研究課題/領域番号 |
21K04891
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研究種目 |
基盤研究(C)
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配分区分 | 基金 |
応募区分 | 一般 |
審査区分 |
小区分29020:薄膜および表面界面物性関連
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研究機関 | 大学共同利用機関法人高エネルギー加速器研究機構 |
研究代表者 |
谷本 育律 大学共同利用機関法人高エネルギー加速器研究機構, 加速器研究施設, 准教授 (60311130)
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研究期間 (年度) |
2021-04-01 – 2024-03-31
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研究課題ステータス |
交付 (2021年度)
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配分額 *注記 |
4,160千円 (直接経費: 3,200千円、間接経費: 960千円)
2023年度: 780千円 (直接経費: 600千円、間接経費: 180千円)
2022年度: 1,820千円 (直接経費: 1,400千円、間接経費: 420千円)
2021年度: 1,560千円 (直接経費: 1,200千円、間接経費: 360千円)
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キーワード | NEGコーティング / マグネトロンスパッタ / 超高真空 |
研究開始時の研究の概要 |
本研究はあらゆる真空装置の到達圧力を低減させる画期的な真空技術の確立を目標としている。本来ガス放出源である真空容器内壁を逆に真空ポンプとして機能させることで到達圧力の究極的な低減を図る。現在,粒子加速器の分野ではこの考えに基づいた非蒸発型ゲッター(NEG)コーティングが普及しているが,元来直線型ビームダクト用に開発されたものであり,現在の手法では多様な形状の真空装置に応用することはできない。そこで,本研究において,一般的な真空装置に応用が可能な小型NEG製膜装置を実現させるための研究開発を行う。この成果により,真空を利用する多様な産業や研究の分野に革新をもたらすことが期待される。
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