プラズマバイオプロセスにおけるラジカル表面相互作用の系統的解明

• 研究課題/領域番号: 22244075
• 研究種目: 基盤研究(A)
• 配分区分: 補助金
• 応募区分: 一般
• 研究分野: プラズマ科学
• 研究機関: 大阪大学
• 研究代表者: 浜口 智志 大阪大学, 大学院・工学研究科, 教授 (60301826)
• 連携研究者: 吉村 智 大阪大学, 大学院・工学研究科, 准教授 (40294029)
• 研究期間 (年度): 2010 – 2012
• 研究課題ステータス: 完了 (2012年度)
• 配分額: 44,330千円 (直接経費: 34,100千円、間接経費: 10,230千円); 2012年度: 11,830千円 (直接経費: 9,100千円、間接経費: 2,730千円); 2011年度: 11,830千円 (直接経費: 9,100千円、間接経費: 2,730千円); 2010年度: 20,670千円 (直接経費: 15,900千円、間接経費: 4,770千円)
• キーワード: 反応性プラズマ / プラズマ表面相互作用 / プラズマ / 表面・界面物性 / たんぱく質 / バイオ関連機器 / シミュレーション / 蛋白質 / 細胞外マトリックス / PMMA / イオンビーム / 大気圧プラズマ

研究概要

大気圧プラズマによるバイオマテリアルプロセスや生体組織プロセスの表面反応過程やその物理化学的機構の解明は、今後の人工臓器や医療機器開発の発展に極めて重要な科学的・工学的課題である。本研究は、こうした観点から、タンパク質等の有機高分子膜の大気圧プラズマプロセスにおけるプラズマ表面相互作用の表面反応基礎過程を、マルチ・ビーム照射実験と原子レベルシミュレーションを用いて解明した。

研究成果

• [雑誌論文] Grid-pattern formation of extracellular matrix on silicon by low-temperature atmospheric-pressure plasma jets for neural network biochip fabrication (2013)
  • 著者名/発表者名: Ayumi Ando, Hidetaka Uno, Tsuneo Urisu, and Satoshi Hamaguchi
  • 雑誌名: Appl. Surf. Sci 巻: 276 ページ: 1-6
  • DOI: 10.1016/j.apsusc.2013.02.001
  • 査読あり
• [雑誌論文] Grid-pattern formation of extracellular matrix on silicon by low-temperature atmospheric-pressure plasma jets for neural network biochip fabrication (2013)
  • 著者名/発表者名: Ayumi Ando, Hidetaka Uno, Tsuneo Uris, and Satoshi Hamaguchi
  • 雑誌名: Appl. Surf. Sci. 巻: 未定
  • 査読あり
• [雑誌論文] Quantum Cascade Laser (QCL) Absorption Spectroscopy with the Amplitude-to-Time Conversion (ATTC) Technique for Atmospheric-Pressure Plasmas (2013)
  • 著者名/発表者名: Takayoshi Yumii, Noriaki Kimura and Satoshi Hamaguchi
  • 雑誌名: J. Appl. Phys. 巻: 未定
  • 査読あり
• [雑誌論文] Oxidation of Nitric Oxide by Atmospheric Pressure Plasma in a Resonant Plasma Reactor (2013)
  • 著者名/発表者名: Takayoshi Yumii, Takashi Yoshida，Kyoji Doi，Noriaki Kimura, and Satoshi Hamaguchi
  • 雑誌名: J. Phys. D: Appl. Phys. 巻: 46
  • 査読あり
• [雑誌論文] Characteristics of silicon etching by silicon chloride ions (2013)
  • 著者名/発表者名: Tomoko Ito, Kazuhiro Karahashi, Song-Yun Kang, and Satoshi Hamaguchi
  • 雑誌名: J. Vac. Sci. Technol. A. 巻: 31
  • NAID: 120006955427
  • 査読あり
• [雑誌論文] Chemically reactive species in liquids generated by atmospheric-pressure plasmas and their roles in plasma medicine (2013)
  • 著者名/発表者名: Satoshi Hamaguchi
  • 雑誌名: AIP Conf. Proc. 巻: 未定
  • NAID: 120006957321
  • 査読あり
• [雑誌論文] Si damage due to oblique-angle ion impact relevant for vertical gate etching processes (2012)
  • 著者名/発表者名: Tomoko Ito, Kazuhiro Karahashi, Song-Yun Kang, and Satoshi Hamaguchi
  • 雑誌名: Jpn. J. Appl. Phys 巻: 51 号: 8S1 ページ: 08HB01-08HB01
  • DOI: 10.1143/jjap.51.08hb01
  • NAID: 210000141076
  • 査読あり
• [雑誌論文] Sputtering yields and surface modification of poly(methyl methacrylate) (PMMA) by low-energy, Ar+/CF3+ ion bombardment with vacuum ultraviolet (VUV) photon irradiation (2012)
  • 著者名/発表者名: S. Yoshimura, Y. Tsukazaki, M. Kiuchi, S.Sugimoto, and S. Hamaguchi
  • 雑誌名: J. Phys. D; Appl. Phys 巻: 45 号: 50 ページ: 1-10
  • DOI: 10.1088/0022-3727/45/50/505201
  • 査読あり
• [雑誌論文] Sputtering yields and surface modification of poly(methyl methacrylate) (PMMA) by low-energy Ar+/CF3+ ion bombardment with vacuum ultraviolet (VUV) photon irradiation (2012)
  • 著者名/発表者名: S. Yoshimura, Y. Tsukazaki, M. Kiuchi, S. Sugimoto, S. Hamaguchi,.
  • 雑誌名: J. Phys. D: Appl. Phys. 巻: 45
  • 査読あり
• [雑誌論文] Sputtering yields of magnesium hydroxide [Mg(OH)2] by noble-gas ion bombardment (2012)
  • 著者名/発表者名: Kazumasa Ikuse, Satoru Yoshimura, Masato Kiuchi, Masaharu Terauchi, Mikihiko Nishitani, and Satoshi Hamaguchi
  • 雑誌名: J. Phys. D: Appl. Phys. 巻: 45
  • 査読あり
• [雑誌論文] Efficient modification of the surface properties of interconnected porous hydroxyapatite by low-pressure low-frequency plasma treatment to promote its biological performance (2012)
  • 著者名/発表者名: Dae-Sung Lee, Yu Moriguchi, Akira Myoui, Hideki Yoshikawa and Satoshi Hamaguchi
  • 雑誌名: J. Phys. D: Appl. Phys. 巻: 45
  • 査読あり
• [雑誌論文] Microcavity array plasma system for remote chemical processing at atmospheric pressure (2012)
  • 著者名/発表者名: Dae-Sung Lee, Satoshi Hamaguchi, Osamu Sakai, Sung-Jin Park and J Gary Eden,
  • 雑誌名: J. Phys. D: Appl. Phys. 巻: 45
  • 査読あり
• [雑誌論文] Si damage due to oblique-angle ion impact relevant for vertical gate etching processes (2012)
  • 著者名/発表者名: Tomoko Ito, Kazuhiro Karahashi, Song-Yun Kang, and Satoshi Hamaguchi,
  • 雑誌名: Jpn. J. Appl. Phys. 巻: 51
  • NAID: 210000141076
  • 査読あり
• [雑誌論文] Dependence of catalytic properties of Indium-implanted SiO2 thin films on the energy and dose of incident Indium ions (2012)
  • 著者名/発表者名: S. Yoshimura, M. Kiuchi, Y. Nishimoto, M. Yasuda, A. Baba, S. Hamaguchi
  • 雑誌名: Thin Solid Films 巻: 520
  • 査読あり
• [雑誌論文] Sputtering yields of CaO, SrO, and BaO by monochromatic noble gas ion bombardment (2012)
  • 著者名/発表者名: S. Yoshimura, K. Hine, M. Kiuchi, J. Hashimoto, M. Terauchi, Y. Honda, M.Nishitani, and S. Hamaguchi
  • 雑誌名: Jpn. J. Appl. Phys. 巻: 51
  • NAID: 210000072700
  • 査読あり
• [雑誌論文] Low energy metal ion beam production with a modified Freeman-type ion source for development of novel catalysts (2012)
  • 著者名/発表者名: S. Yoshimura, M. Kiuchi, Y. Nishimoto, M. Yasuda, A. Baba, S. Hamaguchi
  • 雑誌名: e-J. Surf. Sci. Nanotech. 巻: 10 ページ: 139-144
  • 査読あり
• [雑誌論文] プラズマの医療応用 (2012)
  • 著者名/発表者名: 浜口智志
  • 雑誌名: パリティ 巻: 1月号 ページ: 16-17
  • 査読あり
• [雑誌論文] Si damage due to oblique-angle ion impact relevant for vertical gate etching processes (2012)
  • 著者名/発表者名: Tomoko Ito, Kazuhiro Karahashi, Song-Yun Kane, Satoshi Hamaguchi
  • 雑誌名: Jpn.J.Appl.Phys. 巻: (掲載予定)
  • NAID: 210000141076
  • 査読あり
• [雑誌論文] Dependence of catalytic properties of Indium-implanted SiO2 thin films on the energy and dose of incident Indium ions (2012)
  • 著者名/発表者名: S.Yoshimura, M.Kiuchi, Y.Nishimoto, M.Yasuda, A.Baba, S.Hamaguchi
  • 雑誌名: Thin Solid Films 巻: (掲載予定)
  • 査読あり
• [雑誌論文] Sputtering yields of CaO, SrO, and BaO by monochromatic noble gas ion bombardment (2012)
  • 著者名/発表者名: S.Yoshimura, K.Hine, M.Kiuchi, J.Hashimoto, M.Terauchi, Y.Honda, M.Nishitani, S.Hamaguchi
  • 雑誌名: Jpn.J.Appl.Phys. 巻: (掲載予定)
  • NAID: 210000072700
  • 査読あり
• [雑誌論文] Low energy metal ion beam production with a modified Freeman-type ion source for development of novel catalysts (2012)
  • 著者名/発表者名: S.Yoshimura, M.Kiuchi, Y.Nishimoto, M.Yasuda, A.Baba, S.Hamaguchi
  • 雑誌名: e-J.Surf.Sci.Nanotech.(2012) 巻: (掲載予定)
  • 査読あり
• [雑誌論文] Extracellular Matrix Patterning for Cell Alignment by Atmospheric Pressure Plasma Jets (2012)
  • 著者名/発表者名: Ayumi Ando, Toshifumi Asano, Md.Abu Saved, Ryugo Tero, Katsuhisa Kitano, Tsuneo Urisu, Satoshi Hamaguchi
  • 雑誌名: Jpn.J.Appl.Phys. 巻: 51
  • NAID: 40019199845
  • 査読あり
• [雑誌論文] Hydrogen effects in hydrofluorocarbon plasma etching of silicon nitride: Beam study with CF+, CF2+, CHF2+, and CH2F+ ions (2011)
  • 著者名/発表者名: Tomoko Ito, Kazuhiro Karahashi, Masanaga Fukasawa, Tetsuya Tatsumi, and Satoshi Hamaguchi
  • 雑誌名: J. Vac. Sci. Technol. A 巻: 29 号: 5
  • DOI: 10.1116/1.3610981
  • NAID: 120006955424
  • 査読あり
• [雑誌論文] Numerical analyses of hydrogen plasma generation by nanosecond pulsed high voltages at near-atmospheric pressure (2011)
  • 著者名/発表者名: Chieh-Wen Lo and Satoshi Hamaguchi
  • 雑誌名: J. Phys. D: Appl. Phys 巻: 44 号: 37 ページ: 375201-375201
  • DOI: 10.1088/0022-3727/44/37/375201
  • 査読あり
• [雑誌論文] Experimental evaluation of CaO, SrO, and BaO sputtering yields by Ne or Xe ions (2011)
  • 著者名/発表者名: S.Yoshimura, K.Hine, M.Kiuchi, J.Hashimoto, M.Terauchi, Y.Honda, M.Nishitani, S.Hamaguchi
  • 雑誌名: J.Phys.D : Appl.Phys 巻: 44
  • 査読あり
• [雑誌論文] Electron density measurement of inductively coupled plasmas by terahertz time-domain spectroscopy (THz-TDS) (2011)
  • 著者名/発表者名: Ayumi Ando, Tomoko Kurose, Vivien Reymond, Katsuhisa Kitano, Hideaki Kitahara, Keisuke Takano, Masahiko Tani, Masanori Hangyo, Satoshi Hamaguchi
  • 雑誌名: J.Appl.Phys. 巻: 110
  • NAID: 120006955425
  • 査読あり
• [雑誌論文] Micro pattern formation of extracellular-matrix (ECM) layers by atmospheric-pressure plasmas and cell culture on the patterned EGMs (2011)
  • 著者名/発表者名: Ayumi Ando, Tomoko Kurose, Vivien Reymond, Katsuhisa Kitano, Hideaki Kitahara, Keisuke Takano, Masahiko Tani, Masanori Hangyo, Satoshi Hamaguchi
  • 雑誌名: J.Phys.D : Appl.Phys. 巻: 44
  • 査読あり
• [雑誌論文] Arrangement of PC12 cells on a silicon chip via extracellular matrix (ECM) layer patterning by atmospheric pressure plasmas (2011)
  • 著者名/発表者名: Ayumi Ando, Hidetaka Uno, Toshifumi Asano, Tsuneo Urisu, Satoshi Hamaguchi
  • 雑誌名: Plasma Fusion Res. 巻: 6
  • NAID: 130002059489
  • 査読あり
• [雑誌論文] Plasma Microchannel and Jet Enhanced by an Array of Ellipsoidal Microcavities (2011)
  • 著者名/発表者名: D.-S.Lee, O.Sakai, S.-J.Park, J.G.Eden, S.Hamaguchi
  • 雑誌名: IEEE Trans.Plasma Sci. 巻: 39 ページ: 2690-2691
  • 査読あり
• [雑誌論文] Improvement of Hydrophilicity of Interconnected Porous Hydroxyapatite by Dielectric Barrier Discharge Plasma Treatment (2011)
  • 著者名/発表者名: Dae-Sung Lee, Yu Moriguchi, Kiyoshi Okada, Akira Myoui, Hideki Yoshikawa, Satoshi Hamaguchi
  • 雑誌名: IEEE Trans.Plasma Sci. 巻: 39 ページ: 2166-2167
  • 査読あり
• [雑誌論文] Dynamics of Near-Atmospheric Pressure Hydrogen Plasmas Driven by Pulsed High Voltages (2011)
  • 著者名/発表者名: Chieh-Wen Lo, Satoshi Hamaguchi
  • 雑誌名: IEEE Trans.Plasma Sci 巻: 39 ページ: 2100-2101
  • 査読あり
• [雑誌論文] Rapid Breakdown Mechanisms of Open Air Nanosecond Dielectric Barrier Discharges (2011)
  • 著者名/発表者名: Tsuyohito Ito, Tatsuya Kanazawa, Satoshi Hamaguchi
  • 雑誌名: Phys.Rev.Lett. 巻: 107
  • NAID: 120006955423
  • 査読あり
• [雑誌論文] Hydrogen effects in hydrofluorocarbon plasma etching of silicon nitride : Beam study with CF^+, CF2^+, CHF_2^+, and CH_2F^+ ions (2011)
  • 著者名/発表者名: Tomoko Ito, Kazuhiro Karahashi, Masanaga Fukasawa, Tetsuya Tatsumi, Satoshi Hamaguchi
  • 雑誌名: J.Vac.Sci.Technol.A 巻: 29
  • 査読あり
• [雑誌論文] Numerical analyses of hydrogen plasma generation by nanosecond pulsed high voltages at near-atmospheric pressure (2011)
  • 著者名/発表者名: Chieh-Wen Lo, Satoshi Hamaguchi
  • 雑誌名: J.Phys.D : Appl.Phys. 巻: 44
  • 査読あり
• [雑誌論文] Si recess of Poly-Si Gate Etching : Damage Enhanced by Ion Assisted Oxygen Diffusion (2011)
  • 著者名/発表者名: Tomoko Ito, Kazuhiro Karahashi, Masanaga Fukasawa, Tetsuya Tatsumi, Satoshi Hamaguchi
  • 雑誌名: Jpn.J.Appl.Phys. 巻: 50
  • 査読あり
• [雑誌論文] プラズマ医療におけるプラズマ生体相互作用 (2011)
  • 著者名/発表者名: 浜口智志
  • 雑誌名: J.Plasma Fusion Res. 巻: 87 ページ: 696-703
  • NAID: 110008750649
  • 査読あり
• [雑誌論文] 講座原子分子データベースの構築と利用:はじめに:-原子分子データベースの概要とプラズマ研究への応用- (2011)
  • 著者名/発表者名: 村上泉, 長壁正樹, 池田勝則, 西浦正樹, 小田昭紀, 菅原広剛, 浜口智志
  • 雑誌名: J.Plasma Fusion Res 巻: 88 ページ: 35-47
  • 査読あり
• [雑誌論文] Molecular dynamics simulation of the formation of sp3 hybridized bonds in hydrogenated diamond-like carbon deposition processes (2010)
  • 著者名/発表者名: Y. Murakami, S. Horiguchi, and S. Hamaguchi
  • 雑誌名: Phys. Rev. E 巻: 81 号: 4
  • DOI: 10.1103/physreve.81.041602
  • 査読あり
• [雑誌論文] Reverse Propagation of Atmospheric Pressure Plasma Jets (2010)
  • 著者名/発表者名: Tsuyohito Ito, Aurelien Raddenzati, Artabaze Shams, Satoshi Hamaguchi
  • 雑誌名: Jpn.J.Appl.Phys. 巻: 49
  • NAID: 40017341196
  • 査読あり
• [雑誌論文] Plasma-surface Interactions in Material Processing (2010)
  • 著者名/発表者名: S.Hamaguchi
  • 雑誌名: J.Phys. : Conf.Series 巻: 257
  • 査読あり
• [雑誌論文] Novel catalysts : indium implanted SiO2 thin films (2010)
  • 著者名/発表者名: S.Yoshimura, K.Hine, M.Kiuchi, Y.Nishimoto, M.Yasuda, A.Baba, S.Hamaguchi
  • 雑誌名: Appl.Surf.Sci. 巻: 257 ページ: 192-196
  • 査読あり
• [雑誌論文] Protein pattering by atmospheric-pressure plasmas (2010)
  • 著者名/発表者名: A.Ando, A.Sayed, T.Asano, R.Tero, K.Kitano, T.Urisu, S.Hamaguchi
  • 雑誌名: J.Phys. : Conf.Series 巻: 227
  • 査読あり
• [雑誌論文] Effects of Hydrogen Incorporation in the Formation of Hydrogenated Diamond-like Carbon Films (2010)
  • 著者名/発表者名: Y.Murakami, K.Hosaka, S.Hamaguchi
  • 雑誌名: J.Phys. : Conf.Series 巻: 232
  • 査読あり
• [雑誌論文] Evaluation of Si etching yields by Cl^+, Br^+, and HBr^+ ion irradiation (2010)
  • 著者名/発表者名: Tomoko Ito, Kazuhiro Karahashi, Song-Yun Kang, Satoshi Hamaguchi
  • 雑誌名: J.Phys. : Conf.Series 巻: 232
  • 査読あり
• [雑誌論文] Particle-in-Cell Simulations of High-Pressure Hydrogen Plasmas Driven by Nano-second Pulsed High-Voltages (2010)
  • 著者名/発表者名: C.W.Lo, S.Hamaguchi
  • 雑誌名: J.Phys. : Conf.Series 巻: 232
  • 査読あり
• [雑誌論文] Effect of light irradiation from inductively coupled Ar plasma on etching yields of SiO_2 film by CF_3 ion beam injections (2010)
  • 著者名/発表者名: S.Yoshimura, Y.Tsukazaki, K.Ikuse, M.Kiuchi, S.Hamaguchi
  • 雑誌名: J.Phys. : Conference Series 巻: 232
  • 査読あり
• [雑誌論文] Electron density measurement for plasmas by Terahertz time-domain spectroscopy (2010)
  • 著者名/発表者名: A.Ando, H.Kitahara, T.Kurose, K.Kitano, K.Takano, M.Tani, M.Hangyo, S.Hamaguchi
  • 雑誌名: J.Phys. : Conf.Series 巻: 227
  • 査読あり
• [雑誌論文] Electric field measurements in near-atmospheric pressure nitrogen and air based on a four-wave mixing scheme (2010)
  • 著者名/発表者名: S.Mueller, T.Ito, K.Kobayashi, D.Luggenholscher, U.Czarnetzki, S.Hamaguchi
  • 雑誌名: J.Phys. : Conf.Series 巻: 227
  • 査読あり
• [雑誌論文] Molecular dynamics simulation of the formation of sp3 hybridized bonds in hydrogenated diamond-like carbon deposition processes (2010)
  • 著者名/発表者名: Y.Murakami, S.Horiguchi, S.Hamaguchi
  • 雑誌名: Phys.Rev.E. 巻: 81
  • 査読あり
• [雑誌論文] Facile Creation of Biointerface on Commodity Plastic Surface by Combination of Atmospheric Plasma and Reactive Polymer Coating (2010)
  • 著者名/発表者名: Naoki Kanayama, Swapan Kumar Saha, Naoki Nakayama, Jun Nakanishi, Katsuhisa Kitano, Satoshi Hamaguchi, Yukiko Nagasaki
  • 雑誌名: J.Photopolymer Sci.Tech. 巻: 23 ページ: 579-583
  • NAID: 130004833370
  • 査読あり
• [学会発表] Chemically reactive species in liquids generated by atmospheric-pressure plasmas and their roles in plasma medicine (2012)
  • 著者名/発表者名: Satoshi Hamaguchi
  • 学会等名: 8th International Conference on Atomic and Molecular Data and Their Applications (ICAMDATA-8)
  • 発表場所: Gaithersburg, MD, USA
  • 年月日: 2012-09-30
• [学会発表] Numerical analysis of nano-second pulsed discharge near atmospheric pressure (2012)
  • 著者名/発表者名: Satoshi Hamaguchi
  • 学会等名: International Workshop "Physics of Microplasmas"
  • 発表場所: Bochum, Germany
  • 年月日: 2012-05-30
• [学会発表] 低エネルギーイオンビーム照射によるPMMAエッチングイールドの測定と水素プラズマ暴露のエッチングイールドへの影響 (2012)
  • 著者名/発表者名: 吉村智
  • 学会等名: 第59回応用物理学関係連合講演会
  • 発表場所: 早稲田大学(東京都)
  • 年月日: 2012-03-15
• [学会発表] 大気圧放電に接した水中における活性酸素・活性窒素種の化学反応シミュレーション (2012)
  • 著者名/発表者名: 金澤龍也
  • 学会等名: 第59回応用物理学関係連合講演会
  • 発表場所: 早稲田大学(東京都)
  • 年月日: 2012-03-15
• [学会発表] ヘテロエピタキシャルダイヤモンド成長のためのIr(100)/MgOへの低エネルギー炭素イオン照射 (2012)
  • 著者名/発表者名: 井谷司
  • 学会等名: 第59回応用物理学関係連合講演会
  • 発表場所: 早稲田大学(東京都)
  • 年月日: 2012-03-15
• [学会発表] 水素イオン入射によるシリコン中の増速酸化プロセスの入射エネルギー依存性 (2012)
  • 著者名/発表者名: 溝谷浩平
  • 学会等名: 第59回応用物理学関係連合講演会
  • 発表場所: 早稲田大学(東京都)
  • 年月日: 2012-03-15
• [学会発表] メタノールプラズマプロセス中のイオン照射によるFeCoBエッチング反応 (2012)
  • 著者名/発表者名: 唐橋一浩
  • 学会等名: 第59回応用物理学関係連合講演会
  • 発表場所: 早稲田大学(東京都)
  • 年月日: 2012-03-15
• [学会発表] フロロカーボンイオン照射におけるSiNx:H膜中の水素の含有率の違いによるエッチング反応への影響 (2012)
  • 著者名/発表者名: 伊藤智子
  • 学会等名: 第59回応用物理学関係連合講演会
  • 発表場所: 早稲田大学(東京都)
  • 年月日: 2012-03-15
• [学会発表] Ion beam studies on plasma-surface interactions (2012)
  • 著者名/発表者名: S.Hamaguchi
  • 学会等名: Semiconductor Research Corporation (SRC) & Tokyo Electron (TEL) Workshop on Future Materials and Processes for Nanotechnology
  • 発表場所: Tokyo, Japan
  • 年月日: 2012-02-17
• [学会発表] 磁気抵抗メモリ(MRAM)高集積化のための選択性エッチング機構の解明 (2012)
  • 著者名/発表者名: 伊藤智子
  • 学会等名: STARCフォーラム/シンポジウム2011「ライフ&グリーンイノベーション領域への挑戦」
  • 発表場所: 新横浜国際ホテル(神奈川)
  • 年月日: 2012-02-01
• [学会発表] Applications of non-equilibrium plasmas in medicine (2012)
  • 著者名/発表者名: S.Hamaguchi
  • 学会等名: International Symposium for 25th Anniversary of H-mode Bifurcation Theory
  • 発表場所: Fukuoka, Japan(招待講演)
  • 年月日: 2012-01-24
• [学会発表] Numerical analysis of silicon oxidation processes enhanced by energetic hydrogen ion injections (2012)
  • 著者名/発表者名: Kohei Mizotani
  • 学会等名: The 8^<th> EU-Japan Joint Symposium on Plasma Processing
  • 発表場所: Nara, Japan
  • 年月日: 2012-01-16
• [学会発表] Effects of Thermostat Algorithms for Cooling and Relaxation Processes in MD Simulation (2012)
  • 著者名/発表者名: Keita Miyake
  • 学会等名: The 8^<th> EU-Japan Joint Symposium on Plasma Processing
  • 発表場所: Nara, Japan
  • 年月日: 2012-01-16
• [学会発表] Etching reactions of magnetic materials (Ni, Co) in methanol plasma etching processes (2012)
  • 著者名/発表者名: Kazuhiro Karahashi
  • 学会等名: The 8^<th> EU-Japan Joint Symposium on Plasma Processing
  • 発表場所: Nara, Japan
  • 年月日: 2012-01-16
• [学会発表] Si damage by grazing ion incidence during plasma etching processes (2012)
  • 著者名/発表者名: Tomoko Ito
  • 学会等名: The 8^<th> EU-Japan Joint Symposium on Plasma Processing
  • 発表場所: Nara, Japan
  • 年月日: 2012-01-16
• [学会発表] Low-energy carbon-ion injection into Ir(100)/MgO for hetero-epitaxial growth of diamond (2012)
  • 著者名/発表者名: T.Itani
  • 学会等名: The 8^<th> EU-Japan Joint Symposium on Plasma Processing
  • 発表場所: Nara, Japan
  • 年月日: 2012-01-16
• [学会発表] Low energy mass-selected metal ion beam production with a modified Freeman-type ion source (2012)
  • 著者名/発表者名: Y.Yoshimura
  • 学会等名: The 8^<th> EU-Japan Joint Symposium on Plasma Processing
  • 発表場所: Nara, Japan
  • 年月日: 2012-01-16
• [学会発表] Trapping of hydrogen in silicon near the surface resulting from simultaneous bombardment of argon and hydrogen ions (2012)
  • 著者名/発表者名: C.Thomas
  • 学会等名: The 8^<th> EU-Japan Joint Symposium on Plasma Processing
  • 発表場所: Nara, Japan
  • 年月日: 2012-01-16
• [学会発表] Mass-selected ion beam system for the study of beam-surface inter action (2012)
  • 著者名/発表者名: Hu Li
  • 学会等名: The 8^<th> EU-Japan Joint Symposium on Plasma Processing
  • 発表場所: Nara, Japan
  • 年月日: 2012-01-16
• [学会発表] Arrangement of PC12 cells on extracellular matrix (ECM) layers patterned by atmospheric pressure plasmas (2012)
  • 著者名/発表者名: Ayumi Ando
  • 学会等名: The 8^<th> EU-Japan Joint Symposium on Plasma Processing
  • 発表場所: Nara, Japan
  • 年月日: 2012-01-16
• [学会発表] Zero-Dimensional Reaction Simulations of Reactive Oxygen Species in Water (2012)
  • 著者名/発表者名: Tatsuya Kanazawa
  • 学会等名: The 8^<th> EU-Japan Joint Symposium on Plasma Processing
  • 発表場所: Nara, Japan
  • 年月日: 2012-01-16
• [学会発表] Molecular dynamic simulation for enhancement of Si_3N_4/SiO_2 etching selectivity by incorporation of hydrogen in fluorocarbon-based plasmas (2012)
  • 著者名/発表者名: Ryota Shigekawa
  • 学会等名: The 8^<th> EU-Japan Joint Symposium on Plasma Processing
  • 発表場所: Nara, Japan
  • 年月日: 2012-01-16
• [学会発表] Plasma-Tissue Interaction-Roles of Bio-interfaces in Plasma Medicine (2011)
  • 著者名/発表者名: S.Hamaguchi
  • 学会等名: 21st Material Research Society Japan
  • 発表場所: Yokohama, Japan(招待講演)
  • 年月日: 2011-12-19
• [学会発表] Extracellular matrix (ECM) patterning by atmospheric-pressure plasmas for arranging neuronal cells on silicon substrates (2011)
  • 著者名/発表者名: Ayumi Ando
  • 学会等名: Plasma Conference 2011
  • 発表場所: Kanazawa, Japan(招待講演)
  • 年月日: 2011-11-22
• [学会発表] Study of plasma-surface reactions by a multi beam system (2011)
  • 著者名/発表者名: Kazuhiro Karahashi
  • 学会等名: Plasma Conference 2011
  • 発表場所: Kanazawa, Japan(招待講演)
  • 年月日: 2011-11-22
• [学会発表] Etching reactions of magnetic thin films by ion irradiation Etching reactions of magnetic thin films by ion irradiation (2011)
  • 著者名/発表者名: Tomoko Ito
  • 学会等名: Plasma Conference 2011
  • 発表場所: Kanazawa, Japan
  • 年月日: 2011-11-22
• [学会発表] 新しいプラズマ科学技術:ライフイノベーションへの挑戦:イントロダクション (2011)
  • 著者名/発表者名: 浜口智志
  • 学会等名: Plasma Conference 2011
  • 発表場所: 石川県立音楽堂(金沢市)
  • 年月日: 2011-11-22
• [学会発表] Enhancement of hydrogen trapping by heavier ion bombardment in silicon (111) surfaces (2011)
  • 著者名/発表者名: C.Thomas
  • 学会等名: 64th Annual Gaseous Electronics Conference
  • 発表場所: Salt Lake City, Utah, USA
  • 年月日: 2011-11-14
• [学会発表] Laser electric field measurement in open-air dielectric barrier discharges (2011)
  • 著者名/発表者名: Tsuyohito Ito
  • 学会等名: 64th Annual Gaseous Electronics Conference
  • 発表場所: Salt Lake City, Utah, USA
  • 年月日: 2011-11-14
• [学会発表] Low energy mass-selected metal ion beam production with a modifled Freeman-type ion source for the development of novel catalysts (2011)
  • 著者名/発表者名: S.Yoshimura
  • 学会等名: 6^<th> International Symposium on Surface Science and Nanotechnology
  • 発表場所: Tokyo Japan
  • 年月日: 2011-11-11
• [学会発表] Etching reactions of Ni and Ta films by CO^+, C^+, O^+ and OH^+ ion irradiation (2011)
  • 著者名/発表者名: Kazuhiro Karahashi
  • 学会等名: The 33nd International Symposium on Dry Process
  • 発表場所: Kyoto, Japan
  • 年月日: 2011-11-10
• [学会発表] Si damage due to oblique-angle icm impact relevant for vertical gate etching processes (2011)
  • 著者名/発表者名: Tomoko Ito
  • 学会等名: The 33nd International Symposium on Dry Process
  • 発表場所: Kyoto, Japan
  • 年月日: 2011-11-10
• [学会発表] Enhancement of Si_3N_4/SiO_2 etching selectivity by incorporation of hydrogen in fluorocarbon-based plasmas : comparison of numerical simul ation with beam experiments (2011)
  • 著者名/発表者名: Ryota Shigekawa
  • 学会等名: The 33nd International Symposium on Dry Process
  • 発表場所: Kyoto, Japan
  • 年月日: 2011-11-10
• [学会発表] Measurement of MgO, CaO, SrO, and BaO sputtering yields by noble gas ions for plasma display panel cells (2011)
  • 著者名/発表者名: S.Yoshimura
  • 学会等名: The 33nd International Symposium on Dry Process
  • 発表場所: Kyoto, Japan
  • 年月日: 2011-11-10
• [学会発表] Optimization and characterization of surface properties of interconnected porous hydroxyapatite via plasma treatment (2011)
  • 著者名/発表者名: D.-S.Lee
  • 学会等名: The 33nd International Symposium on Dry Process
  • 発表場所: Kyoto, Japan
  • 年月日: 2011-11-10
• [学会発表] Plasma Surface Treatment of Artificial Bones and its Application to Regenerative Medicine (2011)
  • 著者名/発表者名: S.Hamaguchi
  • 学会等名: 8th International Conference on Flow Dynamics
  • 発表場所: Sendai, Japan(招待講演)
  • 年月日: 2011-11-09
• [学会発表] Ion beam studies on plasma-surface interactions (2011)
  • 著者名/発表者名: S.Hamaguchi
  • 学会等名: Semiconductor Research Corporation (SRC) CEMPI Back End Processes Review
  • 発表場所: Denton, TX, USA
  • 年月日: 2011-11-07
• [学会発表] Mechanisms of selective etching for magnetic materials : Ni, Co and Ta etching by carbon monoxide/methyl alcohol based plasmas (2011)
  • 著者名/発表者名: Kazuhiro Karahashi
  • 学会等名: American Vacuum Society 58th International Symposium & Exhibition
  • 発表場所: Nashville, USA
  • 年月日: 2011-10-30
• [学会発表] Characteristics of silicon nitride etching by reactive plasmas containing CHxFy ions (2011)
  • 著者名/発表者名: Tomoko Ito
  • 学会等名: American Vacuum Society 58th International Symposium & Exhibition
  • 発表場所: Nashville, USA
  • 年月日: 2011-10-30
• [学会発表] Numerical Simulation of Enhanced Oxygen Diffusion in Silicon as a Cause of Si Recess (2011)
  • 著者名/発表者名: Kohei Mizotani
  • 学会等名: American Vacuum Society 58th International Symposium & Exhibition
  • 発表場所: Nashville, USA
  • 年月日: 2011-10-30
• [学会発表] Molecular dynamic simulation for selective etching of silicon nitride and silicon oxide by hydrofluorocarbon ions (2011)
  • 著者名/発表者名: Ryota Shigekawa
  • 学会等名: American Vacuum Society 58th International Symposium & Exhibition
  • 発表場所: Nashville, USA
  • 年月日: 2011-10-30
• [学会発表] Recent development of plasma medicine (2011)
  • 著者名/発表者名: S.Hamaguchi
  • 学会等名: 2011 Northeastern Asian Symposium on Plasma Fusion
  • 発表場所: Daejeon, Korea(招待講演)
  • 年月日: 2011-09-25
• [学会発表] Molecular dynamics (MD) simulation for semiconductor nanotechnology (2011)
  • 著者名/発表者名: S.Hamaguchi
  • 学会等名: International Symposium on Renewable Energy & Materials Tailoring
  • 発表場所: Kyoto, Japan(招待講演)
  • 年月日: 2011-09-18
• [学会発表] Ionization-front propagation in nano-second pulsed plasmas near atmospheric pressure: analyses by particle-in-cell (PIC) simulation (2011)
  • 著者名/発表者名: Satoshi Hamaguchi
  • 学会等名: the 22nd International Conference on Numerical Simulation of Plasmas
  • 発表場所: Long Branch, NJ. USA
  • 年月日: 2011-09-07
• [学会発表] Ionization-front propagation in nano-second pulsed plasmas near atmospheric pressure : analyses by particle-in-cell (PIC) simulation (2011)
  • 著者名/発表者名: S.Hamaguchi
  • 学会等名: the 22nd International Conference on Numerical Simulation of Plasmas
  • 発表場所: Long Branch, NJ.USA(招待講演)
  • 年月日: 2011-09-07
• [学会発表] プラズマ医療の現状と課題 (2011)
  • 著者名/発表者名: 浜口智志
  • 学会等名: 第885回Technical Seminar
  • 発表場所: 総評会館(東京)(招待講演)
  • 年月日: 2011-08-31
• [学会発表] HCl^+,HB^+およびSiCl_x^+イオン照射によるSiエッチング反応の評価 (2011)
  • 著者名/発表者名: 伊藤智子
  • 学会等名: 第72回応用物理学術講演会
  • 発表場所: 山形大学
  • 年月日: 2011-08-29
• [学会発表] メタノールプラズマエッチングプロセス中のイオン照射によるNi薄膜酸化過程の解析 (2011)
  • 著者名/発表者名: 唐橋一浩
  • 学会等名: 第72回応用物理学術講演会
  • 発表場所: 山形大学
  • 年月日: 2011-08-29
• [学会発表] 水素イオン入射によるシリコン中の増速酸化プロセスの数値解析 (2011)
  • 著者名/発表者名: 溝谷浩平
  • 学会等名: 第72回応用物理学術講演会
  • 発表場所: 山形大学
  • 年月日: 2011-08-29
• [学会発表] 低圧誘電体バリア放電プラズマ処理による連通多孔体ハイドロキシアパタイトの効果的表面改質 (2011)
  • 著者名/発表者名: Daesung Lee
  • 学会等名: 第72回応用物理学術講演会
  • 発表場所: 山形大学
  • 年月日: 2011-08-29
• [学会発表] 大気圧プラズマによる培養液中の長寿命ラジカル生成と細胞増殖効果 (2011)
  • 著者名/発表者名: 増田一仁
  • 学会等名: 第72回応用物理学術講演会
  • 発表場所: 山形大学
  • 年月日: 2011-08-29
• [学会発表] SiNエッチングにおける水素反応:分子動力学シミュレーション解析 (2011)
  • 著者名/発表者名: 重川遼太
  • 学会等名: 第72回応用物理学術講演会
  • 発表場所: 山形大学
  • 年月日: 2011-08-29
• [学会発表] インジウム照射SiO2基板の触媒効果の入射エネルギー依存性 (2011)
  • 著者名/発表者名: 吉村智
  • 学会等名: 第72回応用物理学術講演会
  • 発表場所: 山形大学
  • 年月日: 2011-08-29
• [学会発表] Plasma medicine in orthopaedics (2011)
  • 著者名/発表者名: Satoshi Hamaguchi
  • 学会等名: the 1st International Symposium for Plasma Biosciences
  • 発表場所: Seoul, Korea
  • 年月日: 2011-08-14
• [学会発表] Plasma medicine in orthopaedics (2011)
  • 著者名/発表者名: S.Hamaguchi
  • 学会等名: the 1st International Symposium for Plasma Biosciences
  • 発表場所: Seul, Korea(招待講演)
  • 年月日: 2011-08-14
• [学会発表] Dielectric barrier discbarge plasma treatment of biomaterial surfaces for orthopaedic applications (2011)
  • 著者名/発表者名: D.-S.Lee
  • 学会等名: the 1st International Symposium for Plasma Biosciences
  • 発表場所: Seul, Korea
  • 年月日: 2011-08-14
• [学会発表] Patterning of an extracellular matrix (ECM) layer on silicon by atmos pheric-pressure plasmas for living neuron network chip fabrication (2011)
  • 著者名/発表者名: Ayumi Ando
  • 学会等名: The 20th International Symposium on Plasma Chemistry
  • 発表場所: Philadelphia, USA
  • 年月日: 2011-07-24
• [学会発表] Plasma Irradiation Effects on Cells, Tissues, and Biomaterials in Orthopaedic Applications (2011)
  • 著者名/発表者名: Kazuto Masuda
  • 学会等名: The 20th International Symposium on Plasma Chemistry
  • 発表場所: Philadelphia, USA
  • 年月日: 2011-07-24
• [学会発表] Particle-in-cell (PIC) simulation analysis of the ionization-front propagation in the formation phase of a nano-second pulsed atmospheric-pressure hydrogen plasma (2011)
  • 著者名/発表者名: Satoshi Hamaguchi
  • 学会等名: The 20th International Symposium on Plasma Chemistry
  • 発表場所: Philadelphia, USA
  • 年月日: 2011-07-24
• [学会発表] Helium-Oxygen Plasma Treatment of Interconnected Porous Hydroxya patite as a Material for Artificial Bones (2011)
  • 著者名/発表者名: Dae-Sung Lee
  • 学会等名: the 24th Symposium on Plasma Science for Materials
  • 発表場所: Osaka, Japan
  • 年月日: 2011-07-19
• [学会発表] Hydrogen trapping enhanced by ion induced damages in silicon (2011)
  • 著者名/発表者名: C.Thomas
  • 学会等名: the 3rd International Conference on Microelectronics and Plasma Technology
  • 発表場所: Dalian, China
  • 年月日: 2011-07-04
• [学会発表] Discharge Formation Mechanisms of Nano-Second High-Pressure Hydrogen Discharges (2011)
  • 著者名/発表者名: S.Hamaguchi
  • 学会等名: the 3rd International Conference on Microelectronics and Plasma Technology
  • 発表場所: Dalian, China
  • 年月日: 2011-07-04
• [学会発表] カーボン堆積膜の密着性解析 (2011)
  • 著者名/発表者名: 松隈正明
  • 学会等名: 第1回マルチスケールマテリアルモデリングシンポジウム・第16回分子動力学シンポジウム
  • 発表場所: 大阪大学
  • 年月日: 2011-05-23
• [学会発表] 水素希釈炭化水素プラズマによるDLC薄膜堆積プロセスの分子動力学シミュレーション解析 (2011)
  • 著者名/発表者名: 村上泰夫
  • 学会等名: 第58回応用物理学関係連合講演会
  • 発表場所: 神奈川工科大学、神奈川県厚木市
  • 年月日: 2011-03-24
• [学会発表] Si酸化反応における水素イオン照射効果 (2011)
  • 著者名/発表者名: 伊藤智子
  • 学会等名: 第58回応用物理学関係連合講演会
  • 発表場所: 神奈川工科大学、神奈川県厚木市
  • 年月日: 2011-03-24
• [学会発表] CO+イオンによるCo,NiおよびTaエッチング反応 (2011)
  • 著者名/発表者名: 唐橋一浩
  • 学会等名: 第58回応用物理学関係連合講演会
  • 発表場所: 神奈川工科大学、神奈川県厚木市
  • 年月日: 2011-03-24
• [学会発表] フロロカーボンプラズマからのイオン照射によるPMMAのエッチングイールド (2011)
  • 著者名/発表者名: 塚崎泰裕
  • 学会等名: 第58回応用物理学関係連合講演会
  • 発表場所: 神奈川工科大学、神奈川県厚木市
  • 年月日: 2011-03-24
• [学会発表] PMMA(ポリメチルメタクリレート)のビームエッチング分子動力学シミュレーション (2011)
  • 著者名/発表者名: 森田泰光
  • 学会等名: 第58回応用物理学関係連合講演会
  • 発表場所: 神奈川工科大学、神奈川県厚木市
  • 年月日: 2011-03-24
• [学会発表] 分子動力学法を用いたシリコン窒化膜のエッチングシミュレーション (2011)
  • 著者名/発表者名: 重川遼太
  • 学会等名: 第58回応用物理学関係連合講演会
  • 発表場所: 神奈川工科大学、神奈川県厚木市
  • 年月日: 2011-03-24
• [学会発表] 整形外科分野におけるプラズマ技術応用の可能性 (2011)
  • 著者名/発表者名: 浜口智志
  • 学会等名: 第58回応用物理学関係連合講演会
  • 発表場所: 神奈川工科大学、神奈川県厚木市
  • 年月日: 2011-03-24
• [学会発表] Surface modification of interconnected porous hydroxyapatite by dielectric barrier discharge (DBD) plasma treatment (2011)
  • 著者名/発表者名: Dae-Sung Lee
  • 学会等名: 第58回応用物理学関係連合講演会
  • 発表場所: 神奈川工科大学、神奈川県厚木市
  • 年月日: 2011-03-24
• [学会発表] 大気圧プラズマ照射による細胞増殖促進プロセス (2011)
  • 著者名/発表者名: 増田一仁
  • 学会等名: 第58回応用物理学関係連合講演会
  • 発表場所: 神奈川工科大学、神奈川県厚木市
  • 年月日: 2011-03-24
• [学会発表] 大気圧低温プラズマによる神経細胞ネットワーク用細胞外マトリックスパターニング技術の開発 (2011)
  • 著者名/発表者名: 安藤あゆみ
  • 学会等名: 第58回応用物理学関係連合講演会
  • 発表場所: 神奈川工科大学、神奈川県厚木市
  • 年月日: 2011-03-24
• [学会発表] 最近のプラズマ医療研究の動向 (2011)
  • 著者名/発表者名: 浜口智志
  • 学会等名: 第1回プラズマ医療・健康産業シンポジウム/第5回光・プラズマプロセスのバイオ応用ワークショップ
  • 発表場所: 大阪大学中之島センター、大阪市
  • 年月日: 2011-03-22
• [学会発表] Molecular Dynamics Simulation of enhanced oxygen diffusion in silicon by energetic hydrogen ion injections (2011)
  • 著者名/発表者名: Kouhei Mizotani
  • 学会等名: 2011 Japan-Taiwan Symposium on Polyscale Technologies for Biomedical Engineering and Environmental Sciences/The 5th Polyscale Technology Workshop (PT-BMES 2011/PTW-5)
  • 発表場所: Noda, Chiba, Japan
  • 年月日: 2011-03-07
• [学会発表] Effects of Low-Temperature Atmospheric-Pressure Plasmas Application on Cell Proliferation and Biomaterial Surface Modification (2011)
  • 著者名/発表者名: Satoshi Hamaguchi
  • 学会等名: 2011 Japan-Taiwan Symposium on Polyscale Technologies for Biomedical Engineering and Environmental Sciences/The 5th Polyscale Technology Workshop (PT-BMES 2011/PTW-5)
  • 発表場所: Noda, Chiba, Japan
  • 年月日: 2011-03-07
• [学会発表] 磁性体およびSi系材料反応性イオンエッチングの表面反応解析 (2011)
  • 著者名/発表者名: 浜口智志
  • 学会等名: 応用物理学会シリコンテクノロジー分科会第133会研究会「最先端プラズマプロセスにおけるダメージ/バラつき/異物制御」
  • 発表場所: 東京大学弥生キャンパス、東京都文京区(招待講演)
  • 年月日: 2011-02-18
• [学会発表] Interactions of Low-Temperature Atmospheric-Pressure Plasmas with Cells, Tissues, and Biomaterials for Orthopaedic Applications (2011)
  • 著者名/発表者名: Satoshi Hamaguchi
  • 学会等名: The 40th Winter AnnualConference of the Korean Vacuum Society
  • 発表場所: Gangwon-do, Korea
  • 年月日: 2011-02-09
• [学会発表] Interactions of Low-Temperature Atmospheric-Pressure Plasmas with Cells, Tissues, and Biomaterials for Orthopaedic Applications (2011)
  • 著者名/発表者名: Satoshi Hamaguchi
  • 学会等名: The 40th Winter Annual Conference of the Korean Vacuum Society
  • 発表場所: Gangwon-d, Korea(invited)
  • 年月日: 2011-02-09
• [学会発表] イオン・ラジカルビームによる表面反応解析 (2010)
  • 著者名/発表者名: 唐橋一浩
  • 学会等名: 第10回インテリジェント・ナノプロセス研究会
  • 発表場所: 東北大学流体科学研究所、仙台市(招待講演)
  • 年月日: 2010-12-22
• [学会発表] 大気圧プラズマによる神経細胞ネットワークチップ用細胞外マトリックスパターニング (2010)
  • 著者名/発表者名: 安藤あゆみ
  • 学会等名: 第27回プラズマ・核融合学会年会
  • 発表場所: 北海道大学,札幌市
  • 年月日: 2010-11-30
• [学会発表] Si recess of poly-Si gate etching : damage enhanced by ion assisted oxygen diffusion (2010)
  • 著者名/発表者名: Tomoko Ito
  • 学会等名: The 32nd International Symposium on Dry Process (DPS)
  • 発表場所: Tokyo, Japan
  • 年月日: 2010-11-11
• [学会発表] Mechanisms of selective etching for magnetic thin films by reactive plasmas for MRAM applications (2010)
  • 著者名/発表者名: Kazuhiro Karahashi
  • 学会等名: The 32nd International Symposium on Dry Process (DPS)
  • 発表場所: Tokyo, Japan
  • 年月日: 2010-11-11
• [学会発表] Propagation of an Ionization Front of Hydrogen Plasma Driven by Pulsed High Voltage under High Pressure (2010)
  • 著者名/発表者名: Chieh-Wen Lo
  • 学会等名: The 52nd Annual Meeting of the Division of Plasma Physics, American Physical Society
  • 発表場所: Chicago, IL, USA
  • 年月日: 2010-11-08
• [学会発表] Etching mechanisms of Pt, Co and PtCo magnetic films by chemically reactive energetic ion injections (2010)
  • 著者名/発表者名: Kazuhiro Karahashi
  • 学会等名: American Vacuum Society 57th International Symposium & Exhibition
  • 発表場所: Albuquerque, New Mexico, USA
  • 年月日: 2010-10-17
• [学会発表] Characteristics of silicon nitride etching by reactive plasmas containing CHxFy ions (2010)
  • 著者名/発表者名: Tomoko Ito
  • 学会等名: American Vacuum Society 57th International Symposium & Exhibition
  • 発表場所: Albuquerque, New Mexico, USA
  • 年月日: 2010-10-17
• [学会発表] Molecular dynamics simulation of fluorocarbon/hydrogen ion beam interaction with a PMMA (polymethyl methacrylate) surface (2010)
  • 著者名/発表者名: Yasumitsu Morita
  • 学会等名: American Vacuum Society 57th International Symposium & Exhibition
  • 発表場所: Albuquerque, New Mexico, USA
  • 年月日: 2010-10-17
• [学会発表] Extracellular matrix patterning by atmospheric pressure plasma jets (2010)
  • 著者名/発表者名: Ayumi Ando
  • 学会等名: the 7th International Conference on Reactive Plasmas, 28th Symposium on Plasma Processing and 63rd Gaseous Electronics Conference (ICRP-7/SPP-28/GEC-63)
  • 発表場所: Paris, France
  • 年月日: 2010-10-04
• [学会発表] Plasma Stimulation for Cell Proliferation and Their Possible Applications in Orthopedics (2010)
  • 著者名/発表者名: Satoshi Hamaguchi
  • 学会等名: The 3rd International Conference on Plasma Medicine (ICPM-3)
  • 発表場所: Greifswald, Germany
  • 年月日: 2010-09-19
• [学会発表] CHxFy+イオンエッチングにおける水素の効果 (2010)
  • 著者名/発表者名: 伊藤智子
  • 学会等名: 第71回応用物理学術講演会
  • 発表場所: 長崎大学文教キャンパス、長崎市
  • 年月日: 2010-09-14
• [学会発表] CO+イオンによるPt,CoおよびPtCoエッチング反応 (2010)
  • 著者名/発表者名: 唐橋一浩
  • 学会等名: 第71回応用物理学術講演会
  • 発表場所: 長崎大学文教キャンパス、長崎市
  • 年月日: 2010-09-14
• [学会発表] フロロカーボンおよび水素イオン入射によるPMMA(ポリメチルメタクリレート)表面の改質に関する分子動力学シミュレーション (2010)
  • 著者名/発表者名: 森田泰光
  • 学会等名: 第71回応用物理学術講演会
  • 発表場所: 長崎大学文教キャンパス、長崎市
  • 年月日: 2010-09-14
• [学会発表] Diagnosis of Atmospheric Pressure Plasmas by using Terahertz Time-Domain Spectroscopy (2010)
  • 著者名/発表者名: Hideaki Kitahara
  • 学会等名: The 35th International Conference on Infrared, Millimeter and THz Waves (IRMMW-THz 2010)
  • 発表場所: Rome, Italy
  • 年月日: 2010-09-05
• [学会発表] Plasma surface interactions in material processing (2010)
  • 著者名/発表者名: Satoshi Hamaguchi
  • 学会等名: The 25th Summer School and International Symposium on the Physics of Ionized Gases (SPIG 2010)
  • 発表場所: Donji Milanovac, Serbia
  • 年月日: 2010-08-30
• [学会発表] PLASMA SURFACE INTERACTIONS IN MATERIAL PROCESSING (2010)
  • 著者名/発表者名: Satoshi Hamaguchi
  • 学会等名: The 25th Summer School and International Symposium on the Physics of Ionized Gases (SPIG2010)
  • 発表場所: Donji Milanovac, Serbia(invited)
  • 年月日: 2010-08-30
• [学会発表] 次世代磁性体デバイス高精度超微細加工プロセスの開発 (2010)
  • 著者名/発表者名: 伊藤智子
  • 学会等名: STARCフォーラム/シンポジウム2010「アプリを拡大する設計技術と半導体の未来」
  • 発表場所: 新横浜国際ホテル、横浜市
  • 年月日: 2010-08-26
• [学会発表] 低エネルギーイオンビームを用いたポリマーのエッチングとその表面分析 (2010)
  • 著者名/発表者名: 塚崎泰裕
  • 学会等名: 第5回三大学(東京理科大・筑波大・大阪大)連携学生研究会「アトミック/ポリスケールテクノロジー連携研究会」
  • 発表場所: 東京理科大学・長万部キャンパス,北海道長万部
  • 年月日: 2010-08-26
• [学会発表] 質量分離イオンビームを用いた反応性イオンによる磁性体膜エッチング反応の評価 (2010)
  • 著者名/発表者名: 唐橋一浩
  • 学会等名: 第30回スピンエレクトロニクス専門研究会:スピントロニクスデバイスを支えるプラズマ技術
  • 発表場所: 東京都千代田区 化学会館(招待講演)
  • 年月日: 2010-07-09
• [学会発表] 低温大気圧プラズマを用いる汎用高分子基板上へのバイオ界面の構築 (2010)
  • 著者名/発表者名: 金山直樹
  • 学会等名: 27th International Conference of Photopolymer Science and Technology (ICPST-27)
  • 発表場所: 千葉大学、千葉市
  • 年月日: 2010-06-22
• [学会発表] Molecular dynamics simulation study on sputtering of graphite or amorphous carbon by low-energy hydrogen or its isotope ion beams (2010)
  • 著者名/発表者名: S.Hamaguchi
  • 学会等名: the 37th IEEE International Conference on Plasma Science (ICOPS2010)
  • 発表場所: Norfolk, Virginia, USA
  • 年月日: 2010-06-20
• [学会発表] Dynamics of near-atmospheric-pressure hydrogen plasmas driven by pulsed high voltages (2010)
  • 著者名/発表者名: Satoshi Hamaguchi
  • 学会等名: The 37th IEEE International Conference on Plasma Science (ICOPS2010)
  • 発表場所: Norfolk, Virginia, USA
  • 年月日: 2010-06-20
• [学会発表] Analyses of elementary ion-surface interactions for low-damage plasma etching processes
  • 著者名/発表者名: Satoshi Hamaguchi
  • 学会等名: Korean Physical Society (KPS) 2012 Spring Meeting
  • 発表場所: Daejeon Convention Center, Daejeon, Korea
  • 招待講演
• [学会発表] Numerical analysis of nano-second pulsed discharge near atmospheric pressure
  • 著者名/発表者名: Satoshi Hamaguchi
  • 学会等名: International Workshop “Physics of Microplasmas”
  • 発表場所: Bochum, Germany
  • 招待講演
• [学会発表] Plasma Surface Modification of Artificial Bones for Bone Regeneration
  • 著者名/発表者名: Satoshi Hamaguchi
  • 学会等名: 4th International Conference on Plasma Medicine
  • 発表場所: Oreleans, France
• [学会発表] Cell proliferation enhanced by atmospheric-pressure plasma application for cells of interest in orthopedics
  • 著者名/発表者名: Satoshi Hamaguchi
  • 学会等名: 4th International Conference on Plasma Medicine
  • 発表場所: Oreleans, France
• [学会発表] Numerical Simulation of Reactive Species in Liquids in Contact with Atmospheric Pressure Plasmas
  • 著者名/発表者名: Tatsuya Kanazawa
  • 学会等名: 4th International Conference on Plasma Medicine
  • 発表場所: oreleans, France
• [学会発表] Analyses of plasma-surface interactions by numerical simulations and multi-beam experiments
  • 著者名/発表者名: Satoshi Hamaguchi
  • 学会等名: 4th International Conference on Microelectronics and Plasma Technology 2012 (ICMAP2012)
  • 発表場所: Jeju, Korea
  • 招待講演
• [学会発表] Oxidization of Nitric Oxide by Atmospheric Plasmas Generated by a Radio-Frequency (RF) driven High Q-factor Resonator
  • 著者名/発表者名: Takayoshi Yumii
  • 学会等名: 4th International Conference on Microelectronics and Plasma Technology 2012 (ICMAP2012)
  • 発表場所: Jeju, Korea
• [学会発表] Plasma treatment of artificial bones
  • 著者名/発表者名: Satoshi Hamaguchi
  • 学会等名: 2nd International Symposium for Plasma Biosciences (SPB2012)
  • 発表場所: Seoul, Korea
  • 招待講演
• [学会発表] Chemically reactive species in liquids generated by atmospheric-pressure plasmas and their roles in plasma medicine
  • 著者名/発表者名: Satoshi Hamaguchi
  • 学会等名: 8th International Conference on Atomic and Molecular Data and Their Applications (ICAMDATA-8)
  • 発表場所: National Institute of Standards and Technology (NIST), Gaithersburg, MD, USA
  • 招待講演
• [学会発表] Study on plasma-surface interaction in LIA336
  • 著者名/発表者名: Satoshi Hamaguchi
  • 学会等名: CNRS-LIA336 Workshop
  • 発表場所: Kyushu University, Hakozaki Campus, Japan
  • 招待講演
• [学会発表] Ion-bombardment-induced diffusion and drift of impurity atoms in solids
  • 著者名/発表者名: Satoshi Hamaguchi
  • 学会等名: IUMRS (International Union of Materials Research Societies)-International Conference on Electronic Materials (IUMRS-ICEM 2012)
  • 発表場所: Yokohama, Japan
  • 招待講演
• [学会発表] Ion beam studies on plasma-surface interactions SRC
  • 著者名/発表者名: Satoshi Hamaguchi
  • 学会等名: Semiconductor Research Corporation (SRC) NMS (Nanomanufacturing Sciences) Patterning Annual Review
  • 発表場所: Chicago, Il, USA
• [学会発表] Plasma Biomedicine in Orthopedics
  • 著者名/発表者名: Satoshi Hamaguchi
  • 学会等名: Workshop on Plasma Biomedicine, 65th Annual Gaseous Electronics Conference
  • 発表場所: Austin, TX, USA
  • 招待講演
• [学会発表] Low energy metal iom beam injection to SiO2 thin films for development of novel catalysts
  • 著者名/発表者名: S. Yoshimura
  • 学会等名: 25th International Conference on Atomic Collisions in Solids (ICACS-25), (21-25 October, 2012) & 8th International Symposium on Swift Heavy Ions in Matter (SHIM2012)
  • 発表場所: Kyoto University, Kyoto, Japan
• [学会発表] Roles of hydrogen for hydrofluorocarbon (HFC) plasma etching of silicon nitride (SiN)
  • 著者名/発表者名: Satoshi Hamaguchi
  • 学会等名: American Vacuum Society (AVS) 59th International Symposium & Exhibition
  • 発表場所: Tampa, Fl, USA
• [学会発表] Analysis of target oxidation in reactive sputter deposition processes of silicon dioxide
  • 著者名/発表者名: Kazuhiro Hoshino
  • 学会等名: American Vacuum Society (AVS) 59th International Symposium & Exhibition
  • 発表場所: Tampa, Fl, USA
• [学会発表] Etching reaction of CoFeB by carbon monoxide /methyl alcohol based plasmas
  • 著者名/発表者名: Kazuhiro Karahashi
  • 学会等名: American Vacuum Society (AVS) 59th International Symposium & Exhibition
  • 発表場所: Tampa, Fl, USA
• [学会発表] Molecular Dynamic Simulation of Possible Damage Formation at Vertical Walls of finFET Devices during Plasma Etching Processes
  • 著者名/発表者名: Kohei Mizotani
  • 学会等名: American Vacuum Society (AVS) 59th International Symposium & Exhibition
  • 発表場所: Tampa, Fl, USA
• [学会発表] Reactive etching or deposition properties of silicon halide ions in gate etching processes
  • 著者名/発表者名: Tomoko Ito
  • 学会等名: American Vacuum Society (AVS) 59th International Symposium & Exhibition
  • 発表場所: Tampa, Fl, USA
• [学会発表] Evaluation of sputtering yields of silicon nitride by fluoro/hydrofluorocarbon ions by molecular dynamics (MD) simulations: modeling of thermal relaxation processes for polymer formation
  • 著者名/発表者名: Keita Miyake
  • 学会等名: International Symposium on Dry Process (DPS)
  • 発表場所: U. Tokyo, Tokyo, Japan
• [学会発表] Etching reaction of CoFeB by carbon monoxide /methyl alcohol based plasmas
  • 著者名/発表者名: Kazuhiro Karahashi
  • 学会等名: International Symposium on Dry Process (DPS)
  • 発表場所: U. Tokyo, Tokyo, Japan
• [学会発表] Plasma surface modification of porous hydroxyapatite artificial bones
  • 著者名/発表者名: Yu Moriguchi
  • 学会等名: Orthopaedic Research Society (ORS) 2013 Annual Meeting
  • 発表場所: San Antonio, TX, USA
• [学会発表] プラズマ科学技術の建築分野での活用
  • 著者名/発表者名: 浜口智志
  • 学会等名: 建築研究開発コンソーシアム（CBRD） テクニカルフォーラム
  • 発表場所: 晴海トリトンスクエア、東京都中央区
  • 招待講演
• [学会発表] ハイドロキシアパタイト人工骨に対する低温プラズマ処理
  • 著者名/発表者名: 森口悠
  • 学会等名: 第6回連通多孔体セラミックス学術研究会
  • 発表場所: 京都センチュリーホテル、京都府京都市
• [学会発表] 希ガスイオン照射による水酸化マグネシウムのスパッタ率測定
  • 著者名/発表者名: 幾世和将
  • 学会等名: 第73回応用物理学学術講演会
  • 発表場所: 松山大学、愛媛県松山市
• [学会発表] SiFx+イオン照射によるSi, Si3N4およびSiO2エッチング反応解析
  • 著者名/発表者名: 伊藤智子
  • 学会等名: 第73回応用物理学学術講演会
  • 発表場所: 松山大学、愛媛県松山市
• [学会発表] 大気圧プラズマにより水中に誘起される化学種の反応シミュレーション
  • 著者名/発表者名: 金澤龍也
  • 学会等名: 第73回応用物理学学術講演会
  • 発表場所: 松山大学、愛媛県松山市
• [学会発表] メタノールプラズマ中のイオン照射によるCoFeB エッチング反応 (2)
  • 著者名/発表者名: 唐橋一浩
  • 学会等名: 第73回応用物理学学術講演会
  • 発表場所: 松山大学、愛媛県松山市
• [学会発表] ビーム表面相互作用分子動力学(MD)シミュレーションにおける基板熱緩和過程の解析
  • 著者名/発表者名: 三宅啓太
  • 学会等名: 第73回応用物理学学術講演会
  • 発表場所: 松山大学、愛媛県松山市
• [学会発表] プラズマエッチングにおけるゲートダメージ層形成機構の数値解析
  • 著者名/発表者名: 溝谷浩平
  • 学会等名: 第73回応用物理学学術講演会
  • 発表場所: 松山大学、愛媛県松山市
• [学会発表] Silicon Etching Characteristics by Ions of Desorbed Species (SiClx+)
  • 著者名/発表者名: 李虎
  • 学会等名: 第6回プラズマエレクトロニクスインキュベーションホール
  • 発表場所: 国立中央青少年交流の家、静岡県名御殿場市
• [学会発表] 磁気抵抗メモリ(MRAM)高集積化のための選択性エッチング反応の研究
  • 著者名/発表者名: 村木裕
  • 学会等名: 第6回プラズマエレクトロニクスインキュベーションホール
  • 発表場所: 国立中央青少年交流の家、静岡県名御殿場市
• [学会発表] プラズマエッチングによるFinFET側壁ダメージ層形成機構の数値解析
  • 著者名/発表者名: 溝谷浩平
  • 学会等名: 第6回プラズマエレクトロニクスインキュベーションホール
  • 発表場所: 国立中央青少年交流の家、静岡県名御殿場市
• [学会発表] 低圧酸素プラズマを用いた人工骨表面処理
  • 著者名/発表者名: 斉宮大
  • 学会等名: 第6回プラズマエレクトロニクスインキュベーションホール
  • 発表場所: 国立中央青少年交流の家、静岡県名御殿場市
• [学会発表] プラズマ技術の紹介と現況
  • 著者名/発表者名: 浜口智志
  • 学会等名: 建築研究開発コンソーシアム(CBRD) プラズマの建築利用研究会第一回研究会
  • 発表場所: 晴海区民館、東京都中央区
• [学会発表] 低エネルギーイオンビーム照射によるPMMAエッチングイールドへの紫外線照射および水素プラズマ暴露の影響
  • 著者名/発表者名: 吉村智
  • 学会等名: 第53回真空に関する連合講演会
  • 発表場所: 甲南大学ポートアイランドキャンパス
• [学会発表] プラズマ医療研究の最前線」
  • 著者名/発表者名: 浜口智志
  • 学会等名: プラズマ・核融合学会第29回年会
  • 発表場所: クローバープラザ 福岡県春日市
  • 招待講演
• [学会発表] 量子カスケードレーザーを用いた大気圧RFプラズマリアクター内の赤外吸収分光計測
  • 著者名/発表者名: 弓井孝佳
  • 学会等名: プラズマ・核融合学会第29回年会
  • 発表場所: クローバープラザ 福岡県春日市
• [学会発表] 大気圧放電に接する液中に生成される活性酸素・活性窒素
  • 著者名/発表者名: 浜口智志
  • 学会等名: 2012年度原子分子データ応用フォーラムセミナー：高Zプラズマの原子過程と、酸素分子が関係する原子分子過程とその応用
  • 発表場所: 核融合科学研究所 岐阜県土岐市
  • 招待講演
• [学会発表] 大気圧・液中プラズマ照射によるバイオ・ナノプロセス
  • 著者名/発表者名: 浜口智志
  • 学会等名: 応用物理理学会励起ナノプロセス研究会主催第８回励起ナノプロセス研究会
  • 発表場所: 大阪大学中之島センター 大阪市北区
  • 招待講演
• [学会発表] 大気圧プラズマにより誘起される水中における活性酸素・活性窒素種の生成
  • 著者名/発表者名: 金澤龍也
  • 学会等名: 第30回プラズマプロセシング研究会
  • 発表場所: アクトシティ―浜松 静岡県浜松市
• [学会発表] ゲートエッチングプロセスにおけるハロゲン化シリコンイオン(SiFx+, SiClx+ )による表面反応
  • 著者名/発表者名: 伊藤智子
  • 学会等名: 第30回プラズマプロセシング研究会
  • 発表場所: アクトシティ―浜松 静岡県浜松市
• [学会発表] プラズマエッチングにおけるナノメートル表面層反応機構の解明
  • 著者名/発表者名: 伊藤智子
  • 学会等名: 第１５６回 応用物理学会シリコンテクノロジー分科会研究会：「プラズマプロセスの最前線」
  • 発表場所: 東京大学本郷キャンパス、東京都文京区
  • 招待講演
• [学会発表] Numerical Analysis of Damage Formation in Vertical-Walls Gate Etching Processes
  • 著者名/発表者名: Kohei Mizotani
  • 学会等名: 5th International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications for Nitrides and Nanomaterials (ISPlasma2013)
  • 発表場所: 名古屋大学、 愛知県名古屋市
• [学会発表] 低エネルギーインジウム照射SiO2の触媒効果の基板温度依存性
  • 著者名/発表者名: 吉村智
  • 学会等名: 第60回応用物理学会春季学術講演会
  • 発表場所: 神奈川工科大学 神奈川県厚木市
• [学会発表] ハイドロフルオロカーボン（HFC）プラズマによるSiNエッチングにおける表面ポリマー形成過程の解析
  • 著者名/発表者名: 三宅啓太
  • 学会等名: 第60回応用物理学会春季学術講演会
  • 発表場所: 神奈川工科大学 神奈川県厚木市
• [学会発表] 酸素ガスクラスタービーム照射によるシリコン表面酸化プロセスの分子動力学シミュレーション
  • 著者名/発表者名: 溝谷浩平
  • 学会等名: 第60回応用物理学会春季学術講演会
  • 発表場所: 神奈川工科大学 神奈川県厚木市
• [学会発表] Taマスクの形状制御のための斜め入射イオンによるスパッタリング解析
  • 著者名/発表者名: 李虎
  • 学会等名: 第60回応用物理学会春季学術講演会
  • 発表場所: 神奈川工科大学 神奈川県厚木市
• [学会発表] 磁性体エッチングプロセスにおけるN+イオン照射効果
  • 著者名/発表者名: 村木裕
  • 学会等名: 第60回応用物理学会春季学術講演会
  • 発表場所: 神奈川工科大学 神奈川県厚木市
• [学会発表] 浜口智志 プラズマ・ラジカルの物理とその医療応用
  • 著者名/発表者名: 浜口智志
  • 学会等名: 日本物理学会第６８回年次大会
  • 発表場所: 広島大学東広島キャンパス 広島県東広島市
  • 招待講演
• [図書] プラズマ原子分子過程ハンドブック (2011)
  • 著者名/発表者名: 浜口智志、村上 泉、加藤太治
  • 総ページ数: 394
  • 出版者: 大阪大学出版会
• [図書] プラズマ原子分子過程ハンドブック (2011)
  • 著者名/発表者名: 浜口智志、村上泉、加藤太治
  • 総ページ数: 394
  • 出版者: 大阪大学出版会
• [備考]
  • URL: http://www.camt.eng.osaka-u.ac.jp/hamaguchi/
• [備考]
  • URL: http://www.camt.eng.osaka-u.ac.jp/hamaguchi/
• [備考]
  • URL: http://www.camt.eng.osaka-u.ac.jp/hamaguchi/
• [産業財産権] バイオセラミックスを含む人工骨の改質方法と、その方法で改質された人工骨 (2012)
  • 発明者名: 浜口智志 吉川秀樹 他
  • 権利者名: 大阪大学
  • 産業財産権番号: 2012-085854
  • 出願年月日: 2012-04-04
• [産業財産権] バイオセラミックスを含む人工骨の改質方法と、その方法で改質された人工骨 (2012)
  • 発明者名: 浜口智志 吉川秀樹 他
  • 権利者名: 浜口智志 吉川秀樹 他
  • 産業財産権種類: 特許
  • 産業財産権番号: 2012-085854
  • 出願年月日: 2012-04-04
• [産業財産権] 人工骨、人工骨製造装置及び人工骨製造方法 (2011)
  • 発明者名: 浜口智志 吉川秀樹 他、
  • 権利者名: 大阪大学
  • 出願年月日: 2011-09-16
  • 外国
• [産業財産権] 人工骨、人工骨製造装置及び人工骨製造方法 (2011)
  • 発明者名: 浜口智志、森口悠、増田一仁、岡田潔、名井陽、吉川秀樹、李大成
  • 権利者名: 国立大学法人大阪大学
  • 出願年月日: 2011-09-16
  • 外国
• [産業財産権] 人工骨、人工骨製造装置及び人工骨製造方法 (2010)
  • 発明者名: 浜口智志、森口悠、増田一仁、岡田潔、名井陽、吉川秀樹
  • 権利者名: 国立大学法人大阪大学
  • 産業財産権番号: 2010-207645
  • 出願年月日: 2010-09-16