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二次元層状物質を導入した反転積層窒化物深紫外発光素子の研究

研究課題

研究課題/領域番号 21K04903
研究種目

基盤研究(C)

配分区分基金
応募区分一般
審査区分 小区分30010:結晶工学関連
研究機関三重大学

研究代表者

窪谷 茂幸  三重大学, 地域創生戦略企画室, 特任准教授(研究担当) (70583615)

研究期間 (年度) 2021-04-01 – 2022-03-31
研究課題ステータス 中途終了 (2021年度)
配分額 *注記
4,290千円 (直接経費: 3,300千円、間接経費: 990千円)
2023年度: 1,300千円 (直接経費: 1,000千円、間接経費: 300千円)
2022年度: 1,300千円 (直接経費: 1,000千円、間接経費: 300千円)
2021年度: 1,690千円 (直接経費: 1,300千円、間接経費: 390千円)
キーワード深紫外発光素子 / 窒化物半導体 / BN / AlGaN
研究開始時の研究の概要

本研究では、六方晶窒化ホウ素(h-BN)をAlGaN深紫外LEDに導入するために、はじめに高温熱処理したh-BNテンプレートを作製し、その上に一般的なLEDの積層順序を反転した構造を成長する。この方法で、全ての層に最適な温度での結晶作製を可能にし、高い結晶品質を有する高発光効率AlGaN深紫外LEDの作製を目指す。また、二次元層状物質であるh-BN上のAlGaN成長についても明らかにする。

研究実績の概要

本研究では、二次元層状物質である六方晶窒化ホウ素(h-BN)を導入した反転積層窒化物深紫外発光素子の作製を目指して、2021年度は、「BNテンプレートの作製」、「AlGaN深紫外発光層の結晶成長」、「BN層を用いた剥離」について研究開発を行った。
BNテンプレートの作製については、「スパッタ法」でBNを成膜した後に高温熱処理を行い作製する方法と、「有機金属気相成長法(MOVPE法)」を用いてBNを成長した後に高温熱処理を行い作製する方法の2種類の方法で検討を行った。スパッタ法を用いた方法では、焼結体BNターゲットを用いて窒素とアルゴンの混合雰囲気においてBNの成膜を行った。下地層には、サファイア基板、および、サファイア基板上にスパッタ法でAlNを成膜し高温熱処理を行って作製したAlN/サファイア基板を用いた。窒素雰囲気において高温熱処理を行い、高結晶品質BNテンプレートを作製した。また、BNにMgを添加する方法についても検討を行った。MOVPE法を用いた方法では、トリエチルボロンとアンモニアを交互供給しBNの成長を試みた。成長温度、交互供給条件などの成長条件の検討を行い、サファイア基板上およびAlN/サファイア基板上にBN薄膜の成長を行った。また、MOVPE法で成長したBN薄膜についても高温熱処理を行い、高結晶品質化を試みた。
AlGaN深紫外発光層の結晶成長については、AlN/サファイア基板上に、MOVPE法を用いてUV-C帯域に発光波長を有するAlGaN/AlGaN多重量子井戸構造を結晶成長し、構造・発光特性評価を行った。
BN層を用いた剥離については、AlN/サファイア基板を用いて作製した様々な膜厚のBNテンプレート上に、スパッタ法でAlNを成膜してAlN/BN/AlN構造を作製し、剥離特性の基礎検討を行った。
2022年4月の研究代表者の所属の変更に伴い中途終了した。

報告書

(1件)
  • 2021 実績報告書
  • 研究成果

    (18件)

すべて 2022 2021

すべて 雑誌論文 (1件) (うち査読あり 1件、 オープンアクセス 1件) 学会発表 (17件)

  • [雑誌論文] 263 nm wavelength UV-C LED on face-to-face annealed sputter-deposited AlN with low screw- and mixed-type dislocation densities2022

    • 著者名/発表者名
      Kenjiro Uesugi, Shigeyuki Kuboya, Kanako Shojiki, Shiyu Xiao, Takao Nakamura, Masataka Kubo, Hideto Miyake
    • 雑誌名

      Applied Physics Express

      巻: 15 号: 5 ページ: 055501-055501

    • DOI

      10.35848/1882-0786/ac66c2

    • 関連する報告書
      2021 実績報告書
    • 査読あり / オープンアクセス
  • [学会発表] MOVPE成長温度とメサの大きさがステップフリーAlN膜の表面形態に与える影響2022

    • 著者名/発表者名
      山中 祐人、正直花奈子、窪谷茂幸、上杉謙次郎、三宅秀人
    • 学会等名
      第69回応用物理学会春季学術講演会
    • 関連する報告書
      2021 実績報告書
  • [学会発表] 金属Alターゲットを用いてスパッタ堆積したアニールAlNの極性制御2022

    • 著者名/発表者名
      橋本卓実、正直花奈子、上杉謙次郎、肖世玉、窪谷茂幸、三宅秀人
    • 学会等名
      第69回応用物理学会春季学術講演会
    • 関連する報告書
      2021 実績報告書
  • [学会発表] スパッタ堆積アニールN極性AlN薄膜へのサファイア基板オフ角の影響2022

    • 著者名/発表者名
      並河楽空、窪谷茂幸、正直花奈子、森隆一、上杉謙次郎、三宅秀人
    • 学会等名
      第69回応用物理学会春季学術講演会
    • 関連する報告書
      2021 実績報告書
  • [学会発表] らせん・混合転位密度が低いAlNテンプレートを用いたDUV-LEDの開発2022

    • 著者名/発表者名
      上杉謙次郎、窪谷茂幸、中村孝夫、正直花奈子、肖世玉、久保雅敬、三宅秀人
    • 学会等名
      第69回応用物理学会春季学術講演会
    • 関連する報告書
      2021 実績報告書
  • [学会発表] スパッタアニール法を用いたa面AlNの結晶性の基板オフ角依存性2021

    • 著者名/発表者名
      渋谷康太、上杉謙次郎、肖世玉、正直花奈子、窪谷茂幸、秋山亨、三宅秀人
    • 学会等名
      第82回応用物理学会秋季学術講演会
    • 関連する報告書
      2021 実績報告書
  • [学会発表] ストライプ状溝加工AlNテンプレート上へのHVPE法によるAlN成長2021

    • 著者名/発表者名
      岡駿斗、奥灘瑠斗、肖世玉、正直花奈子、上杉謙次郎、窪谷茂幸、中村孝夫、三宅秀人
    • 学会等名
      第82回応用物理学会秋季学術講演会
    • 関連する報告書
      2021 実績報告書
  • [学会発表] 高温アニールしたAlN上におけるDUV-LEDの高効率化2021

    • 著者名/発表者名
      上杉謙次郎、窪谷茂幸、中村孝夫、正直花奈子、肖世玉、三宅秀人
    • 学会等名
      第82回応用物理学会秋季学術講演会
    • 関連する報告書
      2021 実績報告書
  • [学会発表] スパッタアニールAlNテンプレート上UV-C AlGaN量子井戸成長2021

    • 著者名/発表者名
      石原頌也、窪谷茂幸、正直花奈子、上杉謙次郎、肖世玉、三宅秀人
    • 学会等名
      第82回応用物理学会秋季学術講演会
    • 関連する報告書
      2021 実績報告書
  • [学会発表] 高温アニールAlN上AlGaNチャネルHEMTのAlGaN膜厚依存性2021

    • 著者名/発表者名
      森隆一、上杉謙次郎、窪谷茂幸、正直花奈子、三宅秀人
    • 学会等名
      第82回応用物理学会秋季学術講演会
    • 関連する報告書
      2021 実績報告書
  • [学会発表] r面サファイア基板上への高温アニールa面AlN膜作製における基板オフ角依存性2021

    • 著者名/発表者名
      渋谷康太、上杉謙次郎、肖世玉、正直花奈子、窪谷茂幸、秋山亨、三宅秀人
    • 学会等名
      電子情報通信学会レーザ・量子エレクトロニクス研究会
    • 関連する報告書
      2021 実績報告書
  • [学会発表] 高温アニールAlNテンプレートを用いた220 nm帯発光AlGaN量子井戸の成長2021

    • 著者名/発表者名
      石原頌也、窪谷茂幸、正直花奈子、上杉謙次郎、肖世玉、三宅秀人
    • 学会等名
      電子情報通信学会レーザ・量子エレクトロニクス研究会
    • 関連する報告書
      2021 実績報告書
  • [学会発表] AlNテンプレート上へのAlGaNチャネルHEMTの作製と電気的特性評価2021

    • 著者名/発表者名
      森隆一、上杉謙次郎、窪谷茂幸、正直花奈子、三宅秀人
    • 学会等名
      電子情報通信学会電子デバイス研究会
    • 関連する報告書
      2021 実績報告書
  • [学会発表] 高Al組成n型AlGaNへの選択再成長n型GaNを用いたオーミックコンタクト形成2021

    • 著者名/発表者名
      池内陸也、上杉謙次郎、正直花奈子、窪谷茂幸、三宅秀人
    • 学会等名
      第13回 ナノ構造・エピタキシャル成長講演会
    • 関連する報告書
      2021 実績報告書
  • [学会発表] AlN膜の選択成長におけるMOVPE成長条件が表面形態に与える影響2021

    • 著者名/発表者名
      山中祐人、正直花奈子、窪谷茂幸、上杉謙次郎、三宅秀人
    • 学会等名
      第13回 ナノ構造・エピタキシャル成長講演会
    • 関連する報告書
      2021 実績報告書
  • [学会発表] スパッタ積層と高温アニールで作製したAlN膜における極性制御2021

    • 著者名/発表者名
      橋本卓実、正直花奈子、上杉謙次郎、肖世玉、窪谷茂幸、三宅秀人
    • 学会等名
      第13回 ナノ構造・エピタキシャル成長講演会
    • 関連する報告書
      2021 実績報告書
  • [学会発表] フラット・トップ型ナノパターンサファイア基板を用いたAlNのMOVPE成長2021

    • 著者名/発表者名
      和泉志男、正直花奈子、窪谷茂幸、上杉謙次郎、肖世玉、三宅秀人
    • 学会等名
      第13回 ナノ構造・エピタキシャル成長講演会
    • 関連する報告書
      2021 実績報告書
  • [学会発表] AlN層上のh-BNのスパッタ成膜条件と高温アニール処理条件が結晶性に与える影響2021

    • 著者名/発表者名
      下嶋恭史、窪谷茂幸、正直花奈子、岩山章、三宅秀人
    • 学会等名
      第13回 ナノ構造・エピタキシャル成長講演会
    • 関連する報告書
      2021 実績報告書

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公開日: 2021-04-28   更新日: 2022-12-28  

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