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量子ビーム複合利用によるナノ空間反応および反応場の研究

研究課題

研究課題/領域番号 22246128
研究種目

基盤研究(A)

配分区分補助金
応募区分一般
研究分野 原子力学
研究機関大阪大学

研究代表者

古澤 孝弘  大阪大学, 産業科学研究所, 教授 (20251374)

研究分担者 楊 金峰  大阪大学, 産業科学研究所, 准教授 (90362631)
小林 一雄  大阪大学, 産業科学研究所, 助教 (30116032)
山本 洋揮  大阪大学, 産業科学研究所, 助教 (00516958)
研究期間 (年度) 2010 – 2012
研究課題ステータス 完了 (2012年度)
配分額 *注記
34,320千円 (直接経費: 26,400千円、間接経費: 7,920千円)
2012年度: 6,370千円 (直接経費: 4,900千円、間接経費: 1,470千円)
2011年度: 13,260千円 (直接経費: 10,200千円、間接経費: 3,060千円)
2010年度: 14,690千円 (直接経費: 11,300千円、間接経費: 3,390千円)
キーワード放射線 / X 線 / 粒子線 / 半導体超微細化 / シミュレーション工学 / 計算物理 / 放射線、X線、粒子線
研究概要

半導体量産ラインでは、集束性の高い高品質のエネルギーである量子ビームと低質・安価な熱エネルギーを組み合わせることにより、高解像度かつ高感度な加工が実現されてきた。本研究では電子線、レーザー、極端紫外光(EUV)、X 線等の量子ビームを加工手段かつ分析手段として最大限活用することにより、量子ビームをトリガーとして開始され、16nm 以下の領域において完結させる必要がある化学反応および反応場の詳細を解析し、得られた知見をもとにモンテカルロシミュレーションコードを開発した。

報告書

(4件)
  • 2012 実績報告書   研究成果報告書 ( PDF )
  • 2011 実績報告書
  • 2010 実績報告書
  • 研究成果

    (27件)

すべて 2013 2012 2011 2010 その他

すべて 雑誌論文 (20件) (うち査読あり 20件) 学会発表 (6件) 備考 (1件)

  • [雑誌論文] Chemical Gradient of Contact Hole Latent Image Created in Chemically Amplified ExtremeUltraviolet Resists2013

    • 著者名/発表者名
      T. Kozawa and T. Hirayama
    • 雑誌名

      Jpn. J. Appl. Phys

      巻: 52巻 号: 4R ページ: 46502-46502

    • DOI

      10.7567/jjap.52.046502

    • 関連する報告書
      2012 実績報告書 2012 研究成果報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Electron and Hole Transfer in Anion-Bound Chemically Amplified Resists Used in ExtremeUltraviolet Lithography2013

    • 著者名/発表者名
      Y. Komuro, H. Yamamoto, Y. Utsumi, K. Ohomori, and T. Kozawa
    • 雑誌名

      Appl. Phys. Express

      巻: 6巻 号: 1 ページ: 14001-14001

    • DOI

      10.7567/apex.6.014001

    • 関連する報告書
      2012 実績報告書 2012 研究成果報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Theoretical Study on Acid Diffusion Length in Chemically Amplified Resists Used for Extreme Ultraviolet Lithography2013

    • 著者名/発表者名
      T. Kozawa
    • 雑誌名

      Jpn. J. Appl. Phys

      巻: 52巻 号: 1R ページ: 16501-16501

    • DOI

      10.7567/jjap.52.016501

    • NAID

      210000141741

    • 関連する報告書
      2012 実績報告書 2012 研究成果報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Effect of Molecular Weight and Protection Ratio on Latent Image Fluctuation of Chemically Amplified ExtremeUltraviolet Resists2012

    • 著者名/発表者名
      T. Kozawa
    • 雑誌名

      Jpn. J. Appl. Phys

      巻: 51巻 号: 12R ページ: 126501-126501

    • DOI

      10.1143/jjap.51.126501

    • 関連する報告書
      2012 実績報告書 2012 研究成果報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Stochastic Effect of Acid Catalytic Chain Reaction in Chemically Amplified Extreme Ultraviolet Resists2012

    • 著者名/発表者名
      T. Kozawa
    • 雑誌名

      Jpn. J. Appl. Phys

      巻: 51巻 号: 11R ページ: 116503-116503

    • DOI

      10.1143/jjap.51.116503

    • NAID

      40019496245

    • 関連する報告書
      2012 実績報告書 2012 研究成果報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Resist Properties Required for 6.67nm Extreme Ultraviolet Lithography2012

    • 著者名/発表者名
      T. Kozawa and A. Erdmann
    • 雑誌名

      Jpn. J. Appl. Phys

      巻: 51巻 号: 10R ページ: 106701-106701

    • DOI

      10.1143/jjap.51.106701

    • NAID

      40019456428

    • 関連する報告書
      2012 実績報告書 2012 研究成果報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Effect of Ultrahigh-Density Ionization of Resist Films on Sensitivity Using Extreme-Ultraviolet Free-Electron Laser2012

    • 著者名/発表者名
      K. Okamoto, T. Kozawa, K. Oikawa, T. Hatsui, M. Nagasono, T. Kameshima, T. Togashi, K. Tono, M. Yabashi, H. Kimura, Y. Senba, H. Ohashi, R. Fujiyoshi, and T. Sumiyoshi
    • 雑誌名

      Appl. Phys. Express

      巻: 5巻 号: 9 ページ: 96701-96701

    • DOI

      10.1143/apex.5.096701

    • NAID

      40019425422

    • 関連する報告書
      2012 実績報告書 2012 研究成果報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Relationship between Absorption Coefficient and Line Edge Roughness of Chemically Amplified Resists Used for Extreme Ultraviolet Lithography2012

    • 著者名/発表者名
      T. Kozawa
    • 雑誌名

      J. Photopolym. Sci. Technol

      巻: 25巻 ページ: 625-631

    • NAID

      130004833489

    • 関連する報告書
      2012 研究成果報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Relationship between Stochastic Effect and Line Edge Roughness in Chemically Amplified Resists for Extreme Ultraviolet Lithography Studied by Monte Carlo Simulation2012

    • 著者名/発表者名
      T. Kozawa
    • 雑誌名

      Jpn. J. Appl. Phys

      巻: 51巻 号: 8R ページ: 86504-86504

    • DOI

      10.1143/jjap.51.086504

    • NAID

      40019395627

    • 関連する報告書
      2012 実績報告書 2012 研究成果報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Lower Limit of Line Edge Roughness in High-Dose Exposure of Chemically Amplified Extreme Ultraviolet Resists2012

    • 著者名/発表者名
      T. Kozawa
    • 雑誌名

      Jpn. J. Appl. Phys

      巻: 51巻 号: 6S ページ: 06FC01-06FC01

    • DOI

      10.1143/jjap.51.06fc01

    • NAID

      210000140711

    • 関連する報告書
      2012 実績報告書 2012 研究成果報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Relationship between Absorption Coefficient and Line Edge Roughness of Chemically Amplified Resists Used for Extreme Ultraviolet Lithography2012

    • 著者名/発表者名
      T. Kozawa
    • 雑誌名

      J. Photopolym. Sci. Technol.

      巻: 25 ページ: 625-631

    • NAID

      130004833489

    • 関連する報告書
      2012 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Effect of Acid Generator Decomposition during Exposure on Acid Image Quality of Chemically Amplified Extreme Ultraviolet Resists2011

    • 著者名/発表者名
      T. Kozawa and S. Tagawa
    • 雑誌名

      Jpn. J. Appl. Phys

      巻: 50巻 号: 7R ページ: 76505-76505

    • DOI

      10.1143/jjap.50.076505

    • NAID

      40018915999

    • 関連する報告書
      2012 研究成果報告書 2011 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Assessment and Extendibility of Chemically Amplified Resists for Extreme Ultraviolet Lithography: Consideration of Nanolithography beyond 22nm Half-Pitch2011

    • 著者名/発表者名
      T. Kozawa, H. Oizumi, T. Itani, and S. Tagawa
    • 雑誌名

      Jpn. J. Appl. Phys

      巻: 50巻 号: 7R ページ: 76503-76503

    • DOI

      10.1143/jjap.50.076503

    • NAID

      40018915997

    • 関連する報告書
      2012 研究成果報告書 2011 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Analysis of Dose-Pitch Matrices of Line Width and Edge Roughness of Chemically Amplified Fullerene Resist2011

    • 著者名/発表者名
      T. Kozawa, H. Oizumi, T. Itani, and S. Tagawa
    • 雑誌名

      Jpn. J. Appl. Phys

      巻: 50巻 号: 12R ページ: 126501-126501

    • DOI

      10.1143/jjap.50.126501

    • NAID

      40019141217

    • 関連する報告書
      2012 研究成果報告書 2011 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Diffusion Control Using Matrix Change during Chemical Reaction for Inducing Anisotropic Diffusion in Chemically Amplified Resists2010

    • 著者名/発表者名
      T. Kozawa, H. Oizumi, T. Itani, and S. Tagawa
    • 雑誌名

      Jpn. J. Appl. Phys

      巻: 49巻 号: 3R ページ: 36506-36506

    • DOI

      10.1143/jjap.49.036506

    • NAID

      40017033747

    • 関連する報告書
      2012 研究成果報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Reconstruction of Latent Images from Dose-Pitch Matrices of Line Width and Edge Roughness of Chemically Amplified Resist for Extreme Ultraviolet Lithography2010

    • 著者名/発表者名
      T. Kozawa, H. Oizumi, T. Itani, and S. Tagawa
    • 雑誌名

      Jpn. J. Appl. Phys

      巻: 49巻 号: 6R ページ: 66504-66504

    • DOI

      10.1143/jjap.49.066504

    • NAID

      40017176043

    • 関連する報告書
      2012 研究成果報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Dynamics of Radical Cation of Poly(4-hydroxystyrene)-Based Chemically Amplified Resists for Extreme-Ultraviolet and Electron Beam Lithographies2010

    • 著者名/発表者名
      K. Okamoto, M. Tanaka, T. Kozawa, and S. Tagawa
    • 雑誌名

      Jpn. J. Appl. Phys.

      巻: 49巻 号: 10R ページ: 106501-106501

    • DOI

      10.1143/jjap.49.106501

    • NAID

      40017341248

    • 関連する報告書
      2012 研究成果報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Diffusion Control Using Matrix Change during Chemical Reaction for Inducing Anisotropic Diffusion in Chemically Amplified Resists2010

    • 著者名/発表者名
      T.Kozawa, H.Oizumi, T.Itani, S.Tagawa
    • 雑誌名

      Jpn.J.Appl.Phys.

      巻: 49 ページ: 36506-36506

    • NAID

      40017033747

    • 関連する報告書
      2010 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Reconstruction of Latent Images from Dose-Pitch Matrices of Line Width and Edge Roughness of Chemically Amplified Resist for Extreme Ultraviolet Lithography2010

    • 著者名/発表者名
      T.Kozawa, H.Oizumi, T.Itani, S.Tagawa
    • 雑誌名

      Jpn.J.Appl.Phys.

      巻: 49 ページ: 66504-66504

    • NAID

      40017176043

    • 関連する報告書
      2010 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Dynamics of Radical Cation of Poly(4-hydroxystyrene)-Based Chemically Amplified Resists for Extreme-Ultraviolet and Electron Beam Lithographies2010

    • 著者名/発表者名
      K.Okamoto, M.Tanaka, T.Kozawa, S.Tagawa
    • 雑誌名

      Jpn.J.Appl.Phys.

      巻: 49 ページ: 106501-106501

    • NAID

      40017341248

    • 関連する報告書
      2010 実績報告書
    • 査読あり
  • [学会発表] Resist properties required for 6.67 nm extreme ultraviolet lithography2012

    • 著者名/発表者名
      T. Kozawa
    • 学会等名
      10th Fraunhofer IISB Lithography Simulation Workshop
    • 発表場所
      Hersbruck, Germany
    • 年月日
      2012-09-21
    • 関連する報告書
      2012 実績報告書 2012 研究成果報告書
  • [学会発表] Status and Challenge of Chemically Amplified Resists for Extreme Ultraviolet Lithography2012

    • 著者名/発表者名
      T. Kozawa
    • 学会等名
      2012 International Workshop on EUVL
    • 発表場所
      Maui, Hawaii, USA
    • 年月日
      2012-06-06
    • 関連する報告書
      2012 実績報告書 2012 研究成果報告書
  • [学会発表] Theoretical study of 11-nm-fabrication using 6.67-nm EUV lithography2011

    • 著者名/発表者名
      T. Kozawa, and A. Erdmann
    • 学会等名
      9th Fraunhofer IISB Lithography Simulation Workshop
    • 発表場所
      Hersbruck, Germany
    • 年月日
      2011-09-16
    • 関連する報告書
      2012 研究成果報告書
  • [学会発表] Theoretical study of 11-nm-fabrication using 6.67-nm EUV lithography2011

    • 著者名/発表者名
      T.Kozawa, A.Erdmann
    • 学会等名
      9TH Fraunhofer IISB Lithography simulation Workshop
    • 発表場所
      Hersbruck, Germany
    • 年月日
      2011-09-16
    • 関連する報告書
      2011 実績報告書
  • [学会発表] Analysis of Chemical Reactions Induced in Chemically Amplified Extreme Ultraviolet Resists2010

    • 著者名/発表者名
      T. Kozawa, H. Oizumi, T. Itani, and S. Tagawa
    • 学会等名
      European Symposium of Photopolymer Science
    • 発表場所
      Mulhouse, France
    • 年月日
      2010-11-30
    • 関連する報告書
      2012 研究成果報告書
  • [学会発表] Analysis of Chemical Reactions Induced in Chemically Amplified Extreme Ultraviolet Resists2010

    • 著者名/発表者名
      T.Kozawa, H.Oizumi, T.Itani, S.Tagawa
    • 学会等名
      European Symposium of Photopolymer Science
    • 発表場所
      Mulhouse(France)
    • 年月日
      2010-11-30
    • 関連する報告書
      2010 実績報告書
  • [備考]

    • URL

      http://www.sanken.osaka-u.ac.jp/labs/bms/

    • 関連する報告書
      2012 研究成果報告書

URL: 

公開日: 2010-08-23   更新日: 2019-07-29  

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