| 研究課題/領域番号 |
21K04839
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| 研究種目 |
基盤研究(C)
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| 配分区分 | 基金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 審査区分 |
小区分28030:ナノ材料科学関連
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| 研究機関 | 国立研究開発法人物質・材料研究機構 |
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研究代表者 |
李 世勝 国立研究開発法人物質・材料研究機構, 若手国際研究センター, ICYS研究員 (90812678)
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| 研究期間 (年度) |
2021-04-01 – 2024-03-31
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| 研究課題ステータス |
交付 (2021年度)
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| 配分額 *注記 |
4,160千円 (直接経費: 3,200千円、間接経費: 960千円)
2023年度: 1,430千円 (直接経費: 1,100千円、間接経費: 330千円)
2022年度: 1,170千円 (直接経費: 900千円、間接経費: 270千円)
2021年度: 1,560千円 (直接経費: 1,200千円、間接経費: 360千円)
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| キーワード | 二次元ナノ材料科学 / 電子デバイス / 遷移金属カルコゲナイド / プリンテッド・エレクトロニクス / 化学気相成長 |
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| 研究開始時の研究の概要 |
In this project, the applicant will utilize the Salt 2.0 synthesis technique and ink-jet printing technique to establish a world-leading and practical solution for high-performance 2D transition metal dichalcogenide (TMDC)-based high-performance printed electronics. Two key challenges will be investigated: 1) large-area wafer-scale and patterned growth of 2D TMDC monolayers, 2) the integration of 2D TMDCs in electronic devices and fulfil their excellent electrical and optoelectrical properties.
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