研究課題/領域番号 |
21K18668
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研究種目 |
挑戦的研究(萌芽)
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配分区分 | 基金 |
審査区分 |
中区分18:材料力学、生産工学、設計工学およびその関連分野
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研究機関 | 東京大学 |
研究代表者 |
高橋 哲 東京大学, 先端科学技術研究センター, 教授 (30283724)
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研究分担者 |
門屋 祥太郎 東京大学, 先端科学技術研究センター, 助教 (60880234)
道畑 正岐 東京大学, 大学院工学系研究科(工学部), 准教授 (70588855)
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研究期間 (年度) |
2021-07-09 – 2024-03-31
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研究課題ステータス |
交付 (2022年度)
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配分額 *注記 |
6,370千円 (直接経費: 4,900千円、間接経費: 1,470千円)
2022年度: 3,380千円 (直接経費: 2,600千円、間接経費: 780千円)
2021年度: 2,990千円 (直接経費: 2,300千円、間接経費: 690千円)
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キーワード | 異物検出 / ナノ欠陥 / ナノ異物 / シリコンウエハ / 表面欠陥 / 表面検査 |
研究開始時の研究の概要 |
従来半導体プロセスにおいて現場適用されていた光学的散乱型計測法原理では物理的検出限界となっていた超平滑加工表面のナノ付着異物計測法について新光学システムの提案,開発を目指す.具体的には,基板上に滴下した揮発性不活性溶媒の液相界面とナノ異物との近接場における力学的・光学的相互作用を,並列情報処理性,現場適用性の高い遠隔場光学技術で取得することで,非破壊性,高速性を維持したまま,従来異物サイズ検出限界を打破可能な新概念近接場計測プローブ法の開発において,動的位相差検出が可能な新しい概念の光学システムの適用を提案し,1nm表面異物欠陥計測実現への可能性を,理論・実験の両面から検討する.
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研究実績の概要 |
従来半導体プロセスにおいて現場適用されていた光学的散乱型計測法原理では物理的検出限界となっていた超平滑加工表面のナノ付着異物計測法について新光学システムの提案,開発を目指す.具体的には,基板上に滴下した揮発性不活性溶媒の液相界面とナノ異物との近接場における力学的・光学的相互作用を,並列情報処理性,現場適用性の高い遠隔場光学技術で取得することで,非破壊性,高速性を維持したまま,従来異物サイズ検出限界を打破可能な新概念近接場計測プローブ法の開発において,動的位相差検出が可能な新しい概念の光学システムの適用を提案し,1nm表面異物欠陥計測実現への可能性を,理論・実験の両面から検討する.
本年度は,前年度に開発した動的位相差顕微基礎実験装置を用いて,ナノ欠陥時に生じる薄膜変動を高感度で検出可能であるか実験的試行を行った.
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現在までの達成度 (区分) |
現在までの達成度 (区分)
2: おおむね順調に進展している
理由
前年度に開発した動的位相差顕微基礎実験装置を用いて,ナノ欠陥時に生じる薄膜変動を高感度で検出可能であるかを検証する実験に移行できた.
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今後の研究の推進方策 |
前年度に開発した動的位相差顕微基礎実験装置を用いて,ナノ欠陥時に生じる薄膜変動を高感度で検出可能であるかを実験的に検証し,提案動的位相差検出型・近接場液相プローブ計測法の有効性について検討を進める.
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