電界促進効果による超薄膜拡散バリア層の形成機構

• 研究課題/領域番号: 22246086
• 研究種目: 基盤研究(A)
• 配分区分: 補助金
• 応募区分: 一般
• 研究分野: 構造・機能材料
• 研究機関: 東北大学
• 研究代表者: 小池 淳一 東北大学, 工学(系)研究科(研究院), 教授 (10261588)
• 研究期間 (年度): 2010
• 研究課題ステータス: 完了 (2010年度)
• 配分額: 20,800千円 (直接経費: 16,000千円、間接経費: 4,800千円); 2010年度: 20,800千円 (直接経費: 16,000千円、間接経費: 4,800千円)