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EUVリソグラフィ×自己組織化による分子サイズに迫る超極微細加工技術の創製

研究課題

研究課題/領域番号 21KK0262
研究種目

国際共同研究加速基金(国際共同研究強化(A))

配分区分基金
審査区分 小区分26050:材料加工および組織制御関連
研究機関国立研究開発法人量子科学技術研究開発機構

研究代表者

山本 洋揮  国立研究開発法人量子科学技術研究開発機構, 高崎量子応用研究所 量子機能創製研究センター, 主幹研究員 (00516958)

研究期間 (年度) 2022 – 2024
研究課題ステータス 交付 (2022年度)
配分額 *注記
15,470千円 (直接経費: 11,900千円、間接経費: 3,570千円)
キーワード材料・加工 / 半導体微細化 / ナノ加工 / ナノ材料 / レジスト
研究開始時の研究の概要

ナノ領域の超微細加工技術の開発は半導体産業のみならず、環境・エネルギー、医療、ライフサイエンス等の分野を支える重要な技術である。本研究では、開発したメタルレジストを活用したナノ配向ガイドとブロック共重合体の自己組織化を利用したこれまでにない分子サイズのミクロ相分離を組合せたトップダウンとボトムアップの融合による分子サイズに迫る微細加工技術の創出とそのリソグラフィ等の応用に挑戦する。具体的には、分子サイズに迫る微細加工技術に発展させ、リソグラフィ応用をはじめ、様々な分野を支える微細加工の根幹技術を開発する。

研究実績の概要

ナノ領域の超微細加工技術の開発は半導体産業のみならず、環境・エネルギー、医療、ライフサイエンス等の分野を支える重要な技術である。近年、トップダウンの代表であるリソグラフィ技術の限界が唱え始められ、それを凌駕する微細加工技術の研究開発が国内外で進められている。本研究では、開発したメタルレジストを活用したナノ配向ガイドとブロック共重合体の自己組織化を利用したこれまでにない分子サイズのミクロ相分離を組合せたトップダウンとボトムアップの融合による分子サイズに迫る微細加工技術の創出とそのリソグラフィ等の応用に挑戦する。
令和4年度は量子ビームによるメタルレジストの加工によりナノ配向ガイドの作製を試みた。具体的には、金属酸化物ナノ粒子のコアとしてEUV吸収係数が高い3種類の金属コアおよび3種類のリガンドを選定し、計9種類のナノ配向ガイドの作製を100keVの電子線描画装置を使って試みた結果、ガイドパターンとして機能することを明らかにした。また、次年度のオーストラリア渡航へ向けた事務手続きおよび受け入れ先の共同研究者と研究や渡航に関してメールで議論・調整を行った。具体的には、オーストラリア渡航期間中の業務内容の相談、研究滞在ビザの申請に必要な書類の準備、航空券等の見積もりを行った。また、滞在予定先の研究協力者と渡航開始日および渡航期間の調整等といった事務的な打ち合わせを行い、オーストラリアにおける新型コロナウイルスの感染状況がよくなっているうちに、渡航および研究を開始するという認識を共有した。さらに、国際共同研究展開の準備として、日本学術振興会が主催するJSPS-LEADSNET事業研究者交流会に参加し、海外に滞在したことがある研究者から研究および現地での生活についての情報を収集した。

現在までの達成度 (区分)
現在までの達成度 (区分)

3: やや遅れている

理由

これまでにない分子サイズのミクロ相分離を組合せたトップダウンとボトムアップの融合による分子サイズに迫る微細加工技術を創出するために、令和4年度は金属酸化物ナノ粒子のコアとしてEUV吸収係数が高い3種類の金属コアおよび3種類のリガンドを選定し、計9種類のナノ配向ガイドの作製を100keVの電子線描画装置を使って試みた結果、ガイドパターンとして機能することを明らかにした。一方、当初計画では2022年1月~オーストラリアに滞在し、ブロック共重合体の合成を実施する予定であったが、コロナ禍の影響を受け、渡航日程の決定に時間を要し、現地に渡航する時期が遅れたため、現状では「やや遅れている」と評価した。

今後の研究の推進方策

特殊構造をもつ2つの高分子からなる「ブロック共重合体」の新たな分子・反応設計を試みる。海外共同研究者らが有する可逆的付加開裂連鎖移動重(RAFT)、および原子移動ラジカル重合(ATRP)法により嵩高い基や極性基の大きな違いをもつ単分散ブロック共重合体を精密合成し、分子サイズに迫る微細パターン可能なブロック共重体を探索する。また、オーストラリアシンクロトロンの放射光施設での斜入射小角X線散乱(GI-SAXS)実験を行う。

報告書

(1件)
  • 2022 実施状況報告書
  • 研究成果

    (4件)

すべて 2023 2022

すべて 雑誌論文 (1件) (うち査読あり 1件) 学会発表 (3件) (うち国際学会 2件、 招待講演 2件)

  • [雑誌論文] Study on irradiation effects by femtosecond-pulsed extreme ultraviolet in resist materials2023

    • 著者名/発表者名
      Yuji Hosaka, Hiroki Yamamoto, Masahiko Ishino, Thanh-Hung Dinh, Masaharu Nishikino, Yasunari Maekawa
    • 雑誌名

      Proc. of SPIE

      巻: 12498 ページ: 100-100

    • DOI

      10.1117/12.2670220

    • NAID

      130008119663

    • 関連する報告書
      2022 実施状況報告書
    • 査読あり
  • [学会発表] 極端紫外光(EUV)リソグラフィ用のマスク作製2022

    • 著者名/発表者名
      山本 洋揮,古澤孝弘
    • 学会等名
      第83回応用物理学会秋季学術講演会
    • 関連する報告書
      2022 実施状況報告書
  • [学会発表] Recent Research activity for EUV Lithography at QST2022

    • 著者名/発表者名
      Hiroki Yamamoto, Yuji Hosaka, Kimio Yoshimura, Masahiko Ishino, Thanh-Hung Dinh, Masaharu Nishikino, and Yasunari Maekawa
    • 学会等名
      The 39th International Conference of Photopolymer Science and Technology
    • 関連する報告書
      2022 実施状況報告書
    • 国際学会 / 招待講演
  • [学会発表] Recent Research activity for EUV Lithography at QST2022

    • 著者名/発表者名
      Hiroki Yamamoto, Yuji Hosaka, Kimio Yoshimura, Masahiko Ishino, Thanh-Hung Dinh, Masaharu Nishikino, and Yasunari Maekawa
    • 学会等名
      RadTech Asia 2022
    • 関連する報告書
      2022 実施状況報告書
    • 国際学会 / 招待講演

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公開日: 2022-02-08   更新日: 2023-12-25  

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