鮮明な多色を表現できるプラズモンカラーフィルタを対象に，紫外から赤外までの光に対してLSPRを発現するガラス上のアルミナノホールが研究されている。本研究では，加圧によるガラスの破損防止を目指した構造を提案し，申請者が体系的に研究するNi-Wナノ金型を用いたアルミナノホールの形成を目指して研究を進める。
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| 研究実績の概要 |
本年度の研究目的は、アッシング後のSU8表面に残留する微粒子を除去し、Ni-Wメッキを行ってNi-W金型を開発するとともに蒸着Al薄膜の物性値を評価することである。しかしながら、SU8表面に残留する微粒子がフッ素ガスで揮発できるアンチモンではなく、アルミニウムであったことから，フッ素ガスでは揮発できず、SU8表面に微粒子の除去の目処が立っていない。
一方，粉末状態では加水分解を起こさず、MIBKに溶解して使用する粉末水素シルセスキオキサン（Hydrogen silsesquioxane : HSQ）の存在を知り、実験に用いたところ、低湿度下であれば3ヶ月程度安定した状態で電子線描画を実施できた。また、熱可塑性樹脂に対して繰り返し熱ナノインプリントを実施できた。
ただし、ドットパターンでは近接効果の影響を受けやすく、200nm周期のドットパターンでは、ドット間にHSQの残渣が生じドットパターンが繋がりやすかった。CADデータの工夫やドーズ量を調整することで、HSQの残渣を抑制することはできたが、完全に抑えるには至っていない。
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| 現在までの達成度 (区分) |
現在までの達成度 (区分)
4: 遅れている
理由
申請書では、SU8表面に残留する微粒子はアンチモン化合物であり、フッ素ガスによりSbF5を生成して、微粒子を揮発させることを考えていた。しかしながら、微粒子がAlであったため、フッ素ガスによる微粒子の除去案が頓挫してしまった。その代替として、粉末HSQを用いた金型作製を模索している。
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| 今後の研究の推進方策 |
現状では、SU8を原版としたNi-W金型の作製が困難である。Ni-Wめっきのヤング率：220GPaに及ばないものの、熱処理を行ったHSQでは、ヤング率が80GPaまで上昇した報告があることから、HSQのドーズ量、現像液、熱処理を検討し、Ni-Wめっきの代替えを目指し、金型に使用できるか検討する。
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